本發(fā)明涉及曝光設(shè)備，尤其是涉及一種高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、雙面曝光自動(dòng)線常采用兩臺(tái)曝光機(jī)外加移栽機(jī)、翻板機(jī)、粘塵機(jī)和上下料等設(shè)備配合，一臺(tái)曝光機(jī)曝光正面，另外一臺(tái)曝光機(jī)曝光反面，以此完成雙面曝光。相關(guān)技術(shù)中，為了實(shí)現(xiàn)在單臺(tái)面曝光機(jī)上實(shí)現(xiàn)快速雙面曝光，常在單臺(tái)面曝光機(jī)上或附近增加額外的移栽機(jī)和翻板機(jī)等設(shè)備，然而額外的移栽機(jī)和翻板機(jī)等設(shè)備增加了雙面曝光的成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，有利于降低曝光設(shè)備的成本，同時(shí)減小了曝光的組線，提升曝光設(shè)備的產(chǎn)能，還減小了曝光設(shè)備的占地面積。

2、根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，包括：基座；曝光組件，所述曝光組件設(shè)在所述基座的上方；基板載臺(tái)，所述基板載臺(tái)設(shè)在所述基座和所述曝光組件之間，用于吸附待曝光件，所述基板載臺(tái)沿所述基座的長(zhǎng)度方向可移動(dòng)；兩個(gè)翻板組件，兩個(gè)所述翻板組件均設(shè)在所述基板載臺(tái)和所述曝光組件之間，每個(gè)所述翻板組件包括吸盤件和連接桿，所述吸盤件與所述連接桿轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述連接桿沿所述基座的寬度方向可移動(dòng)；其中，兩個(gè)所述翻板組件的兩個(gè)所述吸盤件的轉(zhuǎn)動(dòng)方向相反。

3、根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，通過兩個(gè)翻板組件的配合，實(shí)現(xiàn)了待曝光件的高效單機(jī)雙面曝光，不需要額外的移栽機(jī)、翻板機(jī)等設(shè)備，有利于降低曝光設(shè)備的成本，同時(shí)減小了曝光的組線，提升曝光設(shè)備的產(chǎn)能，還減小了曝光設(shè)備的占地面積。

4、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述待曝光件在所述基座的厚度方向上的兩側(cè)表面分別為正面和背面，兩個(gè)所述吸盤件分別為第一吸盤件和第二吸盤件；在正面曝光過程中，所述基板載臺(tái)吸附所述背面，并運(yùn)動(dòng)至所述曝光組件的下方進(jìn)行正面曝光；在所述正面曝光切換至背面曝光過程中，所述第一吸盤件轉(zhuǎn)動(dòng)至與所述基板載臺(tái)平行并吸附所述正面后，所述第一吸盤件轉(zhuǎn)動(dòng)至與所述第二吸盤件平行，所述第二吸盤件吸附所述背面并轉(zhuǎn)動(dòng)至與所述基板載臺(tái)平行，所述基板載臺(tái)吸附所述正面并移動(dòng)至所述曝光組件的下方進(jìn)行所述背面曝光。

5、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述吸盤件包括本體，所述本體與所述連接桿轉(zhuǎn)動(dòng)連接；多個(gè)吸桿，多個(gè)所述吸桿間隔設(shè)在所述本體上，每個(gè)所述吸桿為中空結(jié)構(gòu)，每個(gè)所述吸桿的一端適于與抽真空裝置連通；其中，多個(gè)所述吸桿抽真空時(shí)，多個(gè)所述吸桿吸附所述待曝光件。

6、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述本體上形成有多個(gè)通孔，多個(gè)所述通孔呈陣列式排布。

7、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備還包括多個(gè)支撐件，多個(gè)所述支撐件分別設(shè)在所述基座的寬度方向的兩側(cè)，每個(gè)所述支撐件沿所述基座的厚度方向延伸；第一導(dǎo)向件，所述第一導(dǎo)向件與多個(gè)所述支撐件相連，所述第一導(dǎo)向件和所述連接桿中其中一個(gè)上形成有第一滑槽，所述第一導(dǎo)向件和所述連接桿中的另一個(gè)上設(shè)有第一滑軌，所述第一滑軌與所述第一滑槽滑動(dòng)配合。

