專利名稱：光學(xué)記錄介質(zhì)及在光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)記錄介質(zhì)，特別是涉及一種可以光學(xué)讀取頭構(gòu)圖光學(xué)記錄介質(zhì)的標簽層的光學(xué)記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
由于光碟片具有攜帶方便、低價及非接觸式讀取等好處，因此已經(jīng)廣泛使用在數(shù)據(jù)儲存及多媒體應(yīng)用等方面。近年來，為適應(yīng)未來數(shù)字時代與多媒體系統(tǒng)的需求，增加光碟儲存介質(zhì)的容量已經(jīng)成為一個相當(dāng)重要的課題。
通常光碟片的標簽面(激光入射的另一面)為可讓使用者書寫的區(qū)域，一般來說，標簽面可使用馬克筆書寫于其上，為了讓標面書寫的數(shù)據(jù)讓使用者可清楚的判讀，一般可用印表機在標簽面印上文字、圖形等信息?，F(xiàn)今，為了方便及減少印表機的支出，已發(fā)展出技術(shù)利用光碟機內(nèi)部的光學(xué)讀取頭(optical pick-up unit，以下可簡稱OPU)在標簽面上刻畫出文字或圖案，而可方便使用者使用，及增加文圖的美觀。
為了達到上述的需求，光碟片上的標簽面采用可利用光強度或是溫度變化改變其外觀的材料，如此以利用光碟機中的激光聚焦于其上，來改變標簽面的光學(xué)或是物理特性，以達到可以光碟讀取頭書寫的目的。然而，現(xiàn)有技術(shù)在標簽面上沒有溝(grove)或軌(land)等物理結(jié)構(gòu)，因此在標簽面書寫圖文數(shù)據(jù)時，光碟讀取頭在聚焦(focusing)以及尋軌(tracking)無法采用封閉回路(close loop)，因此需要存儲器的輔助，從而完成標簽面圖文的書寫。此外，現(xiàn)有技術(shù)光碟讀取頭相對于碟片的精確的位置并非由光碟讀取頭反射回的讀取信號而來計算，而是使用光碟讀取頭移動的距離來計算，如此會使得書寫圖文的速度受到限制。

發(fā)明內(nèi)容
因此，根據(jù)上述的問題，有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種新的光碟片結(jié)構(gòu)，來讓光碟讀取頭在標簽層書寫圖文數(shù)據(jù)時，能即時獲得位置信息，精確及快速的書寫上文字及圖形等數(shù)據(jù)。
本發(fā)明提供一種光學(xué)記錄介質(zhì)。基板的一面包括記錄信號。記錄層設(shè)置于基板包括記錄信號的面上。反射層設(shè)置于記錄層上。標簽層設(shè)置于反射層上，其中標簽層表面可于基板的包括記錄信號的一側(cè)檢測出記錄信號。
本發(fā)明提供一種光學(xué)記錄介質(zhì)?；宓囊幻姘ㄓ涗浶盘?。第一介電層設(shè)置于基板包括記錄信號的面上。記錄層設(shè)置于第一介電層上。第二介電層設(shè)置于記錄層上。反射層設(shè)置于第二介電層上。標簽層設(shè)置于反射層上，其中標簽層表面可于基板的包括記錄信號的一側(cè)檢測出記錄信號。
本發(fā)明提供一種光學(xué)記錄介質(zhì)?；宓囊幻姘ㄓ涗浶盘枴Ｓ涗泴釉O(shè)置于基板包括記錄信號的面上。反射層設(shè)置于記錄層上。標簽層設(shè)置于反射層上或上方，其中標簽層的厚度約介于30nm～500nm。
本發(fā)明提供一種以光學(xué)讀取頭在光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文的方法。首先，提供一面包括記錄信號的基板，且標簽層設(shè)置于基板上，其中標簽層表面可于基板的包括記錄信號的一側(cè)檢測出記錄信號。其后，將光學(xué)讀取頭根據(jù)光記錄介質(zhì)的標簽面上的記錄信號尋軌(tracking)，而在光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文。


圖1繪示本發(fā)明的實施例可錄一次式光碟CD-R的剖面示意圖。
圖2繪示本發(fā)明的實施例可錄一次式數(shù)字光碟DVD-R或DVD+R的剖面示意圖。
圖3繪示本發(fā)明的實施例可復(fù)寫光碟CD-RW的剖面示意圖。
圖4繪示本發(fā)明的實施例可復(fù)寫數(shù)字光碟DVD-RW或DVD+RW的剖面示意圖。
附圖標記說明100～基板； 102～溝；104～軌；106～記錄層；108～反射層；110～標簽層；112～保護層；200～基板；202～記錄層；204～反射層；206～標簽層；208～粘合層；
210～蓋板； 300～基板；302～第一介電層；304～記錄層；306～第二介電層；308～反射層；310～標簽層；312～保護層；400～基板； 402～第一介電層；404～記錄層；406～第二介電層；408～反射層；410～標簽層；412～粘合層；414～蓋板。
具體實施例方式
