一種二甲基二氯硅烷水解反應(yīng)降膜解析塔的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及有機(jī)硅水解領(lǐng)域，具體涉及一種二甲基二氯硅烷水解反應(yīng)降膜解 析塔。
【背景技術(shù)】
[0002] 有機(jī)硅行業(yè)中，目前恒沸酸水解工藝正逐步被飽和酸水解工藝所替代，而飽和酸 水解一般需要在壓力下進(jìn)行，故此飽和循環(huán)鹽酸的濃度相對偏高，水分子與二甲基二氯硅 烷分子接觸機(jī)率相對減小。而二甲基二氯硅烷水解反應(yīng)是一種快速的反應(yīng)，只有在水量充 足的情況下才可以達(dá)到水解完全，而目前飽和酸水解工藝使用的水一般不會過量，且酸濃 度高，所以飽和酸水解工藝存在水解反應(yīng)不完全的情況，造成后續(xù)系統(tǒng)流程較長，且氯離子 處理較為困難，運(yùn)行消耗也相對偏高。像新安開化、浙江合盛等有機(jī)硅公司使用"乳化塔" 式水解反應(yīng)器，唐山三友飽和酸水解則采用為多層水解反應(yīng)器，兩者雖然都可以滿足快速 反應(yīng)的要求，但反應(yīng)程度不夠完全，一級反應(yīng)得到的水解物粘度一般在7-15CP之間，而酸 度則一般在3%以上。結(jié)合以上情況，需要研發(fā)一種既可以實(shí)現(xiàn)快速反應(yīng)，又能使反應(yīng)更加 完全的設(shè)備裝置，以提高水解反應(yīng)產(chǎn)物的質(zhì)量，減少后續(xù)系統(tǒng)流程步驟，達(dá)到節(jié)能降耗的作 用。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003] 本實(shí)用新型的目的是為了滿足上述要求，提供一種二甲基二氯硅烷水解反應(yīng)降膜 解析塔，該解析塔能夠使二甲基二氯硅烷的水解反應(yīng)更加完全。
[0004] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用下述技術(shù)方案：
[0005] 一種二甲基二氯硅烷水解反應(yīng)降膜解析塔，包括分布盤和成膜組件，所述分布盤 設(shè)置于降膜解析塔內(nèi)部的中上部位，所述分布盤上設(shè)置有布液孔，所述成膜組件設(shè)置于分 布盤的下方，所述成膜組件由若干組"人"字型板組合而成。
[0006] 優(yōu)選的，所述降膜解析塔的進(jìn)料口位于所述降膜解析塔的上端。頂部進(jìn)料，解決了 較大能力設(shè)計時側(cè)進(jìn)插入管式進(jìn)料難實(shí)現(xiàn)的問題。
[0007] 優(yōu)選的，所述分布盤的上表面設(shè)置有收液器和若干個用于排氣的升氣管，所述收 液器安裝于所述進(jìn)料口的下方。分布盤設(shè)計收液器，避免了頂部進(jìn)液后沖料和液體分布不 均勻的現(xiàn)象的發(fā)生?？梢愿鶕?jù)氣體流通量核算升氣管的直徑和個數(shù)。
[0008] 優(yōu)選的，所述降膜解析塔的上端對稱分布有若干個氣相出口管道。氣相出口管道 設(shè)計在塔體的上部，對稱出氣，防止了偏流現(xiàn)象的產(chǎn)生。
[0009] 優(yōu)選的，所述成膜組件部位的塔體的四周對稱或均勻設(shè)置有若干個排氣口。
[0010] 優(yōu)選的，所述排氣口的個數(shù)為2個或4個。
[0011] 優(yōu)選的，所述降膜解析塔的出料口位于降膜解析塔的下端。
[0012] 優(yōu)選的，所述分布盤和內(nèi)部組件均由非金屬耐腐蝕材料制成。
[0013] 本實(shí)用新型的有益技術(shù)效果為：
[0014] 1.本申請中設(shè)備采用頂部進(jìn)液，解決了負(fù)荷較大時設(shè)計側(cè)面進(jìn)料插入管不好制作 加工的問題；
[0015] 2.混合液在"人"字型板上成膜下降，既可以為原料二甲基二氯硅烷和酸水反應(yīng)提 供較大空間，又可以使產(chǎn)生的氯化氫氣體及時逸出，防止了氣膜形成，更加有利于水解反應(yīng) 正向進(jìn)行。
【附圖說明】
[0016] 圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017] 圖2是本實(shí)用新型成膜組件的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018] 其中，1、分布盤，2、成膜組件，3、升氣管，4、收液器，5、氣相出口管道，6、進(jìn)料口，7、 出料口，8、排氣口。
【具體實(shí)施方式】
[0019] 下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0020] 由圖1和圖2可知，一種二甲基二氯硅烷水解反應(yīng)降膜解析塔，包括分布盤1和成 膜組件2,所述分布盤1設(shè)置于降膜解析塔內(nèi)部的中上部位，分布盤1上設(shè)置有布液孔，所述 成膜組件2設(shè)置于分布盤1的下方，所述成膜組件2由25組"人"字型板組合而成。
[0021] 所述降膜解析塔的進(jìn)料口 7位于所述降膜解析塔的上端。頂部進(jìn)料，解決了較大 能力設(shè)計時側(cè)進(jìn)插入管式進(jìn)料難實(shí)現(xiàn)的問題。
[0022] 所述分布盤1的上表面設(shè)置有收液器4和20個用于排氣的升氣管3,所述收液器 4安裝于所述進(jìn)料口 6的下方。分布盤1上方設(shè)計收液器4,避免了頂部進(jìn)液后沖料和液體 分布不均勻的現(xiàn)象的發(fā)生?？梢愿鶕?jù)氣體流通量核算升氣管3的直徑和個數(shù)。
