專利名稱：鍍膜蒸發(fā)載具及使用該鍍膜蒸發(fā)載具的真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜技術(shù)，特別涉及一種鍍膜蒸發(fā)載具及使用該鍍膜蒸發(fā)載具的真空鍍 膜裝置。
背景技術(shù)：
目前，真空鍍膜技術(shù)被廣泛應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域，如在光學(xué)鏡片的各個表面鍍上各種功能薄 膜等。 一般地，真空鍍膜裝置包括一個真空室，位于該真空室內(nèi)的一個蒸發(fā)源及一個與該蒸 發(fā)源相對的夾具。該蒸發(fā)源包括一個用于放置薄膜材料的鍍膜蒸發(fā)載具如坩堝及一個用于將 鍍膜蒸發(fā)載具內(nèi)的薄膜材料從固態(tài)變?yōu)闅鈶B(tài)的電子發(fā)射源。該夾具用于夾持待鍍膜的光學(xué)鏡 片以使待鍍膜的光學(xué)鏡片表面鍍上所需薄膜。
目前的鍍膜蒸發(fā)載具之設(shè)計以裝載薄膜材料為考慮，單純要求其耐用度與裝載容量，因 此，鍍膜蒸發(fā)載具只放置一種薄膜材料。但，對于待鍍膜的光學(xué)鏡片的各個表面需要鍍不同 的功能薄膜或不同待鍍膜的光學(xué)鏡片需要鍍不同的功能薄膜時，則需要頻繁更換鍍膜蒸發(fā)載 具及鍍膜蒸發(fā)載具內(nèi)的薄膜材料，導(dǎo)致生產(chǎn)效率低。另外，該鍍膜蒸發(fā)載具放置較多的薄膜 材料，在進行薄膜材料的預(yù)熔時，所需預(yù)熔的薄膜材料的深度較大，較難達到理想的預(yù)熔效 果，進而影響鍍膜效果。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能提高生產(chǎn)效率且可改善預(yù)熔效果的鍍膜蒸發(fā)載具及使用該 鍍膜蒸發(fā)載具的真空鍍膜裝置。
一種鍍膜蒸發(fā)載具，其包括一個具有一個轉(zhuǎn)子的驅(qū)動部，至少一個轉(zhuǎn)動部及多個可放置 薄膜材料的收容部，該至少一個轉(zhuǎn)動部包括一個活動耦合至該轉(zhuǎn)子的柱狀轉(zhuǎn)動體及沿該柱狀 轉(zhuǎn)動體延伸且分別用于支撐該多個收容部的多個支撐體。
一種真空鍍膜裝置，其包括一個真空室，置于該真空室內(nèi)的一個蒸發(fā)源及一個夾具，該 夾具與該蒸發(fā)源相對設(shè)置。該蒸發(fā)源包括一個鍍膜蒸發(fā)載具及一個電子發(fā)射源，該鍍膜蒸發(fā) 載具包括一個具有一個轉(zhuǎn)子的驅(qū)動部，至少一個轉(zhuǎn)動部及多個收容部，該至少一個轉(zhuǎn)動部包 括一個活動耦合至該轉(zhuǎn)子的柱狀轉(zhuǎn)動體及沿該柱狀轉(zhuǎn)動體延伸且分別用于支撐該多個收容部 的多個支撐體，該電子發(fā)射源用于發(fā)射電子至該多個收容部中的一個收容部。
所述的鍍膜蒸發(fā)載具及使用該鍍膜蒸發(fā)載具的真空鍍膜裝置，通過在多個收容部內(nèi)分散放置不同或相同的薄膜材料及驅(qū)動部驅(qū)動轉(zhuǎn)動部將放置所需薄膜材料的收容部轉(zhuǎn)動至電子發(fā) 射源的電子發(fā)射路徑上，無需頻繁更換鍍膜蒸發(fā)載具及薄膜材料，提高了生產(chǎn)效率，且所需 預(yù)熔的薄膜材料的深度變小，從而改善了預(yù)熔效果。


圖l為本發(fā)明第一實施方式的真空鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖1中的真空鍍膜裝置的鍍膜蒸發(fā)載具的平面示意圖。
圖3為圖1中的真空鍍膜裝置的載具遮罩的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為本發(fā)明第二實施方式的真空鍍膜裝置的鍍膜蒸發(fā)載具的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5為圖4中的鍍膜蒸發(fā)載具的第一柱狀轉(zhuǎn)動部與底座的結(jié)合示意圖。
