真空吸附頭、真空吸附裝置以及真空貼合設(shè)備的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種真空吸附頭、真空吸附裝置以及真空貼合設(shè)備，其中，真空吸附頭包括第一平衡板、第二平衡板、用于與板結(jié)構(gòu)件吸附接觸的真空吸附板，所述第二平衡板與所述真空吸附板固定連接，所述第一平衡板和所述第二平衡結(jié)構(gòu)之間通過(guò)用于自適應(yīng)調(diào)整所述真空吸附板傾斜角度的平衡連接件連接。本實(shí)用新型通過(guò)平衡連接件適應(yīng)性地調(diào)整真空吸附板的傾斜角度，使得真空吸附頭能夠準(zhǔn)確地將板結(jié)構(gòu)件貼合至產(chǎn)品的相應(yīng)位置處，從而提高真空吸附頭的貼合精度。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
真空吸附頭、真空吸附裝置以及真空貼合設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本實(shí)用新型屬于貼合領(lǐng)域，尤其涉及一種真空吸附頭、真空吸附裝置以及真空貼 合設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 真空貼合設(shè)備中的真空吸附裝置包括有真空吸附頭，而真空吸附頭通過(guò)真空產(chǎn)生 負(fù)壓來(lái)吸附板結(jié)構(gòu)件，以便于將板結(jié)構(gòu)件貼合至相應(yīng)產(chǎn)品的相應(yīng)位置。然而，在將產(chǎn)品放在 到流水線的過(guò)程中，用于與板結(jié)構(gòu)接件貼合的端面常出現(xiàn)傾斜的情況，致使真空吸附頭不 能準(zhǔn)確地將板結(jié)構(gòu)件貼合至產(chǎn)品的相應(yīng)位置處，從而影響了真空吸附頭對(duì)板結(jié)構(gòu)件的貼合 精度。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003] 本實(shí)用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了真空吸附頭，其旨在提 高板結(jié)構(gòu)件的貼合精度。
[0004] 本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的：
[0005] -種真空吸附頭，包括第一平衡板、第二平衡板、用于與板結(jié)構(gòu)件吸附接觸的真空 吸附板，所述第二平衡板與所述真空吸附板固定連接，所述第一平衡板和所述第二平衡結(jié) 構(gòu)之間通過(guò)用于自適應(yīng)調(diào)整所述真空吸附板傾斜角度的平衡連接件連接。
[0006] 可選地，所述第一平衡板和第二平衡板之間留有間隙，所述平衡連接件為調(diào)心球 軸承。
[0007] 可選地，所述真空吸附板具有用于與所述板結(jié)構(gòu)件吸附接觸的吸附接觸面，所述 吸附接觸面至少包括兩個(gè)吸附區(qū)域，所述真空吸附板在每個(gè)所述吸附區(qū)域均開(kāi)設(shè)有真空吸 孔，所述真空吸附板具有至少兩個(gè)真空腔室，且每個(gè)所述真空腔室分別對(duì)應(yīng)一個(gè)吸附區(qū)域 的真空吸孔。
[0008] 可選地，所述真空吸附板中朝向所述第二平衡板的板面開(kāi)設(shè)有至少兩個(gè)真空槽， 所述真空槽與所述第二平衡板共同形成所述真空腔室。
[0009] 可選地，所述真空吸附板與所述第二平衡板之間設(shè)有密封件。
[0010]可選地，所述真空吸附頭包括用于加熱所述真空吸附板加熱組件。
[0011] 可選地，所述加熱組件包括設(shè)于所述真空吸附板內(nèi)的電阻加熱件。
[0012] 本實(shí)用新型還提供一種真空吸附裝置，包括上述的真空吸附頭、以及與所述真空 腔室連接的真空發(fā)生組件。
[0013] 可選地，所述真空發(fā)生組件包括與所述真空腔室連接的真空分區(qū)閥，以及用于監(jiān) 視真空腔室中真空狀況且還用于控制所述真空分區(qū)閥的真空控制表。
