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水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī)的制作方法

文檔序號:9148301閱讀:637來源:國知局
水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及PCB領(lǐng)域,特別是涉及一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]等離子除膠渣是現(xiàn)PCB行業(yè)生產(chǎn)中的一段制程,尤其在柔性多層電路板中具有重要環(huán)節(jié)。PCB在鉆孔時因高速旋轉(zhuǎn),導(dǎo)致孔內(nèi)溫度過度而融化了板中的樹脂,這些樹脂在鉆孔高速旋轉(zhuǎn)就產(chǎn)生了膠渣,如果膠渣去除不凈,將會造成內(nèi)層連接不良或孔比結(jié)合不良問題甚至斷路問題,所以電鍍前需要先除膠渣。
[0003]目前運(yùn)用在此制程的等離子設(shè)備以固定腔體式設(shè)備為主,主要為人工操作,具體工序?yàn)?作業(yè)員將板料固定或放置在料架上,送入等離子腔室內(nèi),抽真空、再按比例釋放配方氣體,電極轟擊等離子處理,完成后再從料架上拆下板料。
[0004]目前的腔體式設(shè)備在上下料時,由于為人員手動操作,容易造成板料褶皺以及表面劃傷等問題,同時腔體式設(shè)備無法與后制程接駁,從而無法建立整體生產(chǎn)模式。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),能夠保證靜電處理室的真空度,同時提高膠渣去除效果,減少人員直接接觸板料,并且可接駁后置水平線,做到連續(xù)性生產(chǎn)。
[0006]為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用的一個技術(shù)方案是:提供一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),包括:工作臺、支架和底座,所述工作臺固定于支架上,支架的下端設(shè)置底座,所述工作臺上設(shè)置有進(jìn)料端、靜電處理室、出料端和輸送裝置,所述進(jìn)料端與靜電處理室之間、靜電處理室與出料端之間分別設(shè)置有至少一個槽體,所述槽體與靜電處理室各自設(shè)置有隔離門與真空栗,所述靜電處理室內(nèi)設(shè)置有電極,所述水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī)還包括一 PLC控制系統(tǒng)。
[0007]優(yōu)選的,所述進(jìn)料端、槽體、靜電處理室、出料端分別設(shè)置有獨(dú)立的輸送裝置。
[0008]優(yōu)選的,所述輸送裝置為滾輪。
[0009]優(yōu)選的,通過齒輪、傳動鏈輪和馬達(dá)驅(qū)動。
[0010]優(yōu)選的,所述馬達(dá)為伺服馬達(dá),所述伺服馬達(dá)與PLC控制系統(tǒng)之間電氣連接。
[0011]優(yōu)選的,所述進(jìn)料端與靜電處理室之間的槽體為兩個,所述靜電處理室與出料端之間的槽體也為兩個。
[0012]優(yōu)選的,所述進(jìn)料端、槽體、靜電處理室、出料端分別設(shè)置有獨(dú)立的隔離門和真空栗O
[0013]優(yōu)選的,所述進(jìn)料端、槽體、靜電處理室、出料端內(nèi)均設(shè)置有傳感器。
[0014]本實(shí)用新型的有益效果是:1、通過分步抽真空,保證了靜電處理室內(nèi)的真空度;2、免去腔體式設(shè)備人員在固定料架上下板料,避免了板料褶皺以及表面劃傷等問題;3、能夠與前段制程、后段制程相接駁,提高了整個制程的自動化程度,進(jìn)而提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī)一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0016]附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、工作臺,2、支架,3、底座,4、進(jìn)料端,5、靜電處理室,6、出料端,7、槽體一,8、槽體二,9、槽體三,10、槽體四,11、滾輪,12、電極,13、隔離門A,14、隔咼門B,15、隔咼門C,16、隔咼門D,17、隔咼門E,18、隔咼門F0
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述,以使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解,從而對本實(shí)用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0018]請參閱圖1,本實(shí)用新型實(shí)施例包括:
[0019]一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),包括:工作臺1、支架2和底座3,所述工作臺I固定于支架2上,支架2的下端設(shè)置底座3,所述工作臺I上設(shè)置有進(jìn)料端4、靜電處理室
5、出料端6和輸送裝置,所述進(jìn)料端4與靜電處理室5之間、靜電處理室5與出料端6之間分別設(shè)置有至少一個槽體,所述槽體與靜電處理室5各自設(shè)置有隔離門與真空栗,所述靜電處理室5內(nèi)設(shè)置有電極12,所述水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī)還包括一 PLC控制系統(tǒng)。
[0020]在本實(shí)施例中,所述進(jìn)料端4與靜電處理室5之間的槽體為兩個:槽體一 7和槽體二 8,所述靜電處理室5與出料端6之間的槽體也為兩個:槽體三9和槽體四10。