以下將以可錄一次式光碟CD-R為范例，說明本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)標簽面圖形產(chǎn)生的定址方式，但本發(fā)明不限于此，其可應(yīng)用在任何具有標簽面的光記錄介質(zhì)。圖1繪示本發(fā)明的實施例可錄一次式光碟CD-R的剖面示意圖，其中各層的厚度僅供參考，并不代表實際厚度或比例。請參照圖1，首先，提供一單面具有記錄信號的基板100。此基板100可以是高分子基板，其優(yōu)選的組成材料為聚碳酸酯(Polycarbonate)或聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)，而其可以是以射出成形法通過具有記錄信號的母模(stamper)而形成。螺旋溝軌預(yù)先刻置在母模上，然后利用射出成型法大量制造具有螺旋溝軌的基板100。在本發(fā)明的優(yōu)選范例中，記錄信號可以是多個溝102(groove)和軌104(land)所組成?；?00的厚度優(yōu)選為約1.2mm。在本發(fā)明的更好范例中，溝102的深度約大于240nm，溝的間距(track pitch)可約大于1.6μm，以使在后續(xù)形成的標簽面之后，可在標簽面辨識出信號。
接著，在基板100上形成記錄層106，此記錄層106可以為例如由有機染料組成，優(yōu)選為以旋轉(zhuǎn)涂布法將液態(tài)的有機染料涂布在基板100上以形成記錄層106。記錄層106厚度優(yōu)選控制在50nm～150nm。其后，以例如濺鍍方法，在記錄層106上形成反射層108。此反射層108需使用較高反射數(shù)的材料，例如銀、鋁或是金。以銀金屬做為反射層的材料為例，反射層108的厚度優(yōu)選控制在10nm～100nm。
后續(xù)，在反射層108上形成標簽層110。此標簽層110為可利用光強度或是溫度的變化改變其光學(xué)、物理特性或是外觀的材料所組成，以達到可以光碟讀取頭書寫的目的。在一實施例中，標簽層110可以是熱變色染料(例如crystal violet lactone)、或是相變化材料。標簽層110可以通過旋轉(zhuǎn)涂布、真空濺鍍或是蒸鍍等方式制作。須注意的是，基板110溝軌深寬，以及其上所形成的層(記錄層106、反射層108和標簽層110)的厚度調(diào)整必須能從標簽面檢測出溝軌的形狀，以利光碟機的光學(xué)讀取頭進行圖文書寫時能解出擺動信號(wobble signal)，做為尋軌和定址之用。如此便可在標簽面上，利用光碟的光學(xué)讀取頭光碟讀取頭書寫上人眼可分辨的圖文或符號。因此，標簽層110不可以太厚，在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，標簽層110可介于約30nm～500nm。。
其后，以例如旋轉(zhuǎn)涂布法在標簽層110上涂布例如樹脂的保護層112，以提供保護，如此完成本發(fā)明此實施例可錄一次式光碟CD-R的制作。
此外，本發(fā)明并不限定于可記錄一次光碟，其也可應(yīng)用于可記錄一次數(shù)字光碟DVD。圖2繪示本發(fā)明的實施例可錄一次式數(shù)字光碟DVD-R或DVD+R的剖面示意圖，其中各層的厚度僅供參考，并不代表實際厚度或比例。請參照圖2，首先，提供一單面具有記錄信號的基板200。此基板200可以是高分子基板，其優(yōu)選的組成材料為聚碳酸酯(Polycarbonate)或聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)，而其可以是以射出成形法通過具有記錄信號的母模(stamper)而形成。螺旋溝軌預(yù)先刻置在母模上，然后利用射出成型法大量制造具有螺旋溝軌的基板200。在本發(fā)明的一優(yōu)選范例中，記錄信號可以是多個溝(groove)和軌(land)所組成?；?00的厚度優(yōu)選為約0.6～1.2mm。
接著，在基板200上形成記錄層202，此記錄層202可以為例如由有機染料組成，優(yōu)選為以旋轉(zhuǎn)涂布法將液態(tài)的有機染料涂布在基板200上以形成記錄層202。其后，以例如濺鍍方法，在記錄層202上形成反射層204。此反射層204需使用較高反射率的材料，例如銀、鋁或是金。以銀金屬做為反射層的材料為例，反射層108的厚度優(yōu)選控制在10nm～150nm。
后續(xù)，在反射層204上形成標簽層206。此標簽層206為可利用光強度或是溫度的變化改變其光學(xué)、物理特性或是外觀的材料所組成，以達到可以光碟讀取頭書寫的目的。須注意的是，基板200溝軌深寬，以及其上所形成的層(記錄層202、反射層204和標簽層206)的厚度調(diào)整必須能從標簽面檢測出溝軌的形狀，以利以光碟讀取頭進行圖文書寫時能解出擺動信號(wobblesignal)，做為尋軌和定址之用，如此便可在標簽面利用光碟的光碟讀取頭書寫上人眼可分辨的圖文或符號。
其后，以例如旋轉(zhuǎn)涂布法涂布粘合層208，并將蓋板210經(jīng)由粘合層208粘著于反射層206上。蓋板210的厚度優(yōu)選為0.6mm～0.8mm之間，如此完成本發(fā)明此實施例可記錄一次數(shù)字光碟DVD的制作。