[0014] 本實(shí)用新型還提供一種真空貼合設(shè)備，包括上述的真空吸附裝置。
[0015] 本實(shí)用新型通過(guò)平衡連接件適應(yīng)性地調(diào)整真空吸附板的傾斜角度，使得真空吸附 頭能夠準(zhǔn)確地將板結(jié)構(gòu)件貼合至產(chǎn)品的相應(yīng)位置處，從而提高真空吸附頭的貼合精度。
【附圖說(shuō)明】
[0016] 為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使 用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例， 對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得 其他的附圖。
[0017] 圖1是本實(shí)用新型真空吸附裝置的一種視角下的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018] 圖2是本實(shí)用新型真空吸附裝置的另一種視角下的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019] 圖3是本實(shí)用新型真空吸附裝置的再一種視角下的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020] 圖4是本實(shí)用新型真空吸附裝置的正視圖；
[0021] 圖5是圖4中AA方向的剖視圖。
[0022] 附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明：
[0023]

【具體實(shí)施方式】
[0024] 為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施 例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本 實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0025]需要說(shuō)明的是，當(dāng)元件被稱(chēng)為"固定于"或"設(shè)置于"另一個(gè)元件，它可以直接在另 一個(gè)元件上或者可能同時(shí)存在居中元件。當(dāng)一個(gè)元件被稱(chēng)為是"連接于"另一個(gè)元件，它可 以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。
[0026] 還需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型實(shí)施例中，按照?qǐng)D1中所建立的XYZ直角坐標(biāo)系定義： 位于X軸正方向的一側(cè)定義為前方，位于X軸負(fù)方向的一側(cè)定義為后方;位于Y軸正方向的一 側(cè)定義為左方，位于Y軸負(fù)方向的一側(cè)定義為右方;位于Z軸正方向的一側(cè)定義為上方，位于 Z軸負(fù)方向的一側(cè)定義為下方。
[0027] 本實(shí)用新型提供一種真空吸附頭。
[0028]參見(jiàn)圖1至圖5所示，該真空吸附頭包括第一平衡板10、第二平衡板20、用于與板結(jié) 構(gòu)件90吸附接觸的真空吸附板30,第二平衡板20與真空吸附板30固定連接，其中，在本實(shí)施 中，第二平衡板20與真空吸附板30通過(guò)螺栓進(jìn)行固定連接，當(dāng)然，在其他實(shí)施中，第二平衡 板20與真空吸附板30還可通過(guò)卡扣等連接方式進(jìn)行固定連接，在此不做限定。在本實(shí)用新 型中，第一平衡板10和第二平衡結(jié)構(gòu)之間通過(guò)用于自適應(yīng)調(diào)整真空吸附板30傾斜角度的平 衡連接件40連接?；诖私Y(jié)構(gòu)，如產(chǎn)品與板結(jié)構(gòu)接件貼合的端面出現(xiàn)傾斜，在真空吸附頭將 板結(jié)構(gòu)件90貼合至產(chǎn)品相應(yīng)位置的過(guò)程，通過(guò)平衡連接件40適應(yīng)性地調(diào)整真空吸附板30的 傾斜角度，使得真空吸附頭能夠準(zhǔn)確地將板結(jié)構(gòu)件90貼合至產(chǎn)品的相應(yīng)位置處，從而提高 真空吸附頭的貼合精度。
