本發(fā)明主要涉及無(wú)氧操作裝置制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種可調(diào)控n2/co2配比以及定量供給h2的厭氧培養(yǎng)瓶充氣抽真空清洗系統(tǒng)。
背景技術(shù):
自然界中存在著天然的厭氧/微好氧環(huán)境,生活在這些環(huán)境中的微生物對(duì)培養(yǎng)環(huán)境中的氧氣濃度敏感,實(shí)驗(yàn)操作過(guò)程中嚴(yán)格控制氧氣暴露的程度對(duì)厭氧/兼性厭氧微生物的存活和實(shí)驗(yàn)室培養(yǎng)極為關(guān)鍵。此外,二氧化碳和氫氣分別作為微生物(尤其是厭氧微生物)生長(zhǎng)和新陳代謝的有效碳源和電子供體,其定量供應(yīng)對(duì)于在實(shí)驗(yàn)室條件下成功地進(jìn)行微生物的培養(yǎng)研究至關(guān)重要。
目前,普遍使用的厭氧操作系統(tǒng)如厭氧操作箱以及簡(jiǎn)單的往培養(yǎng)基中吹氮?dú)獾却嬖谝韵聨追矫娴木窒扌裕?.難以保證嚴(yán)格的厭氧環(huán)境;2.無(wú)法實(shí)現(xiàn)箱內(nèi)n2/co2的自由配比以及定量供給h2;3.無(wú)法調(diào)控厭氧培養(yǎng)瓶中的厭氧程度和壓強(qiáng)指數(shù)。從而無(wú)法滿足不同實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的要求和不同類型微生物生長(zhǎng)對(duì)厭氧環(huán)境的需求。因此,設(shè)計(jì)出一種既能滿足不同實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)需求,又具有一定可操作性的厭氧培養(yǎng)瓶充氣抽真空清洗系統(tǒng)成為在科研和應(yīng)用中亟待解決的重要問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種可調(diào)控厭氧程度和壓強(qiáng)指數(shù)、能實(shí)現(xiàn)n2/co2的自由配比以及定量供給h2的厭氧培養(yǎng)瓶充氣抽真空清洗系統(tǒng)。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種厭氧培養(yǎng)瓶充氣抽真空清洗系統(tǒng),包括厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊、氣體成分配比模塊、分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊和抽真空模塊,所述氣體成分配比模塊分別與厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊以及分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊連接,所述抽真空模塊與分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊連接,所述厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊和分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊與培養(yǎng)瓶連接。
作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn):
所述氣體成分配比模塊包括n2氣瓶、co2氣瓶、h2氣瓶、配比器和流量計(jì),所述n2氣瓶與厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊之間連接有n2輸氣主管,所述co2氣瓶與分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊之間連接有co2輸氣主管,所述h2氣瓶與分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊之間連接有h2輸氣主管,所述流量計(jì)裝設(shè)在h2輸氣主管上,所述n2輸氣主管與co2輸氣主管之間設(shè)有h2輸氣分管,所述配比器裝設(shè)在co2輸氣主管與n2輸氣分管的匯流處。
所述co2輸氣主管與h2輸氣主管匯流后連接所述分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊。
所述分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊包括氣路主管,所述氣路主管上連接有多根用于和培養(yǎng)瓶連接的氣路分管,所述抽真空模塊與氣路主管連接。
所述氣路分管端口裝設(shè)有寶塔接頭,所述寶塔接頭上裝設(shè)有伸至用膠塞和鋁蓋封口的密閉培養(yǎng)瓶?jī)?nèi)的針頭。
抽真空模塊包括真空泵和真空管,所述真空泵通過(guò)所述真空管與氣路主管連接。
所述厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊包括架臺(tái)、培養(yǎng)基和分液器,所述培養(yǎng)基和分液器均裝設(shè)在架臺(tái)上,所述n2輸氣主管伸至培養(yǎng)基內(nèi),所述分液器一端伸至培養(yǎng)基內(nèi),另一端伸至培養(yǎng)瓶?jī)?nèi)。
所述co2輸氣主管與h2輸氣主管的匯流段設(shè)置有真空壓力表,所述n2輸氣主管的前后端、co2輸氣主管和h2輸氣主管的前端以及匯流段的末端均裝設(shè)有減壓閥。
n2輸氣主管、co2輸氣主管、h2輸氣主管、n2輸氣分管的前后端以及匯流段和氣路分管上均設(shè)有閥體。
所述h2輸氣主管上裝設(shè)有回火防止器。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:
本發(fā)明的厭氧培養(yǎng)瓶充氣抽真空清洗系統(tǒng),包括厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊、氣體成分配比模塊、分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊和抽真空模塊,氣體成分配比模塊分別與厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊以及分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊連接,抽真空模塊與分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊連接,厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊和分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊與培養(yǎng)瓶連接。該系統(tǒng)中,利用厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊可確??焖俜盅b厭氧培養(yǎng)基至培養(yǎng)瓶過(guò)程中的厭氧環(huán)境并及時(shí)密封培養(yǎng)瓶,保證培養(yǎng)基能快速分裝至各培養(yǎng)瓶中,通過(guò)氣體成分配比模塊調(diào)控n2/co2配比和定量h2以滿足不同實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)對(duì)厭氧培養(yǎng)瓶上層氣體的特定氣體組成成分要求,通過(guò)分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊和抽真空模塊實(shí)現(xiàn)抽真空和充氣相結(jié)合的方式以達(dá)到除氧目的,同時(shí)通過(guò)在培養(yǎng)基中加入還原劑的方式可進(jìn)一步達(dá)到嚴(yán)格厭氧的要求,并可在體系中添加指示劑用于表征培養(yǎng)基的厭氧程度。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明厭氧培養(yǎng)瓶充氣抽真空清洗系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中各標(biāo)號(hào)表示:
1、厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊;11、架臺(tái);12、培養(yǎng)基瓶;13、分液器;2、氣體成分配比模塊;21、n2氣瓶;211、n2輸氣主管;212、n2輸氣分管;22、co2氣瓶;221、co2輸氣主管;23、h2氣瓶;231、h2輸氣主管;24、配比器;25、流量計(jì);3、分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊;31、氣路主管;32、氣路分管;321、寶塔接頭;322、針頭;4、抽真空模塊;41、真空泵;42、真空管;5、真空壓力表;6、減壓閥;7、閥體;8、回火防止器。
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合說(shuō)明書附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
如圖1所示,本發(fā)明厭氧培養(yǎng)瓶充氣抽真空清洗系統(tǒng)的一種實(shí)施例,包括厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊1、氣體成分配比模塊2、分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3和抽真空模塊4,氣體成分配比模塊2分別與厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊1以及分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3連接,抽真空模塊4與分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3連接,厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊1和分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3與培養(yǎng)瓶連接。該系統(tǒng)中,利用厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊1可確??焖俜盅b厭氧培養(yǎng)基至培養(yǎng)瓶過(guò)程中的厭氧環(huán)境并及時(shí)密封培養(yǎng)瓶,保證培養(yǎng)基能快速分裝至各培養(yǎng)瓶中,通過(guò)氣體成分配比模塊2調(diào)控n2/co2配比和定量h2以滿足不同實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)對(duì)厭氧培養(yǎng)瓶上層氣體的特定氣體組成成分要求,通過(guò)分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3和抽真空模塊4實(shí)現(xiàn)抽真空和充氣相結(jié)合的方式以達(dá)到除氧目的,同時(shí)通過(guò)在培養(yǎng)基中加入還原劑的方式可進(jìn)一步達(dá)到嚴(yán)格厭氧的要求,并可在體系中添加指示劑用于表征培養(yǎng)基的厭氧程度。
