專利名稱：自動化潛入式內(nèi)部回流裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是涉及一種關(guān)于輸送物體的裝置，尤指一種運(yùn)用連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備的自動化潛入式內(nèi)部回流裝置。
背景技術(shù)：
由于自動化連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備的生產(chǎn)效率高，因此普遍運(yùn)用于許多產(chǎn)業(yè)，以電子產(chǎn)業(yè)的真空濺鍍技術(shù)而言，真空鍍膜薄膜技術(shù)因為具有(1)制程精密、品質(zhì)穩(wěn)定，(2)鍍膜的密著性佳、附著力強(qiáng)、不易脫落，(3)鍍膜不產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)、無化學(xué)產(chǎn)物污染，符合環(huán)保法規(guī)，(4)可鍍多重薄膜，生產(chǎn)效率高，(5)成本低與重量輕，生產(chǎn)彈性高，符合當(dāng)前消費(fèi)者選購趨勢等優(yōu)點，因此真空鍍膜技術(shù)近年來已逐漸取代傳統(tǒng)噴導(dǎo)電漆或電解電鍍方式，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制程、光電和3C產(chǎn)業(yè)的防電磁波干擾(Electro-Magnetic Interference，EMI)、塑膠表面金屬鍍膜(SurfaceDecoration Coating，SDC)及透明電極鍍膜(Indium-Tin Oxide，ITO)，成為重要的鍍膜生產(chǎn)技術(shù)。
因為真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用層面日廣，為增加相關(guān)鍍膜產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)競爭力，必須降低真空鍍膜制程的成本，因此目前使用的鍍膜設(shè)備多為連續(xù)式(In-Line)多腔體(multi-chambers)作業(yè)流程，與傳統(tǒng)批次式(batch type)或晶圓式(wafer type)生產(chǎn)方式比較，可以減少高達(dá)60％以上生產(chǎn)成本，并可大幅降低設(shè)備成本及廠房空間，極具量產(chǎn)經(jīng)濟(jì)價值及產(chǎn)業(yè)競爭性。
連續(xù)式真空鍍膜作業(yè)流程主要分為下列三個主要區(qū)域進(jìn)料腔體區(qū)、鍍膜腔體區(qū)及出料腔體區(qū)，因應(yīng)不同基材(substrate)及鍍材(target)的作業(yè)制程、以及鍍膜品質(zhì)與腔體真空潔凈度需求，可適度地增加低、中、高真空腔體數(shù)目，以逐段漸進(jìn)式地達(dá)到作業(yè)所要求的真空度及潔凈度標(biāo)準(zhǔn)。
其作業(yè)時是將基材置于承載盤上，再使承載盤依序進(jìn)入各腔體區(qū)鍍膜，然而若要達(dá)到真正的自動化閉回路(closed loop)連續(xù)式作業(yè)需求，必須于出料腔體區(qū)與進(jìn)料腔體區(qū)之間額外增設(shè)一回流裝置，來連結(jié)承載盤的傳送，不過基于真空鍍膜技術(shù)特殊的真空、高潔凈度作業(yè)環(huán)境需求，其自動化回流系統(tǒng)必須避免在傳輸過程中，承載盤遭外界環(huán)境灰塵污染或被現(xiàn)場操作員手部碰觸機(jī)會，否則其沉積于承載盤表面污染物會間接污染鍍膜腔體內(nèi)部，進(jìn)而造成鍍膜表面產(chǎn)生異常顆?；虍惓Ｍ腹?，影響透光性或穿透率等鍍膜品質(zhì)。
