本實用新型屬于藍(lán)寶石加工設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種藍(lán)寶石用研磨機(jī)。

背景技術(shù)：

用作半導(dǎo)體襯底的光學(xué)藍(lán)寶石晶體基片對其表面有很高的要求。藍(lán)寶石晶片研磨是藍(lán)寶石晶片制造中非常重要的一項工藝流程，它決定了藍(lán)寶石研磨后的TTV 和WARP，以及表面粗糙度。

藍(lán)寶石常用的研磨液是碳化硼水溶液，加上些許防銹液，碳化硼比較昂貴，研磨過程一直需要均勻的添加研磨液，因此需要研磨液捅回收研磨液，并利用泵浦對磨盤添加穩(wěn)定流量的研磨液。

現(xiàn)有的技術(shù)在應(yīng)用中，一般先對漿料進(jìn)行攪拌，然后倒入漿料桶中，使用漿料泵加輸送管的方式，把漿料輸送到研磨盤面上進(jìn)行供給，研磨后的漿料重新回到漿料桶中，再循環(huán)利用，實際在研磨粉配置過程中，漿料攪拌往往很不均勻，沒有完全攪拌開，研磨漿料懸浮性差，很容易造成晶片破裂和粗糙度超差的情況，這些崩邊和破裂的晶片顆粒會進(jìn)入到漿料中，循環(huán)使用再次輸送到盤面上，會造成整桶漿料不能繼續(xù)使用而浪費，研磨的晶片表面劃傷，出現(xiàn)劃痕，嚴(yán)重時會產(chǎn)生整盤爆盤，晶片全部損失的情況，加上研磨工藝過程控制不到位，造成研磨優(yōu)質(zhì)率下降，成本增高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是如何提高藍(lán)寶石研磨液的均勻性。

具體的，采用的技術(shù)方案為：

一種藍(lán)寶石用研磨機(jī)，包括研磨機(jī)本體，所述研磨機(jī)本體外部放置有漿料筒、研磨桶和廢漿料筒，所述研磨桶包括研磨機(jī)構(gòu)和儲料桶，所述儲料桶位于研磨機(jī)構(gòu)下方并與研磨機(jī)構(gòu)的出料口連接；所述儲料桶通過輸送軟管與蠕動泵的輸送管連接，蠕動泵的泵出管通過泵出軟管連接到研磨上盤的漿料管接頭；漿料筒的輸出端通過管道連接到研磨機(jī)構(gòu)的輸入口，廢漿料筒對應(yīng)研磨機(jī)本體上的漿料排出口。

在使用時，應(yīng)當(dāng)先啟動漿料筒自身的攪拌裝置，以快速攪拌的方式將沉淀的磨料攪動起來，再切換慢速攪拌，保證磨料懸浮，啟動漿料筒的輸送泵將漿料泵入研磨桶的研磨機(jī)構(gòu)，對漿料進(jìn)行研磨，研磨的過程中漿料得以充分混合均勻?；靹虻臐{料通過蠕動泵送入研磨機(jī)用于研磨。

本實用新型具有如下有益效果：

本實用新型通過增加研磨桶，對輸送往研磨機(jī)的研磨液（漿料）進(jìn)行研磨式混合，能夠確保研磨液的均勻性，同時采用蠕動泵輸送研磨液，避免研磨液在輸送過程中的沉淀現(xiàn)象，從而基本避免了研磨液懸浮性差導(dǎo)致的晶片表面劃傷。

同時，也不會產(chǎn)生崩邊和破裂的晶片顆粒進(jìn)入研磨液中，避免了研磨液的循環(huán)使用對藍(lán)寶石晶片的質(zhì)量影響。

采用研磨桶后，原漿料筒的攪拌機(jī)構(gòu)只需要維持保證磨料不沉淀的基本轉(zhuǎn)速即可，功率消耗低，裝置整體能夠并未顯著增加。

附圖說明

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，1為研磨機(jī)本體，2為漿料筒，3為研磨桶，4為研磨機(jī)構(gòu)，5為儲料桶，6為蠕動泵，7為漿料排出口，8為廢漿料筒，9為研磨上盤。

具體實施方式

下面的實施例可以使本領(lǐng)域技術(shù)人員更全面地理解本實用新型，但不以任何方式限制本實用新型。

實施例1

如圖1所示，一種藍(lán)寶石用研磨機(jī)，包括研磨機(jī)本體1，所述研磨機(jī)本體1外部放置有漿料筒2、研磨桶3和廢漿料筒8，所述研磨桶3包括研磨機(jī)構(gòu)4和儲料桶5，所述儲料桶5位于研磨機(jī)構(gòu)4下方并與研磨機(jī)構(gòu)4的出料口連接；所述儲料桶5通過輸送軟管與蠕動泵6的輸送管連接，蠕動泵6的泵出管通過泵出軟管連接到研磨上盤9的漿料管接頭；漿料筒2的輸出端通過管道連接到研磨機(jī)構(gòu)4的輸入口，廢漿料筒8對應(yīng)研磨機(jī)本體1上的漿料排出口7。

本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，以上實施例僅是示例性實施例，在不背離本實用新型的精神和范圍的情況下，可以進(jìn)行多種變化、替換以及改變。