本實(shí)施例中,氣體成分配比模塊2包括n2氣瓶21、co2氣瓶22、h2氣瓶23、配比器24和流量計(jì)25,n2氣瓶21與厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊1之間連接有n2輸氣主管211,co2氣瓶22與分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3之間連接有co2輸氣主管221,h2氣瓶23與分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3之間連接有h2輸氣主管231,流量計(jì)25裝設(shè)在h2輸氣主管231上,n2輸氣主管211與co2輸氣主管221之間設(shè)有n2輸氣分管212,配比器24裝設(shè)在co2輸氣主管221與n2輸氣分管212的匯流處。該結(jié)構(gòu)中,n2輸氣主管211將n2氣瓶21中的n2充至厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊1,可確保快速分裝培養(yǎng)基至培養(yǎng)瓶過(guò)程中持續(xù)供給氮?dú)?,維持厭氧環(huán)境;而co2輸氣主管221、h2輸氣主管231和n2輸氣分管212分別將n2、co2和h2充至培養(yǎng)瓶中,通過(guò)配比器24實(shí)現(xiàn)n2/co2成分的自由配比,相較于直接購(gòu)買的固定n2/co2配比的氣體,大大節(jié)約了成本;通過(guò)流量計(jì)25實(shí)現(xiàn)h2的定量供給,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)巧妙。
本實(shí)施例中,co2輸氣主管221與h2輸氣主管231匯流后連接分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3。這樣設(shè)置,能保證n2/co2/h2匯流后進(jìn)入培養(yǎng)瓶?jī)?nèi),保證了實(shí)驗(yàn)的穩(wěn)定性。
本實(shí)施例中,分支終端培養(yǎng)瓶清洗模塊3包括氣路主管31,氣路主管31上連接有多根用于和培養(yǎng)瓶連接的氣路分管32,抽真空模塊4與氣路主管31連接。該結(jié)構(gòu)中,各氣路分管32實(shí)現(xiàn)多個(gè)培養(yǎng)瓶同時(shí)進(jìn)行抽真空清洗,拓展了適用范圍,提高了效率。
本實(shí)施例中,氣路分管32端口裝設(shè)有寶塔接頭321,寶塔接頭321上裝設(shè)有伸至用膠塞和鋁蓋封口的密閉培養(yǎng)瓶?jī)?nèi)的針頭322。該結(jié)構(gòu)中,通過(guò)寶塔接頭321和針頭322的配合使用,一方面能保證充抽氣的進(jìn)行,另一方面能保證充抽氣過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)漏氣現(xiàn)象,保證密閉效果。
本實(shí)施例中,抽真空模塊4包括真空泵41和真空管42,真空泵41通過(guò)真空管42與氣路主管31連接。該結(jié)構(gòu)中,真空泵41啟動(dòng)后通過(guò)真空管42對(duì)氣路主管31抽真空,而氣路主管31通過(guò)氣路分管32對(duì)培養(yǎng)瓶進(jìn)行抽真空,達(dá)到抽真空清洗的效果。
本實(shí)施例中,厭氧培養(yǎng)基快速分裝模塊1包括架臺(tái)11、培養(yǎng)基瓶12和分液器13,培養(yǎng)基瓶12和分液器13均裝設(shè)在架臺(tái)11上,n2輸氣主管211伸至培養(yǎng)基瓶12內(nèi),分液器13一端伸至培養(yǎng)基瓶12內(nèi),另一端伸至培養(yǎng)瓶?jī)?nèi)。該結(jié)構(gòu)中,架臺(tái)11主要起到安裝培養(yǎng)基瓶12和分液器13的作用,n2輸氣主管211伸至培養(yǎng)基瓶12內(nèi)通過(guò)充n2保證快速分裝培養(yǎng)基至培養(yǎng)瓶過(guò)程中持續(xù)供給氮?dú)?,維持厭氧環(huán)境,而分液器13將培養(yǎng)基瓶12的培養(yǎng)基分裝至各培養(yǎng)瓶?jī)?nèi),其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便。
本實(shí)施例中,co2輸氣主管221與h2輸氣主管231的匯流段設(shè)置有真空壓力表5,n2輸氣主管211的前后端、co2輸氣主管221和h2輸氣主管231的前端以及匯流段的末端均裝設(shè)有減壓閥6。該結(jié)構(gòu)中,通過(guò)真空壓力表5和各減壓閥6配合,可以調(diào)節(jié)培養(yǎng)瓶?jī)?nèi)的厭氧程度和壓強(qiáng)指數(shù)。
本實(shí)施例中,n2輸氣主管211、co2輸氣主管221、h2輸氣主管231、n2輸氣分管212的前后端以及匯流段和氣路分管32上均設(shè)有閥體7。該結(jié)構(gòu)中,n2輸氣主管211、co2輸氣主管221、h2輸氣主管231、n2輸氣分管212的前端以及匯流段和氣路分管32上均設(shè)有球閥,能控制開度,保證所需流量;n2輸氣主管211末端為針閥,co2輸氣主管221和h2輸氣主管231末端為單向閥。
本實(shí)施例中,h2輸氣主管231上裝設(shè)有回火防止器8。該回火防止器8的設(shè)置,提高了系統(tǒng)的安全性。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭示如上,然而并非用以限定本發(fā)明。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍的情況下,都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾,或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此,凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾,均應(yīng)落在本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。