對(duì)準(zhǔn)方法以及對(duì)準(zhǔn)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及對(duì)準(zhǔn)方法以及對(duì)準(zhǔn)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]例如公知專利文獻(xiàn)I公開(kāi)的如下的對(duì)準(zhǔn)裝置，該對(duì)準(zhǔn)裝置設(shè)于成膜裝置，進(jìn)行掩模與基板之間的對(duì)準(zhǔn)，所述成膜裝置通過(guò)所述掩模的掩模開(kāi)口部將成膜材料淀積在所述基板上，從而在所述基板上形成薄膜。
[0003]但是，近年來(lái)要求更高精度的對(duì)準(zhǔn)，使用高倍率相機(jī)對(duì)掩模標(biāo)記和基板標(biāo)記進(jìn)行攝像來(lái)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)的情況較多。使用該高倍率相機(jī)的對(duì)準(zhǔn)例如按照?qǐng)D1所圖示的流程進(jìn)行。
[0004]具體而言，將掩模搬入處理室內(nèi)(a.)，將已搬入的掩模設(shè)置在掩模架上(b.)，利用運(yùn)送機(jī)器人將基板搬入處理室內(nèi)(c.)，向基板的兩端施加外力，相對(duì)于掩模進(jìn)行粗定位以使掩模標(biāo)記和基板標(biāo)記進(jìn)入相機(jī)的攝像范圍(d.)，將基板設(shè)置在XY工作臺(tái)上，利用相機(jī)計(jì)測(cè)掩模標(biāo)記和基板標(biāo)記的坐標(biāo)(e.)，以該坐標(biāo)為基準(zhǔn)適當(dāng)?shù)乜刂芚Y工作臺(tái)的移動(dòng)量，對(duì)基板相對(duì)于掩模進(jìn)行微定位(f.)，使基板與掩模緊貼(g.)，最后利用相機(jī)計(jì)測(cè)對(duì)準(zhǔn)是否按規(guī)定的精度進(jìn)行(h.)。
[0005]但是，上述以往的對(duì)準(zhǔn)使用了高倍率相機(jī)，結(jié)果是，存在如下情況:攝像視野狹窄，不能使掩模標(biāo)記和基板標(biāo)記進(jìn)入攝像視野內(nèi)，從而不能良好地進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)。
[0006]而且，由于掩模運(yùn)送精度低，進(jìn)行粗定位時(shí)，可能掩模標(biāo)記的位置與預(yù)先被設(shè)定在規(guī)定位置的相機(jī)的攝像中心不合，從而對(duì)準(zhǔn)的精度降低。
[0007]并且，粗定位時(shí)，由于向基板直接施加外力來(lái)進(jìn)行粗定位，因此如果基板的接觸位置的邊緣等立起，則力集中在接觸的邊緣的一點(diǎn)，基板可能損壞。尤其是大型的基板，由于自重增加，施加于一點(diǎn)的力增大，損壞的風(fēng)險(xiǎn)增大。
[0008]甚至，損壞的基板的碎片附著在基板等上，由此可能導(dǎo)致裝置的生產(chǎn)效率下降。
[0009]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0010]專利文獻(xiàn)
[0011 ] 專利文獻(xiàn)I:日本特許第4510609號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]發(fā)明所要解決的課題
[0013]本發(fā)明解決上述那樣的問(wèn)題，目的在于提供一種對(duì)準(zhǔn)方法以及對(duì)準(zhǔn)裝置，能夠在不損壞基板的情況下在高攝像倍率的攝像部的攝像視野內(nèi)捕捉掩模標(biāo)記和基板標(biāo)記，能夠進(jìn)行高精度的對(duì)準(zhǔn)，實(shí)用性優(yōu)異。
[0014]用于解決課題的手段
[0015]參照附圖對(duì)本發(fā)明的主旨進(jìn)行說(shuō)明。
[0016]涉及一種對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，
[0017]該對(duì)準(zhǔn)方法包括:
[0018]掩模保持工序，將掩模11保持在掩模臺(tái)上；
