專利名稱：具有改良式氣體混合手段的濕機臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種用于半導(dǎo)體組件制作的設(shè)備，且特別是有關(guān)于一種用于平板顯示器(flat panel display，F(xiàn)PD)制作的濕機臺。
背景技術(shù)：
用于平板顯示器制作的半導(dǎo)體基底大過一公尺，因此要控制像是濕機臺等清潔設(shè)備的大小對FPD制造商來說是很大的負擔(dān)。一般濕機臺的清潔過程開始是先用清潔溶液，用洗滌液然后進行一道干燥過程，考慮到這些條件，濕機臺的制造商必須努力的縮小濕機臺的尺寸以及縮短用濕機臺處理半導(dǎo)體基底的時間。
濕機臺是用來移除吸附于半導(dǎo)體基底上的顆粒、有機或無機污染物、金屬污染物以及原生氧化層，或是自半導(dǎo)體基底上移除光阻，醋酸(CH3COOH)是用來作為溶劑與剝除劑，要移除殘留在半導(dǎo)體基底上的光阻時會被使用到。在清潔溶劑的使用期間，在半導(dǎo)體基底上的有機物質(zhì)會被中和，假如半導(dǎo)體基底變成親水性的，在使用洗滌液期間濕機臺的清潔力會被改善，為了確定半導(dǎo)體基底的親水性，會將臭氧(O3)注入到清潔溶液內(nèi)。
但是，公知的濕機臺無法將清潔溶液內(nèi)的臭氧氣體密度維持與控制在一個預(yù)期狀態(tài)下，結(jié)果使用清潔溶液以后濕機臺會需要使用額外的洗滌液于半導(dǎo)體基底上，好讓氣體的密度維持在預(yù)期的狀態(tài)下，因此濕機臺需要一個額外的空間好使用洗滌液，這會讓濕機臺變大；而且因為濕機臺要把洗滌液用在半導(dǎo)體基底上，就會需要一段長時間來處理半導(dǎo)體基底。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是在提供一種具有改良式氣體混合手段的濕機臺，透過使用改良式氣體混合手段可以有效的將一清潔溶液與一氣體混合并處理在溶液槽內(nèi)的半導(dǎo)體基底。
根據(jù)本發(fā)明的目的之一，提出一種濕機臺，此濕機臺包括一溶液槽、一儲存槽、一供應(yīng)管、一泵、一氣體混合手段、以及一密度控制器。在溶液槽內(nèi)，半導(dǎo)體基底會在此處理且其中包括一浸泡槽與一噴嘴；儲存槽會連接到溶液槽，儲存由溶液槽流出的化學(xué)溶液并供應(yīng)化學(xué)溶液到溶液槽內(nèi)；供應(yīng)管用以作為一信道以供應(yīng)化學(xué)溶液到溶液槽；泵裝設(shè)在供應(yīng)管的一端以供應(yīng)化學(xué)溶液到溶液槽；氣體混合手段裝設(shè)在供應(yīng)管的另一端，會注入一氣體到化學(xué)溶液內(nèi)，并使氣體與化學(xué)溶液混合；而密度控制器會顯示由供應(yīng)管供應(yīng)且通過氣體混合手段的化學(xué)溶液的密度。
較適當?shù)氖牵瑲怏w混合手段包括一氣體產(chǎn)生器與一氣體混合器，其中氣體產(chǎn)生器會由供應(yīng)管的外部連接到供應(yīng)管；氣體混合器會裝設(shè)在供應(yīng)管的內(nèi)部，此氣體混合器包括一主體與一頭部，主體以相對于該供應(yīng)管的右邊角度形成；而頭部形成在垂直方向上，好讓該化學(xué)溶液可以通過主體。
較適當?shù)氖?，半?dǎo)體組件為平板顯示(flat panel display，F(xiàn)PD)組件，而在溶液槽內(nèi)的半導(dǎo)體組件處理就是自半導(dǎo)體組件的表面移除一層光阻；氣體產(chǎn)生器會產(chǎn)生臭氧氣體，而儲存槽儲存醋酸。
較適當?shù)氖?，供?yīng)管包括一第一供應(yīng)管與一第二供應(yīng)管，第一供應(yīng)管會連接到溶液槽的浸泡槽的下方部份，第二供應(yīng)管會由第一供應(yīng)管延伸并連接到溶液槽的噴嘴上。
