本發(fā)明涉及晶體加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置。

背景技術(shù)：

隨著科技的發(fā)生，電子行業(yè)越來發(fā)達(dá)，人們所使用的電子產(chǎn)品也原來越精致，藍(lán)寶石晶體作為一種重要的技術(shù)晶體，已被廣泛地應(yīng)用于科學(xué)技術(shù)、國防與民用工業(yè)、電子技術(shù)的許多領(lǐng)域。比如透紅外窗口材料，微電子領(lǐng)域的襯底基片，激光基質(zhì)、光學(xué)元件及其它用途等，目前顯示屏可能也會采用藍(lán)寶石晶體進(jìn)行制作，但是藍(lán)寶石晶體的加工及其復(fù)雜，尤其是藍(lán)寶石晶體片，由于厚度較薄，且硬度較脆，在生產(chǎn)時如何固定是很大的難題，且現(xiàn)有的藍(lán)寶石晶體片打磨和拋光所使用的都是傳統(tǒng)的機(jī)械加工設(shè)備，無法滿足其高質(zhì)量的要求，對其大批量生產(chǎn)造成影響，對此我們推出一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)，而提出的一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：

設(shè)計一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置，包括箱體和貫穿于箱體兩側(cè)的托盤，所述箱體上分別設(shè)有用于托盤移動的滑軌和驅(qū)動托盤的驅(qū)動裝置，所述托盤內(nèi)設(shè)有空腔，且所述托盤的上端均勻設(shè)有與空腔相連通的通孔，所述托盤的兩端分別設(shè)有與空腔相連通的入風(fēng)口和出風(fēng)口，且所述入風(fēng)口通過氣管連接有高壓氣泵，所述箱體的內(nèi)腔頂部分別通過升降機(jī)構(gòu)和滑動機(jī)構(gòu)安裝有打磨裝置、拋光裝置和清洗裝置，所述打磨裝置包括打磨砂輪，所述打磨砂輪的外側(cè)設(shè)有防護(hù)罩，且所述防護(hù)罩的兩側(cè)內(nèi)壁均設(shè)有集污槽，且兩個所述集污槽上均設(shè)有吸塵管，且所述吸塵管連接有吸塵裝置。

優(yōu)選的，所述清洗裝置與托盤的寬度相同，且所述清洗裝置包括儲水箱，所述儲水箱連接有水泵，所述儲水箱的下端兩側(cè)分別設(shè)有吸塵頭和毛刷，所述吸塵頭與吸塵裝置相連接，所述儲水箱上還設(shè)有多個噴管，所述噴管的出水口位于毛刷的一側(cè)。

優(yōu)選的，所述通孔呈矩陣式設(shè)置在托盤上，且所述空腔內(nèi)設(shè)有多根貫穿托盤兩側(cè)的通風(fēng)管，且每根所述通風(fēng)管均與在同一直線上的多個通孔相連通，多根所述通風(fēng)管均與高壓氣泵相連接。

優(yōu)選的，所述滑動機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在箱體內(nèi)腔頂部的滑槽和滑塊，所述箱體上分別設(shè)有多個驅(qū)動滑塊的液壓缸。

優(yōu)選的，每個所述升降機(jī)構(gòu)的一端分別與每個滑塊相連接，且每個所述升降機(jī)構(gòu)遠(yuǎn)離滑塊的一端分別與打磨裝置、拋光裝置、和清洗裝置相連接，所述升降機(jī)構(gòu)為氣缸或液壓缸。

優(yōu)選的，所述打磨裝置和拋光裝置上均設(shè)有噴灑裝置，且所述噴灑裝置包括用于儲液的盒體以及與盒體相連接的噴頭。

優(yōu)選的，所述拋光裝置包括拋光砂輪，所述拋光砂輪的外側(cè)套接有套環(huán)，且所述套環(huán)通過固定架安裝在拋光裝置的驅(qū)動軸上，且所述套環(huán)上設(shè)有毛刷。

本發(fā)明提出的一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置，有益效果在于：通過高壓氣泵使空腔內(nèi)形成負(fù)壓，從而通過通孔將藍(lán)寶石晶體片吸附在托盤上，打磨砂輪在與藍(lán)寶石晶體片進(jìn)行打磨工作時所產(chǎn)生的細(xì)小粉末通過打磨砂輪高速旋轉(zhuǎn)而進(jìn)入集污槽，防止其粉末散落在藍(lán)寶石晶體片上而對打磨工作造成影響，集污槽內(nèi)收集的粉末顆粒通過吸塵管和吸塵裝置排出，省去了人工清理的麻煩，通過轉(zhuǎn)動的毛刷對粉末顆粒進(jìn)行再次的清理，可避免拋光砂輪與粉末顆粒的接觸，使拋光效果更好，噴管和毛刷對藍(lán)寶石晶體片和托盤進(jìn)行清洗工作，吸塵頭用于吸附藍(lán)寶石晶體片和托盤上的水和污物，使清洗效果更好，且便于下一次的生產(chǎn)工作。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提出的一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明提出的一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置的打磨裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明提出的一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置的拋光裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明提出的一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置的清洗裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：箱體1、托盤2、滑軌3、空腔4、通孔5、高壓氣泵6、打磨裝置7、拋光裝置8、清洗裝置9、防護(hù)罩71、集污槽72、吸塵管73、固定架81、儲水箱91、吸塵頭92、噴管93。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。

