技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種同時表征微納米成像測量儀器多種性能的方法。首先，預(yù)備參考樣塊，該參考樣塊表面具有預(yù)先設(shè)定的三維尺寸的二維非周期編碼光柵結(jié)構(gòu)和漸變節(jié)距的柵線結(jié)構(gòu)；隨后，通過微納米成像測量儀器對該參考樣塊表面進行掃描成像；最后，對掃描成像的結(jié)果進行分析處理，獲得該微納米成像測量儀器隨時間的漂移值、分辨力以及xyz三個坐標(biāo)方向上尺寸測量的校準(zhǔn)系數(shù)。根據(jù)本發(fā)明的上述方法，能夠方便的利用單個參考樣塊上實現(xiàn)對微納米成像測量儀器的分辨力、xyz尺寸測量精度、時間穩(wěn)定性等關(guān)鍵性能的表征和校準(zhǔn)標(biāo)定，并且具有漂移測量范圍大、對比度高、不易受干擾等優(yōu)點。

技術(shù)研發(fā)人員：陳宇航;黃文浩
受保護的技術(shù)使用者：中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)
文檔號碼：201611127233
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.09
技術(shù)公布日：2017.05.31