目前應(yīng)用于連續(xù)式多腔體真空鍍膜設(shè)備的外部回流裝置，主要有下列兩種方式如圖4所示是運(yùn)用一般倉管物料外部輸送機(jī)構(gòu)原理，于進(jìn)料腔體區(qū)61與出料腔體區(qū)63之間連結(jié)一外部回流裝置70，該外部回流裝置70是由輸送滾筒排列呈矩形回路，于四周邊分別設(shè)有第一氣壓缸71、第二氣壓缸72、第三氣壓缸73、第四氣壓缸74，當(dāng)承載盤60上的基材經(jīng)過逐段腔體處理，完成表面鍍膜后，移送至輸送滾筒，并且依序借由各氣壓缸推移承載盤60，將已鍍膜完成的承載盤60內(nèi)的基材回傳至前端進(jìn)料腔體區(qū)61，前端操控人員只需取出承載盤內(nèi)附有成品的承載基架，不需取出承載盤，而后再放置附有待鍍膜基材的承載基架于承載盤上，準(zhǔn)備送入進(jìn)料腔體區(qū)61進(jìn)行下一次鍍膜流程，其中承載盤可供連續(xù)循環(huán)使用，此回流系統(tǒng)只需一位操作人員即可獨立完成整個鍍膜流程，但存在下列缺點(1)需要較大的廠房空間因為外部回流系統(tǒng)是加設(shè)在連續(xù)式鍍膜腔體外圍，以ㄇ型(ㄇ-type)方式配置，為使設(shè)備維修人員日后有足夠的空間，可以維修位于連續(xù)式鍍膜設(shè)備周遭的真空幫浦、擴(kuò)散幫浦及真空計等設(shè)備，必須預(yù)留更大的廠房空間來配置外部回流系統(tǒng)，估計約占據(jù)整個生產(chǎn)線1/2以上的空間，而且其延伸的長度至少為原連續(xù)式鍍膜設(shè)備兩倍以上，導(dǎo)致廠房利用率及產(chǎn)能大幅受限。
(2)難以維持承載盤在外部傳輸過程中的潔凈度因為真空鍍膜技術(shù)極度要求基材表面及腔體內(nèi)部的潔凈度與真空度，否則污染物所產(chǎn)生的懸浮物，將導(dǎo)致鍍材成品表面具有異常透光或異質(zhì)顆粒情況，影響產(chǎn)品優(yōu)良率，但其外部回流系統(tǒng)以ㄇ型方式配置于原連續(xù)式鍍膜設(shè)備的外圍，導(dǎo)致承載盤自出料腔體區(qū)出來后，就暴露在一般工作環(huán)境中，工作環(huán)境潛伏許多懸浮物及灰塵，加上污染沉積量是與承載盤暴露在外部環(huán)境的距離及時間成正比，因此外部回流線愈長，承載盤表面或底部愈會受到外部環(huán)境灰塵或沉積在外部回流系統(tǒng)滾動軸上的灰塵所污染，附著在承載盤表面的灰塵將在下一次鍍膜過程中，將污染源帶入鍍膜腔體內(nèi)，進(jìn)而間接影響鍍膜品質(zhì)。
(3)耗費(fèi)較高的設(shè)備成本
為了架設(shè)外部回流裝置，必須額外架設(shè)傳輸機(jī)臺底座、滾動軸及定位感測裝置等周邊設(shè)備，除此之外，為使承載盤能在ㄇ型回流裝置于不同前進(jìn)方向之間能夠順利轉(zhuǎn)換，必須在每一個轉(zhuǎn)彎處加設(shè)氣(油)壓缸，整組外部回流裝置至少需要四組以上的氣(油)壓缸，這些額外的機(jī)構(gòu)及設(shè)備將耗費(fèi)較高的設(shè)備成本。
(4)處于噪音工作環(huán)境鑒于傳統(tǒng)外部回流裝置所占的空間及長度比例甚高(1/2以上)，基于節(jié)省設(shè)備開發(fā)及材料成本，目前大多采用已廣泛應(yīng)用于倉庫物料管理輸送機(jī)構(gòu)，然而，此類輸送機(jī)構(gòu)基本上是考慮大型且重負(fù)載的物料傳輸，因此其滾動軸皆采用大半徑的鋼制圓軸設(shè)計，但針對連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備大多針對小型輕量化基材，根本不需要采用如此高強(qiáng)度的傳輸機(jī)構(gòu)設(shè)計。除此之外，當(dāng)承載盤自出料腔體區(qū)出料后，會因同樣由鋼制承載盤與滾動軸之間碰撞，而在外部回流系統(tǒng)傳輸過程中產(chǎn)生許多噪音，導(dǎo)致現(xiàn)場生產(chǎn)線處于噪音工作環(huán)境內(nèi)。
(5)影響設(shè)備整體外觀基于外部回流系統(tǒng)需要許多額外的設(shè)備空間，并必須加設(shè)許多傳輸線、電源線、氣(油)壓管路及控制線路來完成自動化輸送流程，若沒有經(jīng)過事前審慎空間規(guī)劃及隱藏相關(guān)線路，這些線路皆會暴露在外部回流系統(tǒng)四周，導(dǎo)致整個生產(chǎn)設(shè)備外觀看起來龐大、復(fù)雜及雜亂無章。
