一種環(huán)保節(jié)能的納米電鍍鎳工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種納米電鍍鎳工藝，該工藝在鍍鎳的鍍液中加入納米催化絡(luò)合添加劑，在超導(dǎo)磁場效果反應(yīng)作用下進(jìn)行電鍍。本發(fā)明工藝?yán)贸瑢?dǎo)效果反應(yīng)產(chǎn)生的磁場，并在納米催化絡(luò)合添加劑促進(jìn)作用下，使金屬沉積晶核粒度在18-25nm間，且80%呈帶狀，而非晶狀。本發(fā)明工藝電鍍走位能力優(yōu)異、具有深鍍能力、鎳層應(yīng)力小、延伸性強(qiáng)。相比傳統(tǒng)鍍鎳工藝，在相同厚度鎳層時(shí)，本發(fā)明工藝的鎳層硬度、耐磨性、光亮度、延展性及抗腐蝕性均有顯著提高，可通過更長時(shí)間的抗腐蝕測試。此外，本發(fā)明工藝僅一個(gè)工序即可用于后續(xù)加工，無需傳統(tǒng)的半光鎳、全光鎳、高硫鎳、鎳封等多重工序，電鍍工序節(jié)約，生產(chǎn)效率提高，減小成本同時(shí)，也減小排放，經(jīng)濟(jì)環(huán)保。
【專利說明】—種環(huán)保節(jié)能的納米電鍍鎳工藝
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電鍍領(lǐng)域，特別涉及一種環(huán)保節(jié)能的納米電鍍鎳工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]目前傳統(tǒng)的電鍍鎳工藝，為了保障鎳層的抗腐蝕性、耐磨性和光澤度等效果，至少需要兩道工序，電鍍半光鎳和電鍍?nèi)怄?；為了進(jìn)一步的提高性能，通常還需要增加高硫鎳、鎳封這兩道鍍鎳工序。這導(dǎo)致傳統(tǒng)的電鍍鎳工藝存在以下不足:第一，電鍍鎳工序多，工藝復(fù)雜；第二，鍍層厚；第三，由于復(fù)雜的工序，導(dǎo)致廢水處理成本高、易污染環(huán)境，不夠經(jīng)濟(jì)環(huán)保；第四，填平效果和低電位走位效果較差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有的電鍍鎳工藝中存在的不足，提供了一種新的環(huán)保節(jié)能且高經(jīng)濟(jì)效益的納米電鍍鎳工藝。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種納米電鍍鎳工藝，該工藝包括在電鍍鎳的鍍液中加入納米催化絡(luò)合添加劑，然后在超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備的磁場作用下進(jìn)行電鍍。需要說明的是，采用本發(fā)明的方法，直接進(jìn)行一次電鍍鎳工序即可，不需要進(jìn)行電鍍半光鎳、電鍍?nèi)怄?，也不需要高硫鎳、鎳封等工序，可直接用于后續(xù)的加工。另外，還需要說明的是，本發(fā)明方法的關(guān)鍵在于采用一次鍍鎳工序替換傳統(tǒng)的多次鍍鎳工序，因此，鍍鎳前對工件的處理和鍍鎳后的后續(xù)加工，都可以與現(xiàn)有技術(shù)相同；當(dāng)然，不論采用怎樣的工件鍍鎳前處理或鍍鎳后加工工藝，只要采用了本發(fā)明的鍍鎳工藝，都在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)一種。
[0005]優(yōu)選地，納 米催化絡(luò)合添加劑的添加量為每升鍍液中加入0.8g-l.2g。需要說明的是，本發(fā)明中，只要向常規(guī)使用的電鍍鎳的鍍液中加入納米催化絡(luò)合添加劑，即可滿足本發(fā)明的使用要求，0.8g-1.2g每升的用量只是本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)現(xiàn)方式，過多、過少對電鍍都會有影響。
[0006]優(yōu)選地，納米催化絡(luò)合添加劑中含有金屬離子型晶體結(jié)晶抑制劑。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的納米電鍍鎳工藝的要求，本發(fā)明還公開了一種用于本發(fā)明的納米電鍍鎳工藝的電鍍鎳設(shè)備，具體的，即在常規(guī)使用的鍍槽中，增加設(shè)置一個(gè)長期潛置于鍍槽中的超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備。需要說明的是，本發(fā)明的方法中，利用超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備的磁場，可以使納米催化絡(luò)合添加劑更好的發(fā)揮作用，激活鍍液，從而使得鎳沉積晶核粒度在18-25nm之間，并使金屬沉積的粒度80%呈非晶狀。
[0008]優(yōu)選地，超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備由超導(dǎo)材料制備而成。