[0023] 所述降膜解析塔的上端對稱分布有若干個氣相出口管道5。氣相出口管道5設(shè)計 在塔體的上部，對稱出氣，防止了偏流現(xiàn)象的產(chǎn)生。
[0024] 所述內(nèi)部組件2所在部位的塔體的四周均勻分布有2個排氣口 8。
[0025] 所述降膜解析塔的出料口7位于降膜解析塔的下端。
[0026] 所述分布盤1和成膜組件2均由非金屬耐腐蝕材料制成。
[0027] 混合物料由頂部進(jìn)料口6進(jìn)入，通過收液器4均勻分布到分布盤1上，并形成一定 液位，經(jīng)分布盤1上的布液孔進(jìn)入下方的成膜組件2上的"人"字型板上，進(jìn)液后閃蒸出的氯 化氫氣體則通過升氣管3,向下進(jìn)入筒體經(jīng)筒體與成膜組件的環(huán)隙由氣相出口管道5放出， 進(jìn)入成膜組件2的混合物料繼續(xù)反應(yīng)，產(chǎn)生的氯化氫氣體經(jīng)由排氣口 8放出，反應(yīng)得到的混 合物料則下落至下一步工序。
[0028] 表1為使用本實(shí)用新型和其他反應(yīng)器得到的水解物酸值對照表。
[0029] 表1反應(yīng)得到的水解物酸值對照表

[0031] 由表1可知，由于本申請中成膜組件2可以為二甲水解反應(yīng)提供較大的接觸空間， 有利于反應(yīng)充分進(jìn)行，成膜下降時產(chǎn)生的氯化氫氣體又利于析出，更加有利于反應(yīng)的繼續(xù) 進(jìn)行。所以本裝置可以使二甲水解反應(yīng)更加完全，降低水解的酸含量，減少后續(xù)系統(tǒng)的處理 負(fù)荷，縮短流程設(shè)置，且消耗水量較少，無廢酸產(chǎn)生，節(jié)省了運(yùn)行消耗成本。
[0032] 上述雖然結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了描述，但并非對本實(shí)用新 型保護(hù)范圍的限制，所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，在本實(shí)用新型的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本領(lǐng) 域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動即可做出的各種修改或變形仍在本實(shí)用新型的保護(hù)范 圍以內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種二甲基二氯硅烷水解反應(yīng)降膜解析塔，其特征在于：包括分布盤和成膜組件， 所述分布盤設(shè)置于降膜解析塔內(nèi)部的中上部位，所述分布盤上設(shè)置有布液孔，所述成膜組 件設(shè)置于分布盤的下方，所述成膜組件由若干組"人"字型板組合而成。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的降膜解析塔，其特征在于：所述降膜解析塔的進(jìn)料口位于所 述降膜解析塔的上端。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的降膜解析塔，其特征在于：所述分布盤的上表面設(shè)置有收液 器和若干個用于排氣的升氣管，所述收液器安裝于所述進(jìn)料口的下方。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的降膜解析塔，其特征在于：所述降膜解析塔的上端對稱分布 有若干個氣相出口管道。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的降膜解析塔，其特征在于：所述成膜組件所在部位的塔體的 四周均勾分布有若干個排氣口。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的降膜解析塔，其特征在于：所述排氣口的個數(shù)為2個。7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的降膜解析塔，其特征在于：所述排氣口的個數(shù)為4個。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的降膜解析塔，其特征在于：所述降膜解析塔的出料口位于降 膜解析塔的下端。9. 根據(jù)權(quán)利要求1至8任一所述的降膜解析塔，其特征在于：所述分布盤和成膜組件 均由非金屬耐腐蝕材料制成。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種二甲基二氯硅烷水解反應(yīng)降膜解析塔，包括分布盤和成膜組件，所述分布盤設(shè)置于降膜解析塔內(nèi)部的中上部位，分布盤上設(shè)置有布液孔，所述成膜組件設(shè)置于分布盤的下方，所述成膜組件由若干組“人”字型板組合而成。本申請中設(shè)備采用頂部進(jìn)液，解決了負(fù)荷較大時設(shè)計側(cè)面進(jìn)料插入管不好制作加工的問題；混合液在“人”字型板上成膜下降，既可以為原料二甲基二氯硅烷和酸水反應(yīng)提供較大空間，又可以使產(chǎn)生的氯化氫氣體及時逸出，防止了氣膜形成，更加有利于水解反應(yīng)正向進(jìn)行。
【IPC分類】B01J19/24, B01J14/00
【公開號】CN204638173
【申請?zhí)枴緾N201520127801
【發(fā)明人】劉飛, 崔行安, 渠國忠
【申請人】魯西化工集團(tuán)股份有限公司硅化工分公司
【公開日】2015年9月16日
【申請日】2015年3月5日