參照圖1-4，一種藍(lán)寶石打磨磨光一體裝置，包括箱體1和貫穿于箱體1兩側(cè)的托盤2，箱體1上分別設(shè)有用于托盤2移動的滑軌3和驅(qū)動托盤2的驅(qū)動裝置，通過驅(qū)動裝置驅(qū)動托盤2在箱體1內(nèi)腔左右運(yùn)動，其原理與液壓磨床的原理相同，托盤2內(nèi)設(shè)有空腔4，且托盤2的上端均勻設(shè)有與空腔4相連通的通孔5，托盤2的兩端分別設(shè)有與空腔4相連通的入風(fēng)口和出風(fēng)口，且入風(fēng)口通過氣管連接有高壓氣泵6，將待打磨的藍(lán)寶石晶體片放置在托盤2上，通過高壓氣泵6使空腔4內(nèi)形成負(fù)壓，從而通過通孔5將藍(lán)寶石晶體片吸附在托盤2上，用于打磨工作，通孔5呈矩陣式設(shè)置在托盤2上，且空腔4內(nèi)設(shè)有多根貫穿托盤2兩側(cè)的通風(fēng)管，且每根通風(fēng)管均與在同一直線上的多個通孔5相連通，多根通風(fēng)管均與高壓氣泵6相連接，在同一直線上的多個通孔5通過一根通風(fēng)管相連接，避免造成氣流的紊亂，使吸附性更穩(wěn)定，便于正常的生產(chǎn)工作。

箱體1的內(nèi)腔頂部分別通過升降機(jī)構(gòu)和滑動機(jī)構(gòu)安裝有打磨裝置7、拋光裝置8和清洗裝置9，打磨裝置7包括打磨砂輪，打磨砂輪的外側(cè)設(shè)有防護(hù)罩71，且防護(hù)罩71的兩側(cè)內(nèi)壁均設(shè)有集污槽72，且兩個集污槽72上均設(shè)有吸塵管73，且吸塵管73連接有吸塵裝置，打磨砂輪在與藍(lán)寶石晶體片進(jìn)行打磨工作時所產(chǎn)生的細(xì)小粉末通過打磨砂輪高速旋轉(zhuǎn)而進(jìn)入集污槽72，防止其粉末散落在藍(lán)寶石晶體片上而對打磨工作造成影響，集污槽72內(nèi)收集的粉末顆粒通過吸塵管73和吸塵裝置排出，省去了人工清理的麻煩，拋光裝置8包括拋光砂輪，拋光砂輪的外側(cè)套接有套環(huán)，且套環(huán)通過固定架81安裝在拋光裝置8的驅(qū)動軸上，且套環(huán)上設(shè)有毛刷，由于在藍(lán)寶石晶體片的表面不可避免的會殘留一定的粉末顆粒，若拋光砂輪直接進(jìn)行拋光，可能會對藍(lán)寶石晶體片的表面造成刮傷，通過轉(zhuǎn)動的毛刷進(jìn)行再次的清理，可避免拋光砂輪與粉末顆粒的接觸，打磨裝置7和拋光裝置8上均設(shè)有噴灑裝置，且噴灑裝置包括用于儲液的盒體以及與盒體相連接的噴頭，用于在打磨和拋光工作時對其噴灑溶液，使打磨的質(zhì)量和效率大大提高。

清洗裝置9與托盤2的寬度相同，且清洗裝置9包括儲水箱91，儲水箱91連接有水泵，儲水箱91的下端兩側(cè)分別設(shè)有吸塵頭92和毛刷，吸塵頭92與吸塵裝置相連接，儲水箱91上還設(shè)有多個噴管93，噴管93的出水口位于毛刷的一側(cè)，在打磨工作與拋光工作完成時，可通過噴管93和毛刷對藍(lán)寶石晶體片和托盤進(jìn)行清洗工作，吸塵頭92用于吸附藍(lán)寶石晶體片和托盤2上的水和污物，便于下一次的生產(chǎn)工作。

滑動機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在箱體1內(nèi)腔頂部的滑槽和滑塊，箱體1上分別設(shè)有多個驅(qū)動滑塊的液壓缸，每個升降機(jī)構(gòu)的一端分別與每個滑塊相連接，且每個升降機(jī)構(gòu)遠(yuǎn)離滑塊的一端分別與打磨裝置7、拋光裝置8、和清洗裝置9相連接，升降機(jī)構(gòu)為氣缸或液壓缸，通過兩個氣缸或液壓缸對打磨裝置7、拋光裝置8、和清洗裝置9進(jìn)行位置的移動以及高度的調(diào)節(jié)，滑槽和滑塊的設(shè)置使打磨裝置7、拋光裝置8、和清洗裝置9的運(yùn)行更穩(wěn)定。

工作原理：工作時，將干凈的藍(lán)寶石晶體或晶體片放置在托盤2上，打開高壓氣泵6，使藍(lán)寶石晶體或晶體片牢固的吸附在托盤2上，調(diào)節(jié)打磨裝置7的高度，使打磨砂輪與藍(lán)寶石晶體或晶體片相接觸，開始打磨工作，當(dāng)打磨工作完成時，調(diào)節(jié)拋光裝置8的高度，開始拋光工作，拋光完成后，通過清洗裝置9對藍(lán)寶石晶體或晶體片進(jìn)行清洗，最后的再將托盤2清洗之后即可進(jìn)行下一次的工作。

以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。