專利名稱：鍍膜設備的氣體分配裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種分配裝置，特別是涉及一種運用在鍍膜設備上，并可將氣體均勻的送到鍍膜設備的反應腔室內(nèi)的氣體分配裝置。
背景技術：
在以往的薄膜制程中，各種的原料及氣體會被送入反應室內(nèi)，有些氣體只是做為轟擊靶材的介質(zhì)，有些氣體會和原料反應，并且沉積在基板上，其中會和原料反應的反應性氣體，其送入反應腔室的均勻度會影響鍍膜的均勻度及厚度，因此，這類型的鍍膜設備會設置氣體分配裝置，目的是讓氣體均勻送入該反應腔室內(nèi)，并且防止氣體在送入該反應腔室時產(chǎn)生波動、湍流或者對流漩渦，相關的技術文獻如CN101068950A、CN101624722A、CN101949007A。但由于目前進行鍍膜加工的基板有大尺寸的趨勢，相配合的氣體分配裝置也需要作配合的改變，才能使氣體分配裝置應用在大尺寸的鍍膜設備上，可以讓大面積的基板在鍍膜時產(chǎn)生較佳的均勻性及厚度控制性，本發(fā)明主要針對前述需求作改良。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是在提供一種結構創(chuàng)新，并可提高氣體送出時均勻度的鍍膜設備的氣體分配裝置。本發(fā)明鍍膜設備的氣體分配裝置包含至少一個分配座，以及一個將氣體引入該分配座的進氣單元，該分配座包括至少一個第一分配通道、一個第二分配通道、數(shù)條連通該第一分配通道及該第二分配通道的連通管，以及數(shù)個和該第二分配通道連通的噴氣道，所述進氣單元包括一個具有一個連接通道的連通座、至少一條連接該連接通道及第一分配通道的導通管，以及一條將氣體引入該連接通道的進氣管。本發(fā)明氣體分配裝置的進氣管具有一個和該連通座連接的直立部、一個水平部，以及一個連接所述直立部及水平部的垂直轉彎部。本發(fā)明氣體分配裝置的第一分配通道是兩個，上述第一分配通道及第二分配通道都是沿著一個第一方向設置，而該進氣管的水平部具有兩個沿著該第一方向設置的第一延伸段、一個沿著一個第二方向設置的第二延伸段，以及兩個連接相鄰的第一延伸段及第二延伸段的水平轉彎段，該第二方向垂直于第一方向。本發(fā)明氣體分配裝置的分配座是兩個，每個分配座都具有兩個第一分配通道，上述第一分配通道及第二分配通道都是沿著第一方向設置，而該連通座是沿著第二方向延伸并跨越所述分配座，該進氣單元的導通管是四條，所述導通管分別連接于該連通座及所述第一分配通道的其中之一。本發(fā)明氣體分配裝置的導通管都具有一個設在該連通座上的第一端，以及一個設在其中一個第一分配通道的中間位置的第二端。本發(fā)明的有益的效果在于當氣體逐步通過該連接通道、第一分配通道及第二分配通道時，不但可以均勻的分配，還可以避免氣體在送出噴氣道時產(chǎn)生波動、擾流，故本發(fā)明該氣體分配裝置不但結構創(chuàng)新，還可以提高供氣時的均勻度。


圖I是本發(fā)明氣體分配裝置的一個較佳實施例的立體示意圖；圖2是該較佳實施例的一個使用狀態(tài)參考圖；圖3是該較佳實施例的一個剖視示意圖；圖4是該較佳實施例的一個局部前視剖面圖。
具體實施例方式下面結合附圖及實施例對本發(fā)明進行詳細說明·
參閱圖1、2，本發(fā)明氣體分配裝置10的一個較佳實施例是安裝在鍍膜設備的一個反應腔座上，并且和基板對應，所述反應腔座包括一個反應腔室，該氣體分配裝置10和基板的對應方式不受限制，其包含兩個間隔并排的分配座2，以及一個連接所述分配座2的進氣單元3。參閱圖1、3、4，本實施例的每個分配座2都包括兩個沿著一第一方向21設置并且左右并排的第一分配通道22、一個位在所述第一分配通道22下方并且沿著該第一方向21設置的第二分配通道23、數(shù)條直向連接第一分配通道22及第二分配通道23的連通管24，以及數(shù)個等距離設置并和該第二分配通道23相通的噴氣道25。所述噴氣道25都具有一個位于下方的噴氣口 251。本實施例的進氣單元3可以將氣體同時引入所述并排的分配座2，并包括一個沿著一第二方向30設置并跨越所述分配座2的連通座31、四條分別連接該連通座31及所述第一分配通道22的導通管32，以及一條將氣體送入該連通座31的進氣管33。