此外，本發(fā)明并不限定于可記錄一次光碟，其亦可應(yīng)用于可復(fù)寫光碟CD-RW。圖3繪示本發(fā)明的實施例的可復(fù)寫光碟CD-RW的剖面示意圖，其中各層的厚度僅供參考，并不代表實際厚度或比例。請參照圖3，首先，提供一單面具有記錄信號的基板300。此基板可以是高分子基板，其優(yōu)選的組成材料為聚碳酸酯(Polycarbonate)或聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)，而其可以是以射出成形法通過具有記錄信號的母模(stamper)而形成。在本發(fā)明的優(yōu)選范例中，記錄信號可以是由多個溝(groove)和軌(land)組成。
其后，在基板300上形成第一介電層302，此第一介電層302可以是由氮化硅、氮化鋁、氧化硅、氧化鉭、硫化鋅、硫化錳、硒化鋅或上述的組合所形成。第一介電層302的厚度可依產(chǎn)品需求而定，一般可介于10nm～200nm。接著，在第一介電層302上形成記錄層304，此記錄層304可以為例如AgInTeSb的相變化材料組成，其優(yōu)選為以濺鍍法形成。
后續(xù)，在記錄層304上形成第二介電層306，此第二介電層306可以是由氮化硅、氮化鋁、氧化硅、氧化鉭、硫化鋅、硫化錳、硒化鋅或上述的組合所形成。第二介電層306的厚度可依產(chǎn)品需求而定，一般可介于10nm～200nm。其后，以例如濺鍍方法，在記錄層上形成反射層308。此反射層308需使用較高反射率的材料，例如銀、鋁或是金。
接著，在反射層上形成標簽層310。此標簽層310為可利用光強度或是溫度的變化改變其光學(xué)、物理特性或是外觀的材料所組成，以達到可以光碟讀取頭書寫的目的。同樣的，基板300溝軌深寬，以及其上所形成的層(第一介電層302、記錄層304、第二介電層306、反射層308和標簽層310)的厚度調(diào)整必須能從標簽面檢測出溝軌的形狀，以利以光碟讀取頭進行圖文書寫時能解出擺動信號(wobble signal)，做為尋軌和定址之用，如此便可在標簽面利用光碟的光碟讀取頭書寫上人眼可分辨的圖文或符號。
其后，以例如旋轉(zhuǎn)涂布法在反射層310上涂布保護層312，如此完成本發(fā)明此實施例可復(fù)寫光碟CD-RW的制作。
此外，本發(fā)明也可應(yīng)用于可復(fù)寫數(shù)字光碟DVD-RW或DVD+RW。圖4繪示本發(fā)明的實施例的可復(fù)寫數(shù)字光碟DVD-RW或DVD+RW的剖面示意圖，其中各層的厚度僅供參考，并不代表實際厚度或比例。請參照圖4，首先，提供一單面具有記錄信號的基板400。此基板400可以是高分子基板，其優(yōu)選的組成材料為聚碳酸酯(Polycarbonate)或聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)。在本發(fā)明的一優(yōu)選范例中，記錄信號可以是由多個溝(groove)和軌(land)所組成。
其后，在基板400上形成第一介電層402，此第一介電層402可以是由氮化硅、氮化鋁、氧化硅、氧化鉭、硫化鋅、硫化錳、硒化鋅或上述的組合所形成。接著，在第一介電層402上形成記錄層404，此記錄層404可以為例如AgInTeSb的相變化材料所組成，其優(yōu)選為以濺鍍法形成。
后續(xù)，在記錄層404上形成第二介電層406，此第二介電層406可以是由氮化硅、氮化鋁、氧化硅、氧化鉭、硫化鋅、硫化錳、硒化鋅或上述的組合所形成。其后，以例如濺鍍方法，在記錄層上形成反射層408。此反射層408需使用較高反射率的材料，例如銀、鋁或是金。接著，在反射層408上形成標簽層410。此標簽層408為可利用光強度或是溫度的變化改變其光學(xué)、物理特性或是外觀的材料所組成，以達到可以光碟讀取頭書寫的目的。
同樣的，基板400溝軌深寬，以及其上所形成的層(第一介電層402、記錄層404、第二介電層406、反射層408和標簽層410)的厚度調(diào)整必須能從標簽面檢測出溝軌的形狀，以利以光碟讀取頭進行圖文書寫時能解出擺動信號(wobble signal)，做為尋軌和定址之用，如此便可在標簽面利用光碟的光碟讀取頭書寫上人眼可分辨的圖文或符號。
其后，以例如旋轉(zhuǎn)涂布法涂布粘合層412，并將蓋板414經(jīng)由粘合層412粘著于反射層410上。蓋板414的厚度優(yōu)選為0.6mm～0.8mm之間，如此完成本發(fā)明的此實施例的可復(fù)寫數(shù)字光碟DVD-RW或DVD+RW的制作。
如此，根據(jù)本發(fā)明的上述實施例，本發(fā)明所提供的光學(xué)記錄介質(zhì)可在標簽面辨識出溝軌或是其它記錄信號，如此光碟機的光碟讀取頭在標簽層書寫圖文數(shù)據(jù)時，能即時獲得位置信息，精確及快速的書寫上文字及圖形等數(shù)據(jù)。
雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當(dāng)視權(quán)利要求所界定者為準。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)記錄介質(zhì)，包括基板，所述基板的一面包括記錄信號；記錄層，設(shè)置于所述基板包括記錄信號的面上；反射層，設(shè)置于所述記錄層上；及標簽層，設(shè)置于所述反射層上，其中所述標簽層表面可檢測出所述記錄信號。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中所述記錄信號包含螺旋狀的溝和軌。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中所述標簽層的厚度大體上介于30nm～500nm。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中所述標簽層為可利用光強度或是溫度的變化改變其光學(xué)、物理特性或是外觀的材料所組成。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，還包括位于所述標簽層上的保護層。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，還包括設(shè)置于所述標簽層上的粘合層及設(shè)置于所述粘合層上的蓋板。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中所述反射層的厚度大體上介于10nm～100nm。
8.一種光學(xué)記錄介質(zhì)，包括基板，所述基板的一面包括記錄信號；第一介電層，設(shè)置于所述基板包括記錄信號的面上；記錄層，設(shè)置于所述第一介電層上；第二介電層，設(shè)置于所述記錄層上；反射層，設(shè)置于所述第二介電層上；及標簽層設(shè)置于所述反射層上，其中所述標簽層表面可檢測出所述記錄信號。
9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中所述記錄信號包含螺旋狀的溝和軌。
10.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中所述標簽層的厚度大體上介于30nm～500nm。
11.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中所述標簽層為可利用光強度或是溫度的變化改變其光學(xué)、物理特性或是外觀的材料所組成。
12.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，還包括位于所述標簽層上的保護層。
13.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，還包括設(shè)置于所述標簽層上的粘合層及設(shè)置于所述粘合層上的蓋板。
14.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中所述反射層的厚度大體上介于10nm～100nm。
15.一種以光學(xué)讀取頭在光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文的方法，包括提供基板，所述基板的一面包括記錄信號，且標簽層設(shè)置于所述基板包括記錄信號的面上，其中所述標簽層表面可檢測出所述記錄信號；及將所述光學(xué)讀取頭根據(jù)所述光記錄介質(zhì)的標簽面上的記錄信號尋軌(tracking)，而在所述光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文。
16.如權(quán)利要求15所述的以光學(xué)讀取頭在光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文的方法，其中所述光學(xué)讀取頭為光碟機的讀取頭。
17.如權(quán)利要求15所述的以光學(xué)讀取頭在光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文的方法，其中所述標簽層為可利用光強度或是溫度的變化改變其光學(xué)、物理特性或是外觀的材料所組成。
18.如權(quán)利要求15所述的以光學(xué)讀取頭在光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文的方法，其中所述標簽層的厚度大體上介于30nm～500nm。
19.如權(quán)利要求15所述的以光學(xué)讀取頭在光記錄介質(zhì)的標簽面上刻畫圖文的方法，其中所述記錄信號包含螺旋狀的溝和軌。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光學(xué)記錄介質(zhì)?；宓囊幻姘ㄓ涗浶盘?。記錄層設(shè)置于基板包括記錄信號的面上。反射層設(shè)置于記錄層上。標簽層設(shè)置于反射層上，其中標簽層表面可于基板的包括記錄信號的一側(cè)檢測出記錄信號。
文檔編號G11B23/40GK101025962SQ200610004130
公開日2007年8月29日 申請日期2006年2月21日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月21日
發(fā)明者吳豐旭 申請人:達信科技股份有限公司