[0029]進(jìn)一步地，參見(jiàn)圖4和圖5所示，第一平衡板10和第二平衡板20之間留有間隙，平衡 連接件40為調(diào)心球軸承。其中，采用調(diào)心球軸承作為平衡連接件40,在允許真空吸附板30能 夠相對(duì)傾斜的前提下，還可承受較小軸向移動(dòng)，能夠自適應(yīng)地調(diào)整真空吸附板30的位置及 傾斜狀態(tài)。在本實(shí)施中，將調(diào)心球軸承鑲嵌于第二平衡板20,調(diào)心球軸承的外圈緊固于第二 平衡板20,而調(diào)心球軸承的內(nèi)圈緊固有卡緊塊，在通過(guò)螺栓將第一平衡板10與卡緊塊固定 連接。
[0030] 本實(shí)用新型中，參見(jiàn)圖4和圖5所示，真空吸附板30具有用于與板結(jié)構(gòu)件90吸附接 觸的吸附接觸面（圖中未標(biāo)注），吸附接觸面至少包括兩個(gè)吸附區(qū)域，真空吸附板30在每個(gè) 吸附區(qū)域均開(kāi)設(shè)有真空吸孔31，真空吸附板30具有至少兩個(gè)真空腔室（圖中未標(biāo)注），且每 個(gè)真空腔室分別對(duì)應(yīng)一個(gè)吸附區(qū)域的真空吸孔31?；诖私Y(jié)構(gòu)，可以根據(jù)板結(jié)構(gòu)件90的大 小來(lái)適應(yīng)性地調(diào)整吸附區(qū)域的使用數(shù)量，提高該真空吸附頭的通用性，同時(shí)，如板結(jié)構(gòu)件90 較小時(shí)，減少吸附區(qū)域的使用數(shù)量，可減少真空使用量，進(jìn)而簡(jiǎn)單真空吸附頭的使用成本。
[0031] 進(jìn)一步地，參見(jiàn)圖5所示，真空吸附板30中朝向第二平衡板20的板面開(kāi)設(shè)有至少兩 個(gè)真空槽32,真空槽32與第二平衡板20共同形成真空腔室?；诖私Y(jié)構(gòu)，在生產(chǎn)過(guò)程中，可 以采用車(chē)銑的加工方式在真空吸附板30的上板面車(chē)銑出真空槽32,然后在將第二平衡板20 蓋合到真空吸附板30上，其中，車(chē)銑技術(shù)較為成熟，有利于降低生產(chǎn)制造成本。當(dāng)然，在本實(shí) 施中，真空腔室設(shè)有三個(gè)，對(duì)于地，真空槽32也開(kāi)設(shè)有三個(gè)。
[0032]進(jìn)一步地，參見(jiàn)圖圖4和圖5所示，真空吸附板30與第二平衡板20之間設(shè)有密封件 50。通過(guò)密封件50能有效地密封真空腔室。當(dāng)然，在實(shí)施中，該密封件50在真空槽32的相應(yīng) 位置避空，同時(shí)，該密封件50還可以采用硅膠皮制成。
[0033]本實(shí)用新型中，真空吸附頭包括用于加熱真空吸附板30加熱組件?；诖私Y(jié)構(gòu)，在 真空吸附頭將板結(jié)構(gòu)件90貼合至產(chǎn)品相應(yīng)位置的過(guò)程，可間接地加熱板結(jié)構(gòu)件90,有利于 提高熱塑性板結(jié)構(gòu)件90與產(chǎn)品之間的貼合效果，進(jìn)而提高產(chǎn)品質(zhì)量。
[0034]進(jìn)一步地，在本實(shí)施中，參見(jiàn)圖5所示，加熱組件包括設(shè)于真空吸附板30內(nèi)的電阻 加熱件60,這樣結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，便于生產(chǎn)制造。
[0035] 如圖1至圖5所示，本實(shí)用新型還提出一種真空吸附裝置，該真空吸附裝置包括上 述的真空吸附頭、以及與真空腔室連接的真空發(fā)生組件，該真空吸附頭的具體結(jié)構(gòu)參照上 述實(shí)施例，由于本真空吸附裝置采用了上述所有實(shí)施例的全部技術(shù)方案，因此同樣具有上 述實(shí)施例的技術(shù)方案所帶來(lái)的所有有益效果，在此不再一一贅述。