[0019]第I攝像工序，利用第I攝像部13對(duì)設(shè)在所述掩模11上的位置檢測(cè)用的第I標(biāo)記15進(jìn)行攝像；
[0020]第I移動(dòng)工序，根據(jù)所述第I攝像工序中得到的攝像數(shù)據(jù)獲得所述第I標(biāo)記15的位置信息，基于該第I標(biāo)記15的位置信息使所述第2攝像部14移動(dòng)，以使設(shè)在所述掩模11上的位置檢測(cè)用的第2標(biāo)記16位于攝像倍率高于所述第I攝像部13的第2攝像部14的攝像范圍內(nèi)；
[0021 ]基板保持工序，將基板12保持在基板架上；
[0022]配置工序，將所述掩模11與基板12配置成隔著間隔重合；
[0023]第2攝像工序，利用第I攝像部13對(duì)設(shè)在所述掩模11上的位置檢測(cè)用的第I標(biāo)記15和設(shè)在所述基板12上的位置檢測(cè)用的第3標(biāo)記17同時(shí)進(jìn)行攝像；
[0024]第I對(duì)準(zhǔn)工序，根據(jù)所述第2攝像工序中得到的攝像數(shù)據(jù)獲得所述第I標(biāo)記15及所述第3標(biāo)記17的位置信息，基于該第I標(biāo)記15及第3標(biāo)記17的位置信息使所述基板12與所述掩模11相對(duì)移動(dòng)；
[0025]第3攝像工序，利用所述第I移動(dòng)工序中已移動(dòng)的所述第2攝像部14，對(duì)所述第2標(biāo)記16和設(shè)在所述基板12上的位置檢測(cè)用的第4標(biāo)記18同時(shí)進(jìn)行攝像；
[0026]第2對(duì)準(zhǔn)工序，根據(jù)所述第3攝像工序中得到的攝像數(shù)據(jù)獲得所述第2標(biāo)記16及所述第4標(biāo)記18的位置信息，基于該第2標(biāo)記16及第4標(biāo)記18的位置信息使所述基板12與所述掩模11相對(duì)移動(dòng)；以及
[0027]緊貼工序，在所述第2對(duì)準(zhǔn)工序之后，使所述基板12與所述掩模11緊貼，
[0028]使用通過(guò)由攝像倍率低于所述第2攝像部14的第I攝像部13進(jìn)行攝像的所述第I攝像工序得到的攝像數(shù)據(jù)，來(lái)通過(guò)所述第I移動(dòng)工序?qū)Ω邤z像倍率的所述第2攝像部14進(jìn)行定位，以定位后的所述第2攝像部14的攝像范圍為基準(zhǔn)，按照所述第I對(duì)準(zhǔn)工序和所述第2對(duì)準(zhǔn)工序這兩個(gè)階段進(jìn)行所述基板12和所述掩模11的位置校正。
[0029]此外，涉及權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，在所述第I攝像工序及所述第I移動(dòng)工序之前進(jìn)行所述掩模保持工序。
[0030]此外，涉及權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，在所述第2攝像工序及所述第I對(duì)準(zhǔn)工序之前進(jìn)行所述配置工序。
[0031 ]此外，涉及權(quán)利要求2所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，在所述第2攝像工序及所述第I對(duì)準(zhǔn)工序之前進(jìn)行所述配置工序。
[0032]此外，涉及一種對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，該對(duì)準(zhǔn)方法包括:
[0033]基板保持工序，將基板12保持在基板架上；
[0034]第I攝像工序，利用第I攝像部13對(duì)設(shè)在所述基板12上的位置檢測(cè)用的第3標(biāo)記17進(jìn)行攝像；
[0035]第I移動(dòng)工序，根據(jù)所述第I攝像工序中得到的攝像數(shù)據(jù)獲得所述第3標(biāo)記17的位置信息，基于該第3標(biāo)記17的位置信息使所述第2攝像部14移動(dòng)，以使設(shè)在所述基板12上的位置檢測(cè)用的第4標(biāo)記18位于攝像倍率高于所述第I攝像部13的第2攝像部14的攝像范圍內(nèi)；
[0036]掩模保持工序，將掩模11保持在掩模臺(tái)上；
