技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種121.6nm窄帶負濾光片及其制備方法，該方法包括：確定制備121.6nm窄帶負濾光片時所需的多層膜的鍍膜材料以及相應(yīng)的基礎(chǔ)膜系結(jié)構(gòu)；基于鍍膜材料以及基礎(chǔ)膜系結(jié)構(gòu)，計算相應(yīng)的等效導(dǎo)納以及位相厚度；根據(jù)等效導(dǎo)納以及位相厚度，依次在多層膜與入射介質(zhì)之間、以及多層膜與基底之間分別進行導(dǎo)納匹配處理，以對基礎(chǔ)膜系結(jié)構(gòu)進行優(yōu)化，得到優(yōu)化后膜系結(jié)構(gòu)；根據(jù)優(yōu)化后膜系結(jié)構(gòu)，制備相應(yīng)的121.6nm窄帶負濾光片。本申請可消除由于多層膜與入射介質(zhì)、基底之間導(dǎo)納不匹配而使得旁帶和可見光波段具有高反射率的現(xiàn)象，而基于上述經(jīng)過優(yōu)化處理的膜系結(jié)構(gòu)制備得到的121.6nm負濾光片具有較低的旁帶以及可見光波段的反射率，從而有利于提升121.6nm譜線的質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：王孝東;陳波;王海峰;鄭鑫
受保護的技術(shù)使用者：中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.22
技術(shù)公布日：2017.08.11