基于上述第一種外部回流裝置必須占據(jù)較大的廠房空間的主要缺點，對于一些空間受限的廠房而言，就必需采用另一種依賴臺車推送傳輸方式，如圖5所示，亦即未設(shè)有自動回路裝置，而是在連續(xù)式鍍膜的進(jìn)料腔體區(qū)、出料腔體區(qū)分別派駐一位前端操作人員控制進(jìn)料及操作程序，以及一位后端操作人員位于出料腔體區(qū)，以負(fù)責(zé)取出承載盤內(nèi)已完成鍍膜的承載基架，并且將空的承載盤放置于可堆疊的臺車上，當(dāng)臺車滿載后，再由后端操作人員將臺車推至前端操作人員處，并彼此交換臺車，接下來，前端操作人員再將待鍍的承載基架置入承載盤內(nèi)，等待下一次鍍膜流程，不過，目前這種依賴臺車傳送方式，亦存在下列缺點(1)生產(chǎn)線至少需要2位操作人員外部回流裝置僅需一位前端操作人員即可獨立完成整個作業(yè)流程，此類依賴臺車的傳送方式，一條生產(chǎn)線至少需要2位操作人員，故需要較多的人員，倘若三班制，即需要多三個人力。
(2)難以維持承載盤在臺車傳送過程中的潔凈度針對承載盤在臺車傳送過程中，因必須經(jīng)由前、后端操作人員自臺車取上、取下至少兩次的碰觸動作，大大增加操作人員手部污染承載盤表面的機(jī)會，加上承載盤于臺車置放期間，亦處于一般工作環(huán)境內(nèi)，廠房內(nèi)的灰塵及懸浮物會慢慢沉積在臺車及承載盤表面，附著在承載盤表面的灰塵，將伴隨下次鍍膜過程污染腔體內(nèi)部，進(jìn)而影響鍍膜品質(zhì)，此污染的程度可由現(xiàn)場操作人員必須每天更換工作手套可以看出，針對這項缺失，前端操作人員有時必須利用吸塵器清除附著在承載盤表面的灰塵。
(2)后端操作人員工作效率不高依據(jù)不同鍍膜品質(zhì)、表面清潔處理及真空潔凈度的作業(yè)需求，連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備通常需要三個以上獨立腔體來完成整個制程，因此承載盤自進(jìn)料腔體區(qū)至出料腔體區(qū)完成鍍膜速度并不會太快，估計約40秒/盤至120秒/盤，造成后端操作人員大部分時間皆處于等待承載盤自出料腔體區(qū)出料的狀態(tài)，以工作效率而言，后端操作人員處于閑置等待比例較高。
基于上述兩種已有連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備的回流裝置及傳送方式，除了皆具有承載盤在傳送過程易被外界環(huán)境污染，進(jìn)而影響鍍膜品質(zhì)及增加腔體定期維修清潔次數(shù)外，尚有占據(jù)大的廠房空間或現(xiàn)場人力成本高的缺點，故有加以改良的必要。
實用新型內(nèi)容為了改善上述缺失，本實用新型的主要目的在于提供一種利用原有的連續(xù)式生產(chǎn)線空間，不需占據(jù)額外的廠房空間或人員，就可以達(dá)成閉回路傳輸作業(yè)，以提高廠房空間利用率的連續(xù)式真空鍍膜潛入式內(nèi)部回流裝置。
基于上述目的，本實用新型的主要技術(shù)手段是設(shè)有二個分別位于連續(xù)式生產(chǎn)設(shè)備的產(chǎn)品輸入端、輸出端的前升降裝置、后升降裝置，前、后升降裝置的頂部一側(cè)設(shè)有一雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源，頂部并且設(shè)有數(shù)只被雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源驅(qū)動呈同向轉(zhuǎn)動的滾輪，滾輪的軸心是與生產(chǎn)設(shè)備的輸送方向垂直并且沿著輸送方向排列設(shè)置，另于前、后升降裝置上設(shè)有分別檢測其升降時高、低點位置的上感測開關(guān)、下感測開關(guān)，而升降裝置鄰近連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備該端設(shè)有一感測開關(guān)，遠(yuǎn)離生產(chǎn)設(shè)備該端則設(shè)有一定位感測開關(guān)；至少一回傳機(jī)構(gòu)模件，是位于連續(xù)式生產(chǎn)設(shè)備下方并且延伸于前、后升降裝置之間，其具有一單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源，以及與前、后升降裝置的滾輪平行并且被單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源驅(qū)動呈同向轉(zhuǎn)動的數(shù)只滾輪。