根據(jù)本發(fā)明，透過有效將混合由儲存槽供應(yīng)的清潔溶液與像是臭氧等氣體混合，把清潔溶液內(nèi)的氣體密度維持與控制在一個預(yù)定的程度下，就可以省略使用洗滌液，因為省略了洗滌液的使用，就可以不需要容納洗滌液的空間，因此可以縮小濕機臺的尺寸，另外也可以改善濕機臺的清潔力，這會減少濕機臺處理半導(dǎo)體基底所需要的處理時間。
為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉一較佳實施例，并配合附圖，作詳細說明。


圖1是根據(jù)本發(fā)明提供的一種具有氣體混合手段的濕機臺的結(jié)構(gòu)剖面簡示圖；圖2是氣體混合手段的剖面圖；圖3是氣體混合手段上的氣體混合器，沿著圖2的線段IV-IV’剖面；以及圖4是沿著圖3的線段V-V’的剖面圖。
標號說明100濕機臺110溶液槽112噴嘴 114浸泡槽120儲存槽130泵140供應(yīng)管142第一供應(yīng)管144第二供應(yīng)管150密度控制器
152氣體產(chǎn)生器154氣體混合器156主體 158頭部160密度控制器170半導(dǎo)體基底180清潔溶液 190氣體具體實施方式
“清潔溶液”一詞適用最廣的定義，并不限于像是醋酸之類的特定化學(xué)溶液。
在不違反其特征與本質(zhì)下，本發(fā)明可以用不同的方式來呈現(xiàn)，舉例來說，氣體混合手段將清潔溶劑與臭氧混合，但是也可以將清潔溶液與氮氣或是其它氣體混合。另外，氣體混合手段會自半導(dǎo)體基底上移除光阻，但是也可以用來自半導(dǎo)體基底的表面上移除其它污染物，因此本發(fā)明不應(yīng)該僅限于在此提到的實施例范圍。
圖1是根據(jù)本發(fā)明提供的一種具有氣體混合手段150的濕機臺100的結(jié)構(gòu)剖面簡示圖。
請參照圖1，濕機臺100包括溶液槽110、儲存槽120、供應(yīng)管140、泵130、氣體混合手段150、以及密度控制器160。用來處理半導(dǎo)體基底170的溶液槽110包括一個浸泡槽114以及一個噴嘴112，儲存槽120會被連接到溶液槽110，用以儲存由溶液槽110流出的清潔溶液并供應(yīng)清潔溶液到溶液槽110內(nèi)；供應(yīng)管140是用來供應(yīng)清潔溶液到溶液槽110；泵130會裝設(shè)在供應(yīng)管140的一端以供應(yīng)清潔溶液到溶液槽；氣體混合手段150會裝設(shè)在供應(yīng)管140的另一端，將空氣注入到清潔溶液內(nèi)，并將空氣與清潔溶液混合；密度控制器160會顯示由供應(yīng)管140供應(yīng)且通過氣體混合手段150的化學(xué)溶液的密度。
在溶液槽110內(nèi)，清潔溶液的應(yīng)用方式可以用噴嘴112將清潔溶液噴灑在半導(dǎo)體基底170上，也可以用浸泡槽112將半導(dǎo)體基底170浸泡在清潔溶液內(nèi)。供應(yīng)管140包括連接到浸泡槽114下方部份的第一供應(yīng)管142以及連接到噴嘴112的第二供應(yīng)管144，因此儲存槽120與浸泡槽114間的距離可以縮短，這會更方便將清潔溶液內(nèi)的氣體密度控制在一個預(yù)定狀態(tài)下，舉例來說，1％的臭氧在99％的醋酸內(nèi)。
另外，氣體混合手段150不是裝設(shè)在儲存槽120，而是直接連接到供應(yīng)管140上，并利用氣體混合器154將清潔溶液與氣體產(chǎn)生器152產(chǎn)生的臭氧相混合，這可以有效的將清潔溶液內(nèi)的臭氧濃度維持在預(yù)定狀態(tài)下。
密度控制器160不是裝設(shè)在儲存槽120內(nèi)，而是直接連接到供應(yīng)管140，好讓濕機臺100可以快速的將清潔溶液內(nèi)的臭氧氣體密度控制在預(yù)定的狀態(tài)。
圖2是氣體混合手段150的剖面圖；圖3是氣體混合手段150上的氣體混合器154，沿著圖2的線段IV-IV’剖面；而圖4是沿著第3圖的線段V-V’的剖面圖。
