1.一種測量方法，包括：
通過將第一分光照射到物體來獲取從物體反射的圖案反射光，第一分光通過反射偏振光來產(chǎn)生；
通過將第二分光照射到反射器來獲取從反射器反射的相位受控的鏡面反射光，第二分光通過傳輸所述偏振光來產(chǎn)生；以及
基于圖案反射光與鏡面反射光之間的干涉信號來獲取物體的圖案。
2.如權(quán)利要求1所述的測量方法，其中，鏡面反射光的偏振特性具有與所述偏振光的偏振特性基本上相同的偏振特性。
3.如權(quán)利要求1所述的測量方法，其中，所述干涉信號具有與所述偏振光的偏振特性基本上相同的偏振特性。
4.如權(quán)利要求1所述的測量方法，還包括：從相干光源或非相干光源發(fā)射所述偏振光。
5.如權(quán)利要求1所述的測量方法，
其中，在第一測量模式期間基于具有基本上相同的偏振特性的圖案反射光與鏡面反射光之間的干涉信號來執(zhí)行圖案的獲取，以及
其中，在第二測量模式期間基于具有不同的偏振特性的圖案反射光與鏡面反射光之間的干涉信號來執(zhí)行圖案的獲取。
6.一種測量裝置，包括：
光源，適用于發(fā)射光；
第一偏振器，適用于通過使發(fā)射的光偏振來產(chǎn)生偏振光；
分束器，適用于將所述偏振光劃分為第一分光和第二分光；
第二偏振器，適用于通過使第一分光偏振并將偏振的第一分光照射到物體來產(chǎn)生圖案反射光；
反射器，適用于通過反射第二分光來產(chǎn)生鏡面反射光；
波片，適用于控制鏡面反射光的相位；
檢測器，適用于改變圖案反射光與鏡面反射光之間的干涉信號的偏振特性；以及
圖案獲取器，適用于基于從檢測器輸出的干涉信號來獲取物體的圖案。
7.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其中，光源包括相干光源或非相干光源。
8.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其中，第一偏振器包括具有可變偏振特性的可變偏振器。
9.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其中，分束器反射所述偏振光作為第一分光，而傳輸所述偏振光作為第二分光。
10.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其中，第二偏振器包括徑向偏振器。
11.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其中，波片包括四分之一波片。
12.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其中，波片控制鏡面反射光的相位，使得所述偏振光與鏡面反射光具有彼此基本上相同的偏振特性。
13.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其中，檢測器具有與所述偏振光的偏振特性基本上相同的偏振特性。
14.如權(quán)利要求6所述的測量裝置，其中，檢測器包括具有可變偏振特性的可變偏振器。
15.一種測量系統(tǒng)，包括：
測量裝置，適用于：
通過將第一分光照射到物體來獲取從物體反射的圖案反射光，第一分光通過反射偏振光來產(chǎn)生；
通過將第二分光照射到反射器來獲取從反射器反射的相位受控的鏡面反射光，第二分光通過傳輸所述偏振光來產(chǎn)生；以及
基于圖案反射光與鏡面反射光之間的干涉信號來獲取物體的圖案；
平臺，適用于移動物體；以及
用戶設(shè)備，適用于基于操作參數(shù)來控制測量裝置和平臺以測量物體的圖案。
16.如權(quán)利要求15所述的測量系統(tǒng)，其中，鏡面反射光的偏振特性與所述偏振光的偏振特性基本上相同。
17.如權(quán)利要求15所述的測量系統(tǒng)，其中，測量裝置還從相干光源或非相干光源發(fā)射所述偏振光。
18.如權(quán)利要求15所述的測量系統(tǒng)，
其中，測量裝置在第一測量模式期間基于具有基本上相同的偏振特性的圖案反射光與鏡面反射光之間的干涉信號來獲取物體的圖案，以及
其中，測量裝置在第二測量模式期間基于具有不同的偏振特性的圖案反射光與鏡面反射光之間的干涉信號來獲取物體的圖案。
19.如權(quán)利要求15所述的測量系統(tǒng)，其中，測量裝置包括：
光源，適用于發(fā)射光；
第一偏振器，適用于通過使發(fā)射的光偏振來產(chǎn)生所述偏振光；
分束器，適用于將所述偏振光劃分為第一分光和第二分光；
第二偏振器，適用于通過使第一分光偏振并將偏振的第一分光照射到物體來產(chǎn)生圖案反射光；
反射器，適用于通過反射第二分光來產(chǎn)生鏡面反射光；
波片，適用于控制鏡面反射光的相位；
檢測器，適用于改變圖案反射光與鏡面反射光之間的干涉信號的偏振特性；以及
圖像獲取器，適用于基于從檢測器輸出的干涉信號來獲取物體的圖案。
20.如權(quán)利要求19所述的測量系統(tǒng)，其中，第一偏振器包括具有可變偏振特性的可變偏振器。
21.如權(quán)利要求19所述的測量系統(tǒng)，其中，分束器反射所述偏振光作為第一分光，而傳輸所述偏振光作為第二分光。
22.如權(quán)利要求19所述的測量系統(tǒng)，其中，第二偏振器包括徑向偏振器。
23.如權(quán)利要求19所述的測量系統(tǒng)，其中，波片包括四分之一波片。
24.如權(quán)利要求19所述的測量系統(tǒng)，其中，波片控制鏡面反射光的相位，使得所述偏振光與鏡面反射光具有彼此基本上相同的偏振特性。
25.如權(quán)利要求19所述的測量系統(tǒng)，其中，檢測器具有與所述偏振光的偏振特性基 本上相同的偏振特性。
26.如權(quán)利要求19所述的測量系統(tǒng)，其中，檢測器包括具有可變偏振特性的可變偏振器。
27.如權(quán)利要求19所述的測量系統(tǒng)，其中，操作參數(shù)包括根據(jù)測量模式的第一偏振器的偏振特性、第二偏振器的偏振特性、檢測器的偏振特性、波片的相位延遲和光源的功率。