技術(shù)特征：
1.一種疏水和/或疏油組件的制作方法，其特征在于，包括：提供基底；在所述基底上形成多個凸起以及一個骨架結(jié)構(gòu)，所述骨架結(jié)構(gòu)以露出所述多個凸起的上表面的方式包圍所述多個凸起，所述骨架結(jié)構(gòu)的材料為顆粒材料；去除所述多個凸起，從而在所述骨架結(jié)構(gòu)中形成多個開口空腔；其中，所述開口空腔的至少頂部的投影面積沿著朝向所述基底的方向逐漸增大。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述凸起的材料包括高分子材料、無機非金屬材料和金屬材料中的一種或多種的任意組合。3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述凸起的形狀為圓球體、橢球體、圓錐體、截角錐體或多角錐體。4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述凸起的形狀為圓球體，所述圓球體的直徑范圍包括50nm～5000nm。5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述多個凸起在所述基底上的投影面積之和與所述基底的面積之比大于或等于30％且小于或等于70％。6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述骨架結(jié)構(gòu)的材料為低表面能材料。7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：在去除所述多個凸起之后，在所述骨架結(jié)構(gòu)的表面形成低表面能層。8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述顆粒材料為二氧化硅圓球，所述二氧化硅圓球的直徑范圍包括10nm～500nm。9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，采用涂覆方式在所述基底上同時形成所述多個凸起和所述骨架結(jié)構(gòu)。10.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述形成多個凸起以及骨架結(jié)構(gòu)包括：在所述基底上形成多個凸起；形成覆蓋所述基底和所述多個凸起的骨架材料層；采用刻蝕方式或化學(xué)機械研磨方法去除部分所述骨架材料層，直至暴露所述多個凸起的上表面。11.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：在去除所述多個凸起之前或/和之后，對所述骨架結(jié)構(gòu)進行加固處理。12.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述基底的材料為玻璃，所述凸起為高分子圓球體，所述骨架結(jié)構(gòu)為二氧化硅圓球；形成所述凸起和所述骨架結(jié)構(gòu)包括：將高分子圓球體和二氧化硅圓球分散于水中得到混合溶液，將所述混合溶液涂覆于玻璃上；去除所述多個凸起的方法為燒結(jié)、紫外線照射或濕法刻蝕。13.一種疏水和/或疏油組件，其特征在于，包括：基底；位于所述基底上的一個骨架結(jié)構(gòu)，所述骨架結(jié)構(gòu)中具有多個開口空腔，所述開口空腔的至少頂部的投影面積沿著朝向所述基底的方向逐漸增大，所述骨架結(jié)構(gòu)的材料為顆粒材料。14.如權(quán)利要求13所述的組件，其特征在于，所述開口空腔為圓球體、橢球體、圓錐體、截角錐體或多角錐體。15.如權(quán)利要求14所述的組件，其特征在于，所述開口空腔的形狀為圓球體，所述圓球體的直徑范圍包括50nm～5000nm。16.如權(quán)利要求13所述的組件，其特征在于，所述骨架結(jié)構(gòu)的材料為低表面能材料。17.如權(quán)利要求13所述的組件，其特征在于，還包括：位于所述骨架結(jié)構(gòu)表面的低表面能層。18.如權(quán)利要求13所述的組件，其特征在于，所述基底的材料為玻璃，所述顆粒材料為二氧化硅圓球，所述二氧化硅圓球的直徑范圍包括10nm～500nm。19.如權(quán)利要求13所述的組件，其特征在于，所述開口空腔的開口面積包括：20～2×105nm2。20.如權(quán)利要求13所述的組件，其特征在于，所述骨架結(jié)構(gòu)的高度范圍包括：50nm～5000nm。21.如權(quán)利要求13所述的組件，其特征在于，所述開口空腔的頂部的內(nèi)壁切線與所述基底表面的法線之間的夾角范圍包括：10°～75°。22.一種顯示裝置，其特征在于，包括：如權(quán)利要求13至21中任一項所述的組件，所述基底為顯示面板。