實施上述技術(shù)以后，本實用新型可以改進(jìn)現(xiàn)有作業(yè)缺失，而達(dá)到有效空間利用、僅一人操作即可、工作效率高等優(yōu)點。
此外，為了使物件在傳輸過程中減少污染，本實用新型進(jìn)一步于回傳機(jī)構(gòu)模件的頂部及側(cè)邊以一防塵蓋罩覆，僅保留供物件通過的空間。


圖1為本實用新型的前視示意圖；圖2為本實用新型的俯視示意圖；圖3為本實用新型的局部立體外觀示意圖；圖4為現(xiàn)有運(yùn)用于連續(xù)式鍍膜的外部回流裝置配置示意圖；圖5為現(xiàn)有以操作人員配合臺車的示意圖。
具體實施方式
請參閱圖1、2的本實用新型前視及俯視圖所示，本實用新型是利用原有的連續(xù)式真空鍍膜生產(chǎn)裝置，而形成一潛入式內(nèi)部回流裝置，其依序設(shè)有連續(xù)真空鍍膜所需的進(jìn)料腔體區(qū)10、鍍膜腔體區(qū)11、出料腔體區(qū)12，各腔體區(qū)內(nèi)分別設(shè)有一動力輸出設(shè)備13，以分別驅(qū)動一組輸送滾輪14轉(zhuǎn)動，而各腔體區(qū)是分別承置于一進(jìn)料基臺15、一鍍膜基臺16、一出料基臺17上，沿著各基臺15～17的排列方向設(shè)有一位于進(jìn)料基臺15一側(cè)的前置基臺18、一位于出料基臺17一側(cè)的后置基臺19，又于三基臺15～17之間設(shè)有一回傳機(jī)構(gòu)模件40，請同時參閱圖3所示，該回傳機(jī)構(gòu)模件40設(shè)有數(shù)個呈水平并列的滾輪41，其設(shè)置方向與前述輸送滾輪14相同，各滾輪41是被一單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源42透過如鏈條、皮帶等傳動元件43所帶動呈同向旋轉(zhuǎn)，又于回傳機(jī)構(gòu)模件40上方以及兩側(cè)邊以一防塵蓋45罩覆，該防塵蓋45與滾輪41之間的距離需可供承載盤50通過。
另于前置基臺18及后置基臺19內(nèi)分別設(shè)置前升降裝置、后升降裝置，于本較佳實施例當(dāng)中，所述的前、后升降裝置是壓缸軸往上延伸的前、后升降壓缸20、30，兩前、后升降壓缸20、30的壓缸軸頂端分別設(shè)有一水平設(shè)置的平臺，平臺鄰近回傳機(jī)構(gòu)模件40該側(cè)設(shè)有感測開關(guān)24、34，而異于回傳機(jī)構(gòu)模件40該端則設(shè)有定位感測開關(guān)25、35，于平臺上頂面設(shè)有數(shù)個平行并列的滾輪22、32，另于平臺的一側(cè)設(shè)有一雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源21、31，該雙向運(yùn)動動力源21、31的輸出軸設(shè)有鏈輪，以透過傳動元件23、33(如鏈條、皮帶)帶動滾輪22、32旋轉(zhuǎn)，各滾輪22、32是與腔體區(qū)的輸送滾輪14以及回傳機(jī)構(gòu)模件40的滾輪41平行，并且，當(dāng)升降壓缸20、30的壓缸軸往上頂出或者縮入時，滾輪22、32是與各腔體區(qū)的輸送滾輪14、回傳機(jī)構(gòu)模件40的滾輪41等高，另于前、后升降壓缸20、30的缸體一側(cè)設(shè)有檢測缸體內(nèi)部的活塞上頂點、下底點位置的上感測開關(guān)201、301以及下感測開關(guān)202、302。