圖6為圖5中的第一柱狀轉(zhuǎn)動部與底座間相配合的面的平面示意圖。
圖7為圖4中的鍍膜蒸發(fā)載具的轉(zhuǎn)子位于一個位置的示意圖。
圖8為圖4中的鍍膜蒸發(fā)載具的轉(zhuǎn)子位于另一個位置的示意圖。
圖9為圖4中的鍍膜蒸發(fā)載具的轉(zhuǎn)子位于再一個位置的示意圖。
具體實施例方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施方式作進一步的詳細說明。
請一并參閱圖1及圖2，本發(fā)明第一實施方式提供的一種真空鍍膜裝置100包括一個真空 室10，置于該真空室10內(nèi)的一個蒸發(fā)源20及一個夾具30。該夾具30通過吊桿32固定在真空室 IO上，且與該蒸發(fā)源20相對設(shè)置，并用于夾持待鍍膜的光學(xué)鏡片(圖未示)。該蒸發(fā)源20包 括一個鍍膜蒸發(fā)載具200及一個電子發(fā)射源250。
該鍍膜蒸發(fā)載具200包括一個驅(qū)動部202， 一個轉(zhuǎn)動部210及四個收容部220。該四個收容 部200用于放置不同或相同的薄膜材料。該轉(zhuǎn)動部210包括一個柱狀轉(zhuǎn)動體212及沿該柱狀轉(zhuǎn) 動體212延伸且分別用于支撐該四個收容部220的四個支撐體214，如圖2所示。
每個收容部220開設(shè)有一個容置槽222，該容置槽222是面向夾持待鍍膜的光學(xué)鏡片的夾 具30，以使從該容置槽222內(nèi)蒸發(fā)的薄膜材料可以直接上升至該夾具30。該四個收容部220所 放置的材料可視需求決定，如若待鍍膜的光學(xué)鏡片的各個表面需要鍍不同的功能薄膜或不同 待鍍膜的光學(xué)鏡片需要鍍不同的功能薄膜時，對應(yīng)地將不同的薄膜材料放置于容置槽222內(nèi)
該驅(qū)動部202具有一個定子204及一個由定子204驅(qū)動的轉(zhuǎn)子206，該柱狀轉(zhuǎn)動體212與定 子204相對的一個端面開設(shè)有一個與該轉(zhuǎn)子206相配合的凹槽216。本實施方式中，該轉(zhuǎn)子 206的頂端208呈六角形，相應(yīng)地，該凹槽216的截面也呈六角形。如此，該定子204驅(qū)動該轉(zhuǎn)子206轉(zhuǎn)動時，該柱狀轉(zhuǎn)動體212也同時被轉(zhuǎn)子206帶動而轉(zhuǎn)動，因此，每個收容部220可依需 要被轉(zhuǎn)動至電子發(fā)射源250的電子252發(fā)射路徑上。進行鍍膜時，通過驅(qū)動部202驅(qū)動轉(zhuǎn)動部 210轉(zhuǎn)動，而將放置所需薄膜材料的收容部220轉(zhuǎn)動至電子發(fā)射源250的電子252發(fā)射路徑上即 可?？梢岳斫?，轉(zhuǎn)子206的頂端208及該凹槽216的截面的形狀不限于上述形狀，也可設(shè)計為 三角形，"1"字形或"十"字形等其他形狀。
請結(jié)合圖3，進一步地，為了使被蒸發(fā)的薄膜材料均勻地上升至該夾具30，該鍍膜蒸發(fā) 載具200還包括一個載具遮罩40，該載具遮罩40罩設(shè)轉(zhuǎn)動部210及四個收容部220。載具遮罩 40大致呈圓柱狀，其包括一個頂面402及一個與頂面402大致垂直連接的側(cè)面404。頂面402開 設(shè)有呈矩陣狀排列的多個孔洞406，側(cè)面404開設(shè)一個供電子252進入的開口408。當(dāng)將放置有 當(dāng)前所需的薄膜材料的收容部220轉(zhuǎn)動至電子發(fā)射源250的電子252發(fā)射路徑上時，該多個孔 洞406與該收容部220的容置槽相對，被蒸發(fā)的薄膜材料上升遇到多個孔洞406間的部分頂面 402的阻擋而分散到各個孔洞406均勻地逸出。