[0036] 本實(shí)用新型中，真空發(fā)生組件包括與真空腔室連接的真空分區(qū)閥71，以及用于監(jiān) 視真空腔室中真空狀況且還用于控制真空分區(qū)閥71的真空控制表72。這樣，通過(guò)真空分區(qū) 閥71可以使一個(gè)真空發(fā)生裝置組件多個(gè)真空腔室真空的生成，使得真空吸附裝置只連接一 個(gè)真空發(fā)生組件，從而降低制造成本。
[0037] 當(dāng)然，在具體實(shí)施中，該真空吸附裝置還可以包括用于將真空吸附裝置固定到真 空貼合設(shè)備上的連接支撐板81、側(cè)向加固板82、防護(hù)蓋83等零部件。
[0038] 本實(shí)用新型還提出一種真空貼合設(shè)備，該真空貼合設(shè)備包括真空吸附裝置，該真 空吸附裝置的具體結(jié)構(gòu)參照上述實(shí)施例，由于本真空貼合設(shè)備采用了上述所有實(shí)施例的全 部技術(shù)方案，因此同樣具有上述實(shí)施例的技術(shù)方案所帶來(lái)的所有有益效果，在此不再一一 贅述。
[0039] 以上僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用 新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換或改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保 護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種真空吸附頭，其特征在于，包括第一平衡板、第二平衡板、用于與板結(jié)構(gòu)件吸附 接觸的真空吸附板，所述第二平衡板與所述真空吸附板固定連接，所述第一平衡板和所述 第二平衡結(jié)構(gòu)之間通過(guò)用于自適應(yīng)調(diào)整所述真空吸附板傾斜角度的平衡連接件連接。2. 如權(quán)利要求1所述的真空吸附頭，其特征在于，所述第一平衡板和第二平衡板之間留 有間隙，所述平衡連接件為調(diào)心球軸承。3. 如權(quán)利要求1所述的真空吸附頭，其特征在于，所述真空吸附板具有用于與所述板結(jié) 構(gòu)件吸附接觸的吸附接觸面，所述吸附接觸面至少包括兩個(gè)吸附區(qū)域，所述真空吸附板在 每個(gè)所述吸附區(qū)域均開(kāi)設(shè)有真空吸孔，所述真空吸附板具有至少兩個(gè)真空腔室，且每個(gè)所 述真空腔室分別對(duì)應(yīng)一個(gè)吸附區(qū)域的真空吸孔。4. 如權(quán)利要求3所述的真空吸附頭，其特征在于，所述真空吸附板中朝向所述第二平衡 板的板面開(kāi)設(shè)有至少兩個(gè)真空槽，所述真空槽與所述第二平衡板共同形成所述真空腔室。5. 如權(quán)利要求4所述的真空吸附頭，其特征在于，所述真空吸附板與所述第二平衡板之 間設(shè)有密封件。6. 如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的真空吸附頭，其特征在于，所述真空吸附頭包括 用于加熱所述真空吸附板加熱組件。7. 如權(quán)利要求6所述的真空吸附頭，其特征在于，所述加熱組件包括設(shè)于所述真空吸附 板內(nèi)的電阻加熱件。8. -種真空吸附裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的真空吸附 頭、以及與所述真空腔室連接的真空發(fā)生組件。9. 如權(quán)利要求8所述的真空吸附裝置，其特征在于，所述真空發(fā)生組件包括與所述真空 腔室連接的真空分區(qū)閥，以及用于監(jiān)視真空腔室中真空狀況且還用于控制所述真空分區(qū)閥 的真空控制表。10. -種真空貼合設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求8或9中所述的真空吸附裝置。
【文檔編號(hào)】F16B11/00GK205478852SQ201620074108
【公開(kāi)日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年1月26日
【發(fā)明人】黃奕宏
【申請(qǐng)人】深圳市深科達(dá)智能裝備股份有限公司