8、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，多個(gè)所述支撐件的遠(yuǎn)離所述基座的一端連接有連接板，所述第一導(dǎo)向件與所述連接板相連。

9、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述連接板位于所述曝光組件的下方，所述連接板上形成有多個(gè)曝光孔，所述曝光組件包括多個(gè)曝光頭，多個(gè)所述曝光頭與多個(gè)所述曝光孔一一對(duì)應(yīng)。

10、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述基座和所述基板載臺(tái)中其中一個(gè)上形成有第二滑槽，所述基座和所述基板載臺(tái)中的另一個(gè)上設(shè)有第二滑軌，所述第二滑軌與所述第二滑槽滑動(dòng)配合。

11、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述基座的鄰近所述基板載臺(tái)的一側(cè)設(shè)有輸送帶，所述輸送帶沿所述基座的長(zhǎng)度方向延伸，且所述輸送帶與所述基板載臺(tái)相連。

12、根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述基板載臺(tái)上形成有氣體通道，所述氣體通道的一端適于與抽真空裝置連通；其中，所述氣體通道抽真空時(shí)，所述基板載臺(tái)吸附所述待曝光件。

13、本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。

技術(shù)特征：

1.一種高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述待曝光件在所述基座的厚度方向上的兩側(cè)表面分別為正面和背面，兩個(gè)所述吸盤件分別為第一吸盤件和第二吸盤件；

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述吸盤件包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述本體上形成有多個(gè)通孔，多個(gè)所述通孔呈陣列式排布。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，還包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，多個(gè)所述支撐件的遠(yuǎn)離所述基座的一端連接有連接板，所述第一導(dǎo)向件與所述連接板相連。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述連接板位于所述曝光組件的下方，所述連接板上形成有多個(gè)曝光孔，所述曝光組件包括多個(gè)曝光頭，多個(gè)所述曝光頭與多個(gè)所述曝光孔一一對(duì)應(yīng)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述基座和所述基板載臺(tái)中其中一個(gè)上形成有第二滑槽，所述基座和所述基板載臺(tái)中的另一個(gè)上設(shè)有第二滑軌，所述第二滑軌與所述第二滑槽滑動(dòng)配合。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述基座的鄰近所述基板載臺(tái)的一側(cè)設(shè)有輸送帶，所述輸送帶沿所述基座的長(zhǎng)度方向延伸，且所述輸送帶與所述基板載臺(tái)相連。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，其特征在于，所述基板載臺(tái)上形成有氣體通道，所述氣體通道的一端適于與抽真空裝置連通；

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，包括基座、曝光組件、基板載臺(tái)和兩個(gè)翻板組件。曝光組件設(shè)在基座的上方。基板載臺(tái)設(shè)在基座和曝光組件之間，用于吸附待曝光件，基板載臺(tái)沿基座的長(zhǎng)度方向可移動(dòng)。兩個(gè)翻板組件均設(shè)在基板載臺(tái)和曝光組件之間，每個(gè)翻板組件包括吸盤件和連接桿，吸盤件與連接桿轉(zhuǎn)動(dòng)連接，連接桿沿基座的寬度方向可移動(dòng)。其中，兩個(gè)翻板組件的兩個(gè)吸盤件的轉(zhuǎn)動(dòng)方向相反。根據(jù)本發(fā)明的高效單機(jī)雙面曝光設(shè)備，通過兩個(gè)翻板組件的配合，實(shí)現(xiàn)了待曝光件的高效單機(jī)雙面曝光，不需要額外的移栽機(jī)、翻板機(jī)等設(shè)備，有利于降低曝光設(shè)備的成本，同時(shí)減小了曝光的組線，提升曝光設(shè)備的產(chǎn)能，還減小了曝光設(shè)備的占地面積。

技術(shù)研發(fā)人員：曲魯杰,程剛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/30