本公開涉及鍍膜，特別涉及一種鍍膜裝置與鍍膜設備。

背景技術：

1、真空鍍膜是一種在較高真空度下對基材進行鍍膜的方法，通常使用真空鍍膜設備來鍍膜?；脑谡婵涨恢械奈恢貌煌瑫绊戝兡べ|(zhì)量，比如膜層的均勻性、厚度與致密性等等。

2、對于一個鍍膜設備，真空腔的體積一般固定的，對于不同的鍍膜需求，通常需要改變基材在真空腔中的位置來實現(xiàn)，常規(guī)的真空鍍膜設備難以將基材精確移動至需要的位置來實現(xiàn)多樣化鍍膜的需求，難以滿足一個鍍膜設備對基材實現(xiàn)多種鍍膜的要求。

3、因此，需要一種新的鍍膜裝置與鍍膜設備。

技術實現(xiàn)思路

1、本公開的實施例提供一種鍍膜裝置，包括：真空腔，適于容納放置基材的載臺，所述鍍膜裝置還包括：聯(lián)軸器，用于帶動所述載臺轉動；旋轉裝置，設于所述真空腔的外部，適于帶動所述聯(lián)軸器轉動；密封通道，適于將所述旋轉裝置傳遞轉動至所述載臺的通道進行密封，其一端與所述真空腔的第一壁密封連接且與所述真空腔連通，所述載臺的轉軸的至少一部分以及所述聯(lián)軸器位于所述密封通道內(nèi)。

2、在一些實施例中，所述密封通道由可伸縮的波紋管限定形成。

3、在一些實施例中，所述鍍膜裝置還包括：移動板，設于所述真空腔的外部，所述旋轉裝置與所述移動板固定連接，且所述密封通道的另一端密封地連接于所述移動板的第一側；旋轉傳動組件，與所述旋轉裝置和所述聯(lián)軸器連接，以便帶動所述聯(lián)軸器轉動。

4、在一些實施例中，所述旋轉傳動組件包括：密封傳動裝置，包括密封連接的固定部與旋轉軸，所述固定部固定地設于所述移動板的第二側，所述旋轉軸與所述聯(lián)軸器連接，所述旋轉軸適于相對所述固定部旋轉；同步傳動裝置，與所述旋轉裝置和所述密封傳動裝置分別連接，以便所述旋轉裝置將轉動同步傳遞至所述密封傳動裝置；所述移動板上設有開口，所述密封傳動裝置的旋轉軸穿過所述開口與所述聯(lián)軸器連接，所述密封傳動裝置、所述密封通道與所述真空腔組成密閉空間。

5、在一些實施例中，所述波紋管包括：第一端與第二端，所述第一端與所述真空腔的第一壁密封連接且與所述真空腔連通，所述第二端密封連接于所述移動板的第一側；所述波紋管適于在所述移動板移動時伸長或縮短。

6、在一些實施例中，所述鍍膜裝置還包括：移動裝置，設于所述真空腔的外部，與所述移動板連接，適于帶動所述移動板移動。

7、在一些實施例中，所述移動裝置包括：螺桿升降機，包括伺服電機與若干螺套，所述若干螺套固定設于所述移動板的第二側，以便在所述伺服電機工作時，所述螺套移動從而帶動所述移動板移動。

8、在一些實施例中，所述鍍膜裝置還包括：第一固定板，與所述移動板的第二側相間隔地設置；位移傳感器，設于所述第一固定板的邊緣，用于監(jiān)測所述移動板的位置。

9、在一些實施例中，所述鍍膜裝置還包括：第二固定板，設于所述真空腔的第一壁與所述移動板之間；若干導向柱，分別與所述第一固定板與所述第二固定板連接固定；極限位置開關器，與所述第二固定板固定連接，包括沿所述移動板的移動方向分布的第一開關與第二開關，用于限定所述移動板的極限位置。

10、在一些實施例中，所述極限位置開關器還包括軌道，所述軌道沿所述移動板的移動方向延伸，所述第一開關與所述第二開關適于在所述軌道上移動以調(diào)節(jié)所述移動板的極限位置。

11、本公開的實施例還提供一種鍍膜設備，包括：以上任意的鍍膜裝置；控制系統(tǒng)，包括：移動控制單元，適于控制所述移動裝置的啟停，以便在位移傳感器監(jiān)測所述移動板的位置達到預設位置時控制所述移動裝置關閉。

12、在一些實施例中，所述移動控制單元適于在極限位置開關器觸發(fā)時控制所述移動裝置關閉。

13、在一些實施例中，所述控制系統(tǒng)還包括：旋轉控制單元，適于控制所述旋轉裝置的啟停以及所述載臺的轉動速度。

14、與現(xiàn)有技術相比，本公開實施例的技術方案具有以下有益效果：

15、本公開的實施例的鍍膜裝置，通過旋轉裝置帶動聯(lián)軸器轉動進而帶動放置基材的載臺的轉軸轉動，從而使基材在真空腔內(nèi)轉動，以使基材轉動到需要的位置，在鍍膜時可以保持基材的旋轉以使鍍膜更加均勻。

