技術(shù)總結(jié)
本實用新型公開一種掃描式曝光設(shè)備，包含基座、線性光源、控制電路板以及至少一傳動機(jī)構(gòu)；其中基座具有一平臺，可擺置一基板、一光罩的組合體以進(jìn)行一微影制程；至少一傳動機(jī)構(gòu)配置于基座上；線性光源配置于至少一傳動機(jī)構(gòu)的其中之一上，該至少一傳動機(jī)構(gòu)可帶動該線性光源進(jìn)行作動；一線性光源電連接該控制電路板，該線性準(zhǔn)直光用以執(zhí)行該微影制程；控制電路板控制傳動機(jī)構(gòu)帶動線性光源移動至少一作業(yè)周期，并控制線性光源于該至少一作業(yè)周期的移動期間持續(xù)產(chǎn)生線性準(zhǔn)直光，以對基板、光罩的組合體進(jìn)行至少一次的面曝光，據(jù)以完成該微影制程。本實用新型不需要復(fù)雜的光學(xué)機(jī)構(gòu)，且設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，可達(dá)到大幅降低曝光設(shè)備的成本的目的。

技術(shù)研發(fā)人員：許銘案
受保護(hù)的技術(shù)使用者：許銘案
文檔號碼：201620544254
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.07
技術(shù)公布日：2017.01.25