該真空鍍膜裝置100通過在多個收容部220內(nèi)分散放置不同或相同的薄膜材料及驅(qū)動部 202驅(qū)動轉(zhuǎn)動部210將放置所需薄膜材料的收容部220轉(zhuǎn)動至電子發(fā)射源發(fā)射電子252的路徑上 ，無需頻繁更換鍍膜蒸發(fā)載具及薄膜材料，提高了生產(chǎn)效率，且所需預(yù)熔的薄膜材料的深度 變小，從而改善了預(yù)熔效果。
此外，該真空鍍膜裝置100還可減少預(yù)熔的次數(shù)，因當(dāng)其中一個放置于容置槽222內(nèi)的薄 膜材料被預(yù)熔后，當(dāng)再次被轉(zhuǎn)動至電子發(fā)射源250的電子252發(fā)射路徑上時，就無需再預(yù)熔了
請參閱圖4，本發(fā)明第二實施例提供的鍍膜蒸發(fā)載具200'與第一實施方式提供的鍍膜蒸 發(fā)載具200的區(qū)別在于本實施方式的鍍膜蒸發(fā)載具200'包括三個轉(zhuǎn)動部210a、 210b、 210c，十二個收容部220、 一個定位支架50及一個底座60。
該底座60用于承載定位支架50及三個轉(zhuǎn)動部210a、 210b、 210c。該三個轉(zhuǎn)動部210a、 210b、 210c形成在底座上，且自遠離底座60的方向依次疊合在一起(為方便說明，圖4中， 該三個轉(zhuǎn)動部210a、 210b、 210c自遠離底座60的方向分別為第一轉(zhuǎn)動部210a、第二轉(zhuǎn)動部 210b及第三轉(zhuǎn)動部210c)。第一轉(zhuǎn)動部210a包括一個中空的第一柱狀轉(zhuǎn)動體212a及沿該第一 柱狀轉(zhuǎn)動體212a延伸且分別可用于支撐四個收容部220的四個第一支撐體214a。第二轉(zhuǎn)動部 210b包括一個中空的第二柱狀轉(zhuǎn)動體212b及沿該第二柱狀轉(zhuǎn)動體212b延伸且分別可用于支撐 四個收容部220的四個第二支撐體214b。第三轉(zhuǎn)動部210c包括一個中空的第三柱狀轉(zhuǎn)動體 212c及沿該第三柱狀轉(zhuǎn)動體212c延伸且分別可用于支撐四個收容部220的四個第三支撐體
6214c。較佳地，相鄰的兩個柱狀轉(zhuǎn)動體之間涂布有潤滑材料，以減少相鄰的兩個柱狀轉(zhuǎn)動體 之間的轉(zhuǎn)動摩擦力。十二個收容部220分別被十二個支撐體214a、 214b、 214c所支撐。本實 施方式中，三個柱狀轉(zhuǎn)動體212a、 212b、 212c內(nèi)分別形成一個第一六角形通孔216a、第二六 角形通孔216b及第三六角形通孔216c (參圖7，圖8及圖9)，且三個六角形通孔216a、 216b 、216c相互對準且尺寸相同。
請結(jié)合圖5及圖6 (圖5及圖6分別只表示第一柱狀轉(zhuǎn)動體212a及底座60)，該底座60上開 設(shè)有一個供轉(zhuǎn)子206 (參圖l)穿過的圓通孔602，該圓通孔602與第一六角形通孔216a對準， 底座60的面向第一柱狀轉(zhuǎn)動體212a的表面604形成第一圓環(huán)容置槽606，圓環(huán)容置槽606是圍 繞圓通孔602在該表面604上的開口設(shè)置。第一柱狀轉(zhuǎn)動體212a與底座60相對的端面218a形成 與第一圓環(huán)容置槽606對應(yīng)的第二圓環(huán)容置槽219a，該第二圓環(huán)容置槽219a是圍繞第一六角 形通孔216a在該端面218a的開口設(shè)置，多個滾珠70置于第一圓環(huán)容置槽606與第二圓環(huán)容置 槽219a間，并分別與第一圓環(huán)容置槽606與第二圓環(huán)容置槽219a抵觸。因此，通過多個滾珠 70滾動，第一柱狀轉(zhuǎn)動體212a可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在底座60上。