該第二方向30垂直于第一方向21，該連通座31具有一個界定出一個封閉的連接通道311的連通管壁312，所述導通管32都具有一個架設在該連通管壁312上的第一端321，以及一個架設在所述分配座2的其中之一上并連接于其中一個第一分配通道22中央位置的第二端322，利用前述結構來連通該連接通道311及所述第一分配通道22。本實施例的進氣管33是一條具有數(shù)個轉彎部位的管體，其包括一個和該連通座31接連的直立部331、一段垂直于該直立部331的水平部332，以及一個連接所述直立部331及水平部332的垂直轉彎部333。該水平部332具有兩段沿著第一方向21設置的第一延伸段334、一個沿著第二方向30延伸的第二延伸段335，以及兩個連接相鄰的第一延伸段334及第二延伸段335的水平轉彎段336。本實施例的氣體分配裝置10在使用時，氣體是由該進氣管33的水平部332送入，由于該進氣管33的水平部332具有兩個水平轉彎段336，且該水平部332及直立部331間設有垂直轉彎部333，因此，送入的氣體會因為這些垂直轉彎部333及水平轉彎段336的設計而更和緩，也就是說，本實施例的進氣管33具有減緩氣體沖力的效果。當氣體流入該連通座31的連接通道311后，再由導通管32流入各個第一分配通道22，氣體可以在所述第一分配通道22內(nèi)擴散，也就是沿著第一方向21擴散，擴散后再由連通管24流到第二分配通道23，最后再均勻的由噴氣道25的噴氣口 251送到反應腔室內(nèi)。
也就是說，本發(fā)明的氣體分配裝置10先利用具有水平轉彎段336及垂直轉彎部333的進氣管33來減緩氣體的沖力，然后利用連接通道311、第一分配通道22及第二分配通道23的層層混合后，再將氣體送到反應腔室內(nèi)，這種氣體分配裝置10不但結構創(chuàng)新，還可以避免由進氣管33送入的氣體在由噴氣道25噴出時產(chǎn)生波動、擾流，故本發(fā)明該氣體分配裝置10確實可以提高供氣的均勻度，也可以因此提高鍍膜設備在鍍膜時的均勻度及厚度控制性?！?br> 權利要求
1.一種鍍膜設備的氣體分配裝置，包含至少一個分配座，以及一個將氣體引入該分配座的進氣單元，該分配座包括數(shù)個噴氣道，而該進氣單元包括一條引入氣體的進氣管；其特征在于 該分配座還包括至少一個第一分配通道、一個和所述噴氣道連通的第二分配通道，以及數(shù)條連通該第 一分配通道及第二分配通道的連通管，而該進氣單元還包括一個具有一個和該進氣管連通的連接通道的連通座，以及至少一條連接該連接通道及第一分配通道的導通管。
2.根據(jù)權利要求I所述的鍍膜設備的氣體分配裝置，其特征在于該進氣管具有一個和該連通座連接的直立部、一個水平部，以及一個連接所述直立部及水平部的垂直轉彎部。
3.根據(jù)權利要求2所述的鍍膜設備的氣體分配裝置，其特征在于該分配座的第一分配通道是兩個，上述第一分配通道及第二分配通道都是沿著一個第一方向設置，而該進氣管的水平部具有兩個沿著第一方向設置的第一延伸段、一個沿著一個第二方向設置的第二延伸段，以及兩個連接相鄰的第一延伸段及第二延伸段的水平轉彎段，該第二方向垂直于第一方向。
4.根據(jù)權利要求I所述的鍍膜設備的氣體分配裝置，其特征在于所述分配座是兩個，每個分配座都包括兩個第一分配通道，上述第一分配通道及第二分配通道都是沿著一個第一方向設置，而該連通座是沿著一個第二方向延伸并跨越所述分配座，而該進氣單元的導通管是四條，所述導通管分別連接于該連通座及所述第一分配通道的其中之一。
5.根據(jù)權利要求4所述的鍍膜設備的氣體分配裝置，其特征在于所述導通管具有一個設在該連通座上的第一端，以及一個設在其中一個第一分配通道的中間位置的第二端。
全文摘要
一種鍍膜設備的氣體分配裝置，包含至少一個分配座，以及一個將氣體引入該分配座的進氣單元，該分配座包括至少一個第一分配通道、一個第二分配通道、數(shù)個連接該第一分配通道及第二分配通道的連通管，以及數(shù)個連通該第二分配通道的噴氣道，所述進氣單元包括一個具有一連接通道的連通座、至少一條連接該連接通道及第一分配通道的導通管，以及一條將氣體引入該連接通道的進氣管。當氣體逐步通過連接通道、第一及第二分配通道時，不但可以均勻的分配，還可以避免氣體在送出噴氣道時產(chǎn)生波動、擾流。
文檔編號C23C16/455GK102912321SQ20111021779
公開日2013年2月6日 申請日期2011年8月1日 優(yōu)先權日2011年8月1日
發(fā)明者黃俊凱 申請人:亞樹科技股份有限公司