[0021]所述進(jìn)料端4、槽體、靜電處理室5、出料端6分別設(shè)置有獨(dú)立的隔離門、真空栗和滾輪,所述槽體一 7和槽體四10的真空壓強(qiáng)值將控制在760~100 torr ;槽體二 8和槽體三9的真空壓強(qiáng)值將控制在100~10 torr ;靜電處理室5的真空壓強(qiáng)值將控制在10~0.5 torr,從而形成了過渡的“弱真空”槽體,當(dāng)各槽體達(dá)到相應(yīng)真空值要求后,將打開一端的隔離門,完成接送板料的動作,保證了板料的連續(xù)、水平生產(chǎn)。
[0022]本實(shí)用新型的工作過程如下所示:
[0023]一、進(jìn)料端4和出料端6直接對接大氣環(huán)境,氣壓環(huán)境與室內(nèi)相同,且可與上、下游的制程設(shè)備進(jìn)行水平對接;
[0024]二、槽體一 7在傳感器感應(yīng)到板料時,將自動打開隔離門A13,待板料進(jìn)入后,關(guān)閉隔離門A13,再在短時間內(nèi)將槽體一 7的腔體抽真空至100 torr,然后打開隔離門B14,將板料送入槽體二 8 ;
[0025]三、待板件完全進(jìn)入槽體二 8時,隔離門B14關(guān)閉,槽體一 7的隔離門A13打開,引入下一片板料,并進(jìn)行抽真空。槽體二 8的真空環(huán)境將控制在10 torr左右,后將打開隔離門C15,將板料迅速送入靜電處理室5 ;
[0026]四、板料進(jìn)入靜電處里室5以后,關(guān)閉隔離門C15。從而在靜電處理室5中抽真空至反應(yīng)所需范圍,并充入相應(yīng)的反應(yīng)氣體,通過電極12電擊產(chǎn)生電漿,利用電漿中等離子體完成所需要的反應(yīng);
[0027]五、反應(yīng)完畢后,靜電處理室5的隔離門D16打開,將板料送到槽體三9。因此板料的真空環(huán)境就相應(yīng)切換到相對低一等級的槽體三9中。關(guān)閉隔離門D16,然后在槽體三9達(dá)到規(guī)定的真空范圍后,打開下一段的隔離門E17,將板料送入槽體四10 ;
[0028]六、最后板料進(jìn)入槽體四10以后,關(guān)閉隔離門E17,迅速打開隔離門F18,將板件送出至出料端6,便可以進(jìn)入下一段制程。
[0029]以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例,并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍,凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),其特征在于,包括:工作臺、支架和底座,所述工作臺固定于支架上,支架的下端設(shè)置底座,所述工作臺上設(shè)置有進(jìn)料端、靜電處理室、出料端和輸送裝置,所述進(jìn)料端與靜電處理室之間、靜電處理室與出料端之間分別設(shè)置有至少一個槽體,所述槽體與靜電處理室各自設(shè)置有隔離門與真空栗,所述靜電處理室內(nèi)設(shè)置有電極,所述水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī)還包括一 PLC控制系統(tǒng)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),其特征在于,所述進(jìn)料端、槽體、靜電處理室、出料端分別設(shè)置有獨(dú)立的輸送裝置。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),其特征在于,所述輸送裝置為滾輪。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),其特征在于,所述滾輪通過齒輪、傳動鏈輪和馬達(dá)驅(qū)動。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),其特征在于,所述馬達(dá)為伺服馬達(dá),所述伺服馬達(dá)與PLC控制系統(tǒng)之間電氣連接。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),其特征在于,所述進(jìn)料端與靜電處理室之間的槽體為兩個,所述靜電處理室與出料端之間的槽體也為兩個。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),其特征在于,所述進(jìn)料端、槽體、靜電處理室、出料端分別設(shè)置有獨(dú)立的隔離門和真空栗。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),其特征在于,所述進(jìn)料端、槽體、靜電處理室、出料端內(nèi)均設(shè)置有傳感器。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī),包括:工作臺、支架和底座,所述工作臺固定于支架上,支架的下端設(shè)置底座,所述工作臺上設(shè)置有進(jìn)料端、靜電處理室、出料端和輸送裝置,所述進(jìn)料端與靜電處理室之間、靜電處理室與出料端之間分別設(shè)置有至少一個槽體,所述槽體與靜電處理室各自設(shè)置有隔離門與真空泵,所述靜電處理室內(nèi)設(shè)置有電極,所述水平連續(xù)式真空等離子處理機(jī)還包括一PLC控制系統(tǒng)。通過上述方式,本實(shí)用新型能夠保證靜電處理室的真空度,提高膠渣去除效果,減少人員直接接觸板料,并且可接駁后置水平線,做到連續(xù)性生產(chǎn)。
【IPC分類】B08B7/00
【公開號】CN204817348
【申請?zhí)枴緾N201520309663
【發(fā)明人】劉炯峰, 李輝煌, 張秦, 周陽
【申請人】亞智系統(tǒng)科技(蘇州)有限公司
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2015年5月14日
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