上述為本實用新型的構(gòu)件配置，其實施方式述及如后請復(fù)參閱圖1所示，并且參考圖式中的箭頭方向(1)當(dāng)完成鍍膜后，承載盤50伴隨盤上所置放的鍍膜成品52及承載基架51自出料腔體區(qū)12輸出，承載盤50的前端會先被感測開關(guān)34感測到；(2)感測開關(guān)34感測訊號將驅(qū)動后置基臺19內(nèi)的雙向轉(zhuǎn)動動力源31正轉(zhuǎn)，借由傳動元件33帶動各滾輪32旋轉(zhuǎn)，使承載盤50能繼續(xù)前進(jìn)至定位感測開關(guān)35為止；(3)定位感測開關(guān)35的感測訊號先使雙向轉(zhuǎn)動動力源31停止運(yùn)轉(zhuǎn)，并同時驅(qū)動后升降壓缸30向下降，直到觸動下感測開關(guān)302為止，此時，位于壓缸軸頂部的滾輪32與回傳機(jī)構(gòu)模件40的滾輪41恰為等高；(4)當(dāng)下定位感測開關(guān)35感測到升降壓缸的低點位置時，即驅(qū)動雙向轉(zhuǎn)動動力源31反向驅(qū)動，以及回傳機(jī)構(gòu)模件40的單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源42同向轉(zhuǎn)動，以便將承載盤50依反方向傳送至回傳機(jī)構(gòu)模件40上，直到承載盤50前端碰觸到位于回傳機(jī)構(gòu)模件40鄰近前置基臺18該端的感測開關(guān)46為止；(5)感測開關(guān)46的感測訊號將驅(qū)動前述的后置基臺19內(nèi)的后升降壓缸30向上升，直到上感測開關(guān)301感測到其上升位置，即回歸待命位置(stand-by position)，以等待下一個承載盤50自出料腔體區(qū)12出來；(6)在此同時，一位于回傳機(jī)構(gòu)模件40鄰近前置基臺18該端的感測開關(guān)46的感測訊號將先使單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源42與雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源31停止運(yùn)轉(zhuǎn)，使承載盤50在回傳機(jī)構(gòu)模件40前端靜候等待，必須先做下列兩項確認(rèn)動作，方可繼續(xù)前進(jìn)首先，為避免位于前端的前升降壓缸20位于錯誤位置(譬如上頂點)，先由下感測開關(guān)202確認(rèn)該前升降壓缸20是否正位于下底點；其次，為避免承載盤50在前升降壓缸20處發(fā)生撞盤或堆疊情況，故先由于平臺兩側(cè)的感測開關(guān)24、定位感測開關(guān)25確認(rèn)滾輪22上是否沒有任何承載盤50時，再啟動單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源42運(yùn)轉(zhuǎn)以及雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源21反轉(zhuǎn)，借由鏈條或皮帶構(gòu)成的傳動元件43、23帶動滾輪41、22轉(zhuǎn)動，可將承載盤50自回傳機(jī)構(gòu)模件40繼續(xù)傳送至前升降壓缸20頂部，直到承載盤50前端碰觸到定位感測開關(guān)25為止；(7)定位感測開關(guān)25訊號先使雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源21以及單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源42停止運(yùn)轉(zhuǎn)，并使前升降壓缸20的壓缸軸往上升，直到碰觸到上感測開關(guān)201為止(升降壓缸上頂點)；(8)上感測開關(guān)201訊號將先令前升降壓缸20停滯在上頂點，靜候前端操作人員自承載盤50取出已鍍膜完成的成品52(含承載基架51)，并再放入另一組待鍍的基材(含承載基架51)，在此過程中，前端操作人員并不需取出承載盤50，亦不會碰觸到承載盤50，可有效隔離承載盤50與外界環(huán)境接觸的機(jī)會；(9)當(dāng)位于前端的操作人員按載入鍵(reload)后，雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