轉(zhuǎn)子206的頂端208呈六角形(參圖l，圖7，圖8及圖9)。該轉(zhuǎn)子206自遠離驅(qū)動部202 ( 參圖l)的方向穿過圓通孔602并可分別插入至第一六角形通孔216a，第二六角形通孔216b及 第三六角形通孔216c而活動耦合至三個轉(zhuǎn)動部210a、 210b、 210c以對應(yīng)驅(qū)動第一柱狀轉(zhuǎn)動體 212a，第二柱狀轉(zhuǎn)動體212b或第三柱狀轉(zhuǎn)動體212c轉(zhuǎn)動。本實施方式中，三個柱狀轉(zhuǎn)動體 212a、 212b、 212c由鐵磁材料制成?？梢岳斫獾氖?，可以將驅(qū)動部202置于一個升降裝置( 圖未示)上，以使驅(qū)動部202相對于三個轉(zhuǎn)動部210a、 210b、 210c作升降運動將轉(zhuǎn)子206移動 至對應(yīng)的六角形通孔中。
轉(zhuǎn)子206的頂端208及該通孔216a、 216b、 216c的形狀不限于上述形狀，也可設(shè)計為三角 形，"1"字形或"十"字形等其他形狀。
該定位支架50放置于載具遮罩40 (參圖3)內(nèi)且與三個轉(zhuǎn)動部210a、 210b、 210c相對， 定位支架50包括一個主體502及固定在主體502上且沿主體502軸向間隔設(shè)置的三個電磁體 504a、 504b、 504c，該三個電磁體504a、 504b、 504c分別與三個柱狀轉(zhuǎn)動體212a、 212b、 212c相對。通電時，每個電磁體504a、 504b或504c產(chǎn)生磁場以吸引與每個電磁體504a、 504b或504c對應(yīng)的柱狀轉(zhuǎn)動體212a、 212b或212c以使對應(yīng)的柱狀轉(zhuǎn)動體212a、 212b或212c固 定。可以理解，每個電磁體504a、 504b或504c通電時對于每個柱狀轉(zhuǎn)動體212a、 212b或212c 的吸引力的大小應(yīng)該使當(dāng)其中一個轉(zhuǎn)動部如第一轉(zhuǎn)動部210a轉(zhuǎn)動時，第二轉(zhuǎn)動部210b及第三 轉(zhuǎn)動部210c可相對于第一轉(zhuǎn)動部210a保持不動。本實施方式的鍍膜蒸發(fā)載具200'除了具有與第一本實施方式的鍍膜蒸發(fā)載具200相同的 有益效果外，還具有因進一步設(shè)置三個依次疊合在一起的轉(zhuǎn)動部212a、 212b、 212c及更多的 收容部220，增加了放置不同薄膜材料的種類。
可以理解，本發(fā)明還包括其他的實施方式的鍍膜蒸發(fā)載具，如疊合在一起的轉(zhuǎn)動部可以 是二個，四個或更多，及每個柱狀轉(zhuǎn)動體上所設(shè)的支撐體可以是二個，三個或更多等。
應(yīng)該指出，上述實施方式僅為本發(fā)明的較佳實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可在本發(fā)明精 神內(nèi)做其它變化。當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護的 范圍的內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜蒸發(fā)載具，其特征在于其包括一個具有一個轉(zhuǎn)子的驅(qū)動部，至少一個轉(zhuǎn)動部及多個可放置薄膜材料的收容部，該至少一個轉(zhuǎn)動部包括一個活動耦合至該轉(zhuǎn)子的柱狀轉(zhuǎn)動體及沿該柱狀轉(zhuǎn)動體延伸且分別用于支撐該多個收容部的多個支撐體。