[0037]配置工序，將所述基板12與掩模11配置成隔著間隔重合；
[0038]第2攝像工序，利用第I攝像部13對(duì)設(shè)在所述掩模11上的位置檢測(cè)用的第I標(biāo)記15和設(shè)在所述基板12上的位置檢測(cè)用的第3標(biāo)記17同時(shí)進(jìn)行攝像；
[0039]第I對(duì)準(zhǔn)工序，根據(jù)所述第2攝像工序中得到的攝像數(shù)據(jù)獲得所述第I標(biāo)記15及所述第3標(biāo)記17的位置信息，基于該第I標(biāo)記15及第3標(biāo)記17的位置信息使所述基板12與所述掩模11相對(duì)移動(dòng)；
[0040]第3攝像工序，利用所述第I移動(dòng)工序中已移動(dòng)的所述第2攝像部14，對(duì)所述第2標(biāo)記16和設(shè)在所述基板12上的位置檢測(cè)用的第4標(biāo)記18同時(shí)進(jìn)行攝像；
[0041]第2對(duì)準(zhǔn)工序，根據(jù)所述第3攝像工序中得到的攝像數(shù)據(jù)獲得所述第2標(biāo)記16及所述第4標(biāo)記18的位置信息，基于該第2標(biāo)記16及第4標(biāo)記18的位置信息使所述基板12與所述掩模11相對(duì)移動(dòng)；以及
[0042]緊貼工序，在所述第2對(duì)準(zhǔn)工序之后，使所述基板12與所述掩模11緊貼，
[0043]使用通過(guò)由攝像倍率低于所述第2攝像部14的第I攝像部13進(jìn)行攝像的所述第I攝像工序得到的攝像數(shù)據(jù)，來(lái)通過(guò)所述第I移動(dòng)工序?qū)Ω邤z像倍率的所述第2攝像部14進(jìn)行定位，以定位后的所述第2攝像部14的攝像范圍為基準(zhǔn)，按照所述第I對(duì)準(zhǔn)工序和所述第2對(duì)準(zhǔn)工序這兩個(gè)階段進(jìn)行所述基板12和所述掩模11的位置校正。
[0044]此外，涉及權(quán)利要求5所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，在所述第I攝像工序及所述第I移動(dòng)工序之前進(jìn)行所述基板保持工序。
[0045]此外，涉及權(quán)利要求5所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，在所述第2攝像工序及所述第I對(duì)準(zhǔn)工序之前進(jìn)行所述配置工序。
[0046]此外，涉及權(quán)利要求6所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，在所述第2攝像工序及所述第I對(duì)準(zhǔn)工序之前進(jìn)行所述配置工序。
[0047]此外，涉及權(quán)利要求1至8中的任意一項(xiàng)所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，在所述第3攝像工序及第2對(duì)準(zhǔn)工序之前進(jìn)行所述第I攝像工序及所述第I移動(dòng)工序與所述第2攝像工序及所述第I對(duì)準(zhǔn)工序。
[0048]此外，涉及權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，依次進(jìn)行所述掩模保持工序、所述第I攝像工序、所述第I移動(dòng)工序、所述基板保持工序、所述配置工序、所述第2攝像工序、所述第I對(duì)準(zhǔn)工序、所述第3攝像工序、所述第2對(duì)準(zhǔn)工序以及所述緊貼工序。
[0049]此外，涉及權(quán)利要求5所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，依次進(jìn)行所述掩模保持工序、所述基板保持工序、所述第I攝像工序、所述第I移動(dòng)工序、所述配置工序、所述第2攝像工序、所述第I對(duì)準(zhǔn)工序、所述第3攝像工序、所述第2對(duì)準(zhǔn)工序以及所述緊貼工序。
[0050]此外，涉及權(quán)利要求1至4中的任意一項(xiàng)所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于