源21開始正轉(zhuǎn)，以便將承載盤50重新載入進(jìn)料腔體區(qū)10，進(jìn)行下一次鍍膜循環(huán)流程；(10)當(dāng)承載盤50完全進(jìn)入進(jìn)料腔體區(qū)10，感測開關(guān)24感測不到承載盤50的存在后，將驅(qū)動前升降壓缸20往下降，直到碰觸到下感測開關(guān)202(升降壓缸下底點)，回歸待命位置(stand-byposition)等待下一個自回傳機(jī)構(gòu)模件40傳出的承載盤50；(11)如此循環(huán)動作，周而復(fù)始，本實用新型潛入式內(nèi)部回流裝置便完成一自動化閉回路連續(xù)式作業(yè)流程，而且現(xiàn)場僅需一位操作人員即可獨立完成。
由上述本實用新型的動作流程，本實用新型具有數(shù)項特點1.僅需要一位操作人員即可獨立完成作業(yè)。
2.罩覆于回傳機(jī)構(gòu)模件上的透明防塵蓋除了具有除塵功能外，更可透視內(nèi)部回傳機(jī)構(gòu)模件運(yùn)作狀態(tài)，增加故障檢修及障礙排除的簡易性。
3.再者，為避免承載盤在回傳機(jī)構(gòu)模件上，因為與滾輪之間摩擦力不足，而產(chǎn)生滑動及傳動不確實，本實用新型可在滾動軸外側(cè)包覆具有吸震及減噪功能材質(zhì)，如此不僅可以增加承載盤與回傳機(jī)構(gòu)模件滾輪之間的摩擦力，提升傳動的確實性，同時大幅降低回傳過程中的噪音。
上述簡單實施例是以三個獨立腔體作業(yè)流程做說明，不過獨立腔體的數(shù)目可依鍍膜品質(zhì)要求、種類及真空潔凈度要求不同而做適度的擴(kuò)充，例如增加低、中、高真空腔體區(qū)，最高可增加至十個以上的獨立腔體連續(xù)式設(shè)備，對此擴(kuò)充狀況，只要增加回傳機(jī)構(gòu)模件的組數(shù)即可，只是為了避免發(fā)生承載盤在回傳過程中在某一個回傳機(jī)構(gòu)模件區(qū)域發(fā)生撞盤或堆疊情況，控制程序中必需先確認(rèn)下一個回傳機(jī)構(gòu)模件是處于無承載盤的等待狀態(tài)，上一個回傳機(jī)構(gòu)模件方可使承載盤繼續(xù)向前傳送。
又上述本實用新型是實施于連續(xù)式真空鍍膜的設(shè)備上，其亦可以實施于其他連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備。
權(quán)利要求1.一種自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，是配合連續(xù)式生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于包括分別位于連續(xù)式生產(chǎn)設(shè)備的產(chǎn)品輸入端、輸出端的一前升降裝置、一后升降裝置，前、后升降裝置的頂部一側(cè)設(shè)有一雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源，頂部并且設(shè)有數(shù)只被雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源驅(qū)動呈同向轉(zhuǎn)動的滾輪，滾輪的軸心是與生產(chǎn)設(shè)備的輸送方向垂直并且沿著輸送方向排列設(shè)置，另于前、后升降裝置上設(shè)有分別檢測其升降時高、低點位置的上感測開關(guān)、下感測開關(guān)，而升降裝置鄰近連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備該端設(shè)有一感測開關(guān)，遠(yuǎn)離生產(chǎn)設(shè)備該端則設(shè)有一定位感測開關(guān)；至少一回傳機(jī)構(gòu)模件，是位于連續(xù)式生產(chǎn)設(shè)備下方并且延伸于前、后升降裝置之間，其具有一單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源，以及與前、后升降裝置的滾輪平行并且被單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源驅(qū)動呈同向轉(zhuǎn)動的數(shù)只滾輪。