技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種聚酰亞胺薄膜，其由含有下述通式(1)所表示的重復(fù)單元的聚酰亞胺所形成，且在波長(zhǎng)590nm處測(cè)定的厚度方向的相位差(Rth)換算為厚度為10μm時(shí)的值為?100～100nm。[化1][式(1)中，R1、R2、R3表示各自獨(dú)立的氫原子等，R10表示特定的基團(tuán)，n表示0～12的整數(shù)]。

技術(shù)研發(fā)人員：小松伸一;古俁步;藤代理惠子;京武亞紗子
受保護(hù)的技術(shù)使用者：JXTG能源株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2016.02.12
技術(shù)公布日：2017.10.13