請參照圖2至圖4，在圖1中的氣體混合手段150包括氣體產(chǎn)生器150與氣體混合氣154，如圖3所示，氣體混合器154包括一個主體156與頭部158，主體156形成在相對于供應(yīng)管140的右邊角度上，而頭部158形成在垂直方向上，好讓該化學(xué)溶液可以通過主體156。因此，由氣體產(chǎn)生器152供應(yīng)的氣體像是臭氧等，在通過氣體混合器154的主體156以后會溶在清潔溶液內(nèi)，這會讓在由供應(yīng)管140提供的清潔溶液180內(nèi)的氣體190密度維持在預(yù)定的狀態(tài)下。
根據(jù)本發(fā)明，利用有效的將儲存槽供應(yīng)的清潔溶液與一種氣體像是臭氧混合，并將氣體密度控制在預(yù)定的狀態(tài)下，通過減少使用洗滌液需要的空間可以減少濕機臺的尺寸，并且可以減少濕機臺處理半導(dǎo)體基底所需要的時間。
雖然本發(fā)明已以一較佳實施例公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許之更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視權(quán)利要求書為準。
權(quán)利要求
1.一種濕機臺，其特征在于，包括一溶液槽，會在其中處理一半導(dǎo)體組件，且其中有一噴嘴；一儲存槽，與該溶液槽連通，會儲存由該溶液槽流過來的一化學(xué)溶液并供應(yīng)該化學(xué)溶液到該溶液槽；一供應(yīng)管，用來作為一信道以供應(yīng)該化學(xué)溶劑到該溶液槽；一泵，裝設(shè)在該供應(yīng)管的一端用以供應(yīng)該化學(xué)溶液到該溶液槽；一氣體混合手段，裝設(shè)在該供應(yīng)管的另一端，注入一氣體到該化學(xué)溶液內(nèi)并將該氣體與該化學(xué)溶液混合；以及一密度控制器，顯示透過該供應(yīng)管供應(yīng)以及通過該氣體混合手段的該化學(xué)溶液的密度。
2.如權(quán)利要求1所述的濕機臺，其特征在于，該半導(dǎo)體組件為一平板顯示器。
3.如權(quán)利要求1所述的濕機臺，其特征在于，在該溶液槽內(nèi)處理該半導(dǎo)體組件的步驟為自該半導(dǎo)體組件的一表面上移除一光阻。
4.如權(quán)利要求1所述的濕機臺，其特征在于，該氣體混合手段包括一氣體產(chǎn)生器，由該供應(yīng)管外部連接到該供應(yīng)管；以及一氣體混合器，裝設(shè)在供應(yīng)管的內(nèi)部。
5.如權(quán)利要求4所述的濕機臺，其特征在于，該氣體產(chǎn)生器會產(chǎn)生一臭氧氣體。
6.如權(quán)利要求4所述的濕機臺，其特征在于，該氣體混合器包括一主體，以相對于該供應(yīng)管的右邊角度形成；以及一頭部，形成在垂直方向上，好讓該化學(xué)溶液可以通過該主體。
7.如權(quán)利要求1所述的濕機臺，其特征在于，該供應(yīng)管包括一第一供應(yīng)管，連接到該溶液槽的一下方區(qū)域；以及一第二供應(yīng)管，由該第一供應(yīng)管延伸出來并連接到該溶液槽的該噴嘴。
8.如權(quán)利要求1所述的濕機臺，其特征在于，該儲存槽儲存醋酸。
9.如權(quán)利要求1所述的濕機臺，其特征在于，該溶液槽進一步包括一浸泡槽，用以承裝由噴嘴噴灑的一化學(xué)溶液。
全文摘要
一種具有改良式氣體混合手段的濕機臺，可以縮小濕機臺的尺寸以及濕機臺需要的處理時間，氣體混合手段會被裝置在一個供應(yīng)化學(xué)溶液并放置在一個溶液槽與儲存槽之間的供應(yīng)管內(nèi)，透過噴灑跟浸泡在一個清潔液內(nèi)可以處理在溶液槽內(nèi)的半導(dǎo)體基底。
文檔編號H01J9/00GK1484282SQ0315370
公開日2004年3月24日 申請日期2003年8月18日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月20日
發(fā)明者李碩周, 樸起范 申請人:顯像制造服務(wù)株式會社