[0009]因此，本發(fā)明有益效果在于:本發(fā)明的納米電鍍鎳工藝在常規(guī)的鍍液中加入納米催化絡(luò)合添加劑，并利用超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備產(chǎn)生的磁場促進(jìn)絡(luò)合，從而使得鍍鎳層中鎳金屬的沉積晶核粒度在18-25nm之間，并且80%呈帶狀。由于沉積晶核粒徑小，并且在工件表面呈覆膜狀，使得本發(fā)明的工藝走位能力非常優(yōu)異，具有深鍍能力并且鎳層應(yīng)力小，延伸性強(qiáng)，耐磨性強(qiáng)。與傳統(tǒng)的鍍鎳工藝相比，在相同厚度的鎳層下，本發(fā)明工藝的鎳層硬度、耐磨性、光亮度、抗腐蝕性均有提高。在相同厚度下，可通過更長時(shí)間的鹽霧測試；實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，在鐵基上鍍5微米厚的鎳層，傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層鹽霧測試時(shí)間約4小時(shí)，而本發(fā)明的工藝獲得的鎳層鹽霧測試時(shí)間在32-56小時(shí)間，約在70小時(shí)開始生銹，可見，本發(fā)明的工藝獲得的鎳層具有很好的抗腐蝕性。此外，采用本發(fā)明的工藝，僅僅一個(gè)電鍍鎳工序即可替換傳統(tǒng)的多個(gè)工序，生產(chǎn)效率高，并且，由于節(jié)約了工序，在減小成本的同時(shí)，也減小了排放，經(jīng)濟(jì)環(huán)保。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本發(fā)明的實(shí)施例中采用本發(fā)明的電鍍鎳工藝獲得的鎳層和傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層的顯微鏡觀察結(jié)果圖，其中A為本發(fā)明工藝獲得的鎳層，B為傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層；
圖2是本發(fā)明的實(shí)施例中在掛鍍中，采用本發(fā)明的電鍍鎳工藝獲得的鎳層和傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層的顯微鏡觀察結(jié)果圖，其中A為本發(fā)明工藝獲得的鎳層，B為傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層； 圖3是本發(fā)明的實(shí)施例中在滾鍍中，采用本發(fā)明的電鍍鎳工藝獲得的鎳層和傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層的顯微鏡觀察結(jié)果圖，其中A為本發(fā)明工藝獲得的鎳層，B為傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層；
圖4是本發(fā)明的實(shí)施例中在連續(xù)鍍中，采用本發(fā)明的電鍍鎳工藝獲得的鎳層和傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層的顯微鏡觀察結(jié)果圖，其中A為本發(fā)明工藝獲得的鎳層，B為傳統(tǒng)工藝獲得的鎳層。
【具體實(shí)施方式】
[0011]為了使審查員能夠進(jìn)一步了解本發(fā)明的目的，現(xiàn)附較佳實(shí)施例以詳細(xì)說明如下，本實(shí)施例僅用于說明本發(fā)明的技術(shù)方案，并非限定本發(fā)明。
[0012]本發(fā)明的納米電鍍鎳工藝在現(xiàn)有的電鍍鎳工藝基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)，具體的，在現(xiàn)有的電鍍鎳的鍍液中加入包含金屬離子型晶體結(jié)晶抑制劑的納米催化絡(luò)合添加劑，并且在電鍍槽中安置超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備。本發(fā)明的電鍍鎳工藝中，其它電鍍條件與現(xiàn)有技術(shù)相同。本例中，超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備即采用超導(dǎo)材料制備的超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)棒。
[0013]具體的，本實(shí)施例的鍍液添加成分如下:
【權(quán)利要求】
1.一種納米電鍍鎳工藝，其特征在于:在電鍍鎳的鍍液中加入納米催化絡(luò)合添加劑，然后在超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備的磁場作用下進(jìn)行電鍍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米電鍍鎳工藝，其特征在于:所述納米催化絡(luò)合添加劑的添加量為每升鍍液中加入0.8g-l.2g。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的納米電鍍鎳工藝，其特征在于:所述納米催化絡(luò)合添加劑中含有金屬離子型晶體結(jié)晶抑制劑。
4.一種用于權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的納米電鍍鎳工藝的電鍍鎳設(shè)備，其特征在于:包括鍍槽和長期潛置于鍍槽中的超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍鎳設(shè)備，其特征在于:所述超導(dǎo)磁態(tài)效果反應(yīng)設(shè)備由超導(dǎo)材料制備而成 。
【文檔編號】C25D3/12GK103603017SQ201310535040
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年10月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月31日
【發(fā)明者】楊宗穆 申請人:東莞市科益納米科技有限公司