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，其特征在于所述回傳機(jī)構(gòu)模件鄰近前升降裝置該端設(shè)有一感測開關(guān)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，其特征在于于回傳機(jī)構(gòu)模件的頂部及側(cè)邊以一防塵蓋罩覆，防塵蓋頂部與回傳機(jī)構(gòu)模件之間具有供物件通過的空間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，其特征在于該前、后升降裝置是為壓缸軸往上延伸的壓缸，其壓缸軸頂部設(shè)有一平臺，所述的雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源是位于平臺一側(cè)，而各滾輪則是設(shè)于平臺頂部。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，其特征在于所述的防塵蓋是為一透明蓋體。
6.根據(jù)權(quán)利要求1項所述的自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，其特征在于所述的回傳機(jī)構(gòu)模件的滾輪表面由具吸震及減噪功能的材質(zhì)所包覆。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，其特征在于所述的單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源的輸出軸與滾輪之間，以及雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源與滾輪之間是以鏈條連結(jié)驅(qū)動。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，其特征在于所述的單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源的輸出軸與滾輪之間，以及雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源與滾輪之間是以皮帶連結(jié)驅(qū)動。
專利摘要一種自動化潛入式內(nèi)部回流裝置，是設(shè)有一位于連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備前、后端的前升降裝置、后升降裝置、至少一延伸于前、后升降裝置之間并且位在連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備下方的回傳機(jī)構(gòu)模件，該前、后升降裝置上設(shè)有雙向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源以及數(shù)只被驅(qū)動轉(zhuǎn)動的滾輪，而回傳機(jī)構(gòu)模件則設(shè)有單向運(yùn)轉(zhuǎn)動力源以及數(shù)只被驅(qū)動的滾輪，待作業(yè)的物品是置于前升降裝置頂部，輸送至生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)作業(yè)之后，再輸送至后升降裝置，后升降裝置下降至回傳機(jī)構(gòu)模件的高度，再經(jīng)由回傳機(jī)構(gòu)模件輸送至前升降裝置取出，再置入待生產(chǎn)物件。
文檔編號C23C14/56GK2714582SQ20042003634
公開日2005年8月3日 申請日期2004年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月9日
發(fā)明者許耿禎, 黃泰源, 余端仁, 李原吉, 廖學(xué)炯 申請人:友威科技股份有限公司