2 如權(quán)利要求l所述的鍍膜蒸發(fā)載具，其特征在于，所述柱狀轉(zhuǎn)動體 的一個端面開設(shè)有一個與該轉(zhuǎn)子相配合的凹槽。
3 如權(quán)利要求2所述的鍍膜蒸發(fā)載具，其特征在于，所述轉(zhuǎn)子的頂端 呈六角形及該凹槽的截面呈六角形。
4 如權(quán)利要求l所述的鍍膜蒸發(fā)載具，其特征在于，所述鍍膜蒸發(fā)載 具還包括一個載具遮罩，該載具遮罩罩設(shè)該至少一個轉(zhuǎn)動部及該多個收容部，該載具遮罩大 致呈圓柱狀，其包括一個頂面及一個與頂面大致垂直連接的側(cè)面，該頂面開設(shè)有呈矩陣狀排 列的多個孔洞，該側(cè)面開設(shè)一個用于供電子進入的開口。
5 如權(quán)利要求l所述的鍍膜蒸發(fā)載具，其特征在于，所述鍍膜蒸發(fā)載 具包括三個依次疊合的轉(zhuǎn)動部， 一個定位支架及一個底座，該底座支撐該定位支架及最靠近 該底座的一個轉(zhuǎn)動部，且與最靠近該底座的一個轉(zhuǎn)動部活動連接，該底座開設(shè)有一個供該轉(zhuǎn) 子穿過的圓通孔，每個轉(zhuǎn)動部的柱狀轉(zhuǎn)動體是中空的，該轉(zhuǎn)子穿過該圓通孔且可分別活動耦 合至每個柱狀轉(zhuǎn)動體，該定位支架包括一個主體及固定在主體上且沿主體軸向間隔設(shè)置的三 個電磁體，三個電磁體分別與三個柱狀轉(zhuǎn)動體相對。
6 如權(quán)利要求5所述的鍍膜蒸發(fā)載具，其特征在于，所述每個轉(zhuǎn)動部 的柱狀轉(zhuǎn)動體內(nèi)形成一個六角形通孔，該每個六角形通孔相互對準且尺寸相同。
7 如權(quán)利要求6所述的鍍膜蒸發(fā)載具，其特征在于，所述轉(zhuǎn)子的頂端呈六角形。
8 如權(quán)利要求5所述的鍍膜蒸發(fā)載具，其特征在于，所述鍍膜蒸發(fā)載 具還包括一個載具遮罩，該載具遮罩罩設(shè)三個轉(zhuǎn)動部及多個收容部，該載具遮罩大致呈圓柱狀，其包括一個頂面及一個與頂面大致垂直連接的側(cè)面，該頂面開設(shè)有呈矩陣狀排列的多個 孔洞，該側(cè)面開設(shè)一個用于供電子進入的開口。
9. 一種真空鍍膜裝置，其包括一個真空室，置于該真空室內(nèi)的一個 蒸發(fā)源及一個夾具，該夾具與該蒸發(fā)源相對設(shè)置。該蒸發(fā)源包括一個如權(quán)利要求1至8項中任 一項所述的鍍膜蒸發(fā)載具及一個電子發(fā)射源，該電子發(fā)射源用于發(fā)射電子至該多個收容部中 的一個收容部。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種鍍膜蒸發(fā)載具，其包括一個具有一個轉(zhuǎn)子的驅(qū)動部，至少一個轉(zhuǎn)動部及多個可放置薄膜材料的收容部，該至少一個轉(zhuǎn)動部包括一個活動耦合至該轉(zhuǎn)子的柱狀轉(zhuǎn)動體及沿該柱狀轉(zhuǎn)動體延伸且分別用于支撐該多個收容部的多個支撐體。所述的鍍膜蒸發(fā)載具通過在多個收容部內(nèi)分散放置不同或相同的薄膜材料及驅(qū)動部驅(qū)動轉(zhuǎn)動部將放置所需薄膜材料的收容部轉(zhuǎn)動至電子發(fā)射源發(fā)射電子的路徑上，無需頻繁更換鍍膜蒸發(fā)載具及薄膜材料，提高了生產(chǎn)效率，且所需預(yù)熔的薄膜材料的深度變小，從而改善了預(yù)熔效果。本發(fā)明還涉及一種使用上述鍍膜蒸發(fā)載具的真空鍍膜裝置。
文檔編號C23C14/50GK101619446SQ20081030248
公開日2010年1月6日 申請日期2008年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月30日
發(fā)明者王仲培 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司