16、本公開的實施例的旋轉裝置設于真空腔的外部，與鍍膜空間隔離，避免了鍍膜材料進入旋轉裝置影響其運行，同時避免了旋轉電機散熱影響鍍膜空間的溫度，相比于旋轉裝置放置于真空腔內(nèi)部需要采取遮蔽或隔離措施以消除鍍膜空間與旋轉裝置彼此的影響，本公開的實施例的鍍膜裝置整體結構更為簡單，便于安裝。

17、本公開的實施例的密封通道適于將所述旋轉裝置傳遞轉動至所述載臺的通道進行密封，即所述密封傳動裝置、所述密封通道與所述真空腔組成密閉空間，從而保證了真空腔內(nèi)的真空度的穩(wěn)定性。

18、本公開的實施例的鍍膜裝置，通過移動裝置帶動移動板移動，進而帶動放置基材的載臺在真空腔內(nèi)移動，從而可以將基材移動至需要的位置，例如與等離子體源或距離靶材一定距離的位置，以滿足不同鍍膜工藝、不同基材與不同鍍膜膜層的鍍膜要求。并且，對于真空鍍膜而言，由于真空腔的體積通常比較固定，不同的鍍膜工藝、不同的基材數(shù)量與分布、不同的膜層鍍膜，要求基材處于特定位置或要求基材移動以達到理想的鍍膜效果，本公開的鍍膜裝置可以滿足基材移動以達到理想的鍍膜效果。

19、本公開的實施例的移動裝置設于真空腔的外部，與鍍膜空間隔離，避免了鍍膜材料進入移動裝置影響其運行，同時避免了移動裝置的螺桿升降機的散熱影響鍍膜空間的溫度，相比于移動裝置放置于真空腔內(nèi)部需要采取遮蔽或隔離措施以消除鍍膜空間與移動裝置彼此的影響，本公開的實施例的鍍膜裝置整體結構更為簡單，便于安裝。

20、本公開的實施例的位移傳感器，用于監(jiān)測移動板的位置，在移動板移動至設定位置時被精確監(jiān)測，從而將基材精確移動至設定的位置，有利于鍍膜的精確控制，可以滿足特定的鍍膜需求。

21、本公開的實施例的鍍膜設備的控制系統(tǒng)，通過移動控制單元控制移動裝置的啟停，通過旋轉控制單元控制旋轉裝置的啟停以及載臺的旋轉速度，實現(xiàn)通過旋轉和移動來改變基材的位置，或使鍍膜時基材處于運動狀態(tài)，可以滿足多樣化的鍍膜需求，在基材上形成高質(zhì)量與均勻的膜層。

技術特征：

1.一種鍍膜裝置，包括：真空腔，適于容納放置基材的載臺，其特征在于，還包括：

2.根據(jù)權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述密封通道由可伸縮的波紋管限定形成。

3.根據(jù)權利要求2所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜裝置還包括：

4.根據(jù)權利要求3所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述旋轉傳動組件包括：

5.根據(jù)權利要求3所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述波紋管包括：

6.根據(jù)權利要求3-5中任一項所述的鍍膜裝置，其特征在于，還包括：

7.根據(jù)權利要求6所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述移動裝置包括：

8.根據(jù)權利要求7所述的鍍膜裝置，其特征在于，還包括：

9.根據(jù)權利要求8所述的鍍膜裝置，其特征在于，還包括：

10.根據(jù)權利要求9所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述極限位置開關器還包括軌道，所述軌道沿所述移動板的移動方向延伸，所述第一開關與所述第二開關適于在所述軌道上移動以調(diào)節(jié)所述移動板的極限位置。

11.一種鍍膜設備，其特征在于，包括：

12.根據(jù)權利要求11所述的鍍膜設備，其特征在于，所述移動控制單元適于在極限位置開關器觸發(fā)時控制所述移動裝置關閉。

13.根據(jù)權利要求11或12所述的鍍膜設備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)還包括：旋轉控制單元，適于控制所述旋轉裝置的啟停以及所述載臺的轉動速度。

技術總結
本公開的實施例提供一種鍍膜裝置，包括：真空腔，適于容納放置基材的載臺；聯(lián)軸器，用于帶動所述載臺轉動；旋轉裝置，設于所述真空腔的外部，適于帶動所述聯(lián)軸器轉動；密封通道，適于將所述旋轉裝置傳遞轉動至所述載臺的通道進行密封，其一端與所述真空腔的第一壁密封連接且與所述真空腔連通，所述載臺的轉軸的至少一部分以及所述聯(lián)軸器位于所述密封通道內(nèi)。采用本公開實施例的鍍膜裝置，可以滿足真空鍍膜條件下的多樣化的鍍膜需求。

技術研發(fā)人員：宗堅,韓輝
受保護的技術使用者：江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
技術研發(fā)日：20231218
技術公布日：2024/12/30