1.一種掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，包括：
一基座，該基座具有一平臺(tái)，該平臺(tái)上擺置一基板以及一光罩的組合體；
一控制電路板；
一線性光源，電連接該控制電路板，并配置多個(gè)發(fā)光組件，該多個(gè)發(fā)光組件能夠產(chǎn)生一線性準(zhǔn)直光；以及
至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，配置于該基座上，連接該控制電路板，該線性光源配置于至少一該傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的其中之一上，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠帶動(dòng)該線性光源進(jìn)行作動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該線性準(zhǔn)直光的波長(zhǎng)介于280納米至550納米之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該線性準(zhǔn)直光的波長(zhǎng)為365納米、375納米、385納米、405納米或437納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該控制電路板能夠調(diào)整該線性光源的輸出功率。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該控制電路板能夠調(diào)整該線性光源的移動(dòng)速度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該多個(gè)發(fā)光組件排列成至少一列。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該線性光源的長(zhǎng)度介于5厘米至300厘米之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括產(chǎn)生直線動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該線性光源以第一軸直線式移動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括產(chǎn)生直線動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該線性光源以第一軸直線式移動(dòng)；該傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使該線性光源的中心產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該線性光源旋轉(zhuǎn)至與該第一軸的夾角為θ度時(shí)，控制該線性光源以第二軸直線移動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使該線性光源的中心產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該線性光源進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括一垂直移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)帶動(dòng)該線性光源以一垂直軸移動(dòng)，使該控制電路板能夠控制該線性光源與該光罩的相對(duì)距離。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，還包括對(duì)該基板與該光罩進(jìn)行對(duì)位動(dòng)作的一光罩對(duì)位裝置，該光罩對(duì)位裝置配置于該平臺(tái)上。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該光罩對(duì)位裝置至少包括一組攝像頭、一光罩夾持具以及一對(duì)位基座。
14.一種掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，包括：
一基座，該基座具有一固定平臺(tái)與一可動(dòng)平臺(tái)，該可動(dòng)平臺(tái)上擺置至少一基板以及一光罩的組合體；
一控制電路板，固定于該基座上；
一線性光源，連接該控制電路板，并配置多個(gè)發(fā)光組件，該多個(gè)發(fā)光組件能夠產(chǎn)生一線性準(zhǔn)直光；以及
至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，配置于該基座上，連接該控制電路板，該至少傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的其中之一配置于該可動(dòng)平臺(tái)上以使該可動(dòng)平臺(tái)移動(dòng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該線性準(zhǔn)直光的波長(zhǎng)介于280納米至550納米之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該線性準(zhǔn)直光的波長(zhǎng)為365納米、375納米、385納米、405納米或437納米。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該控制電路板能夠調(diào)整該線性光源的輸出功率。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該控制電路板能夠調(diào)整該線性光源的移動(dòng)速度。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該多個(gè)發(fā)光組件排列成至少一列。
20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該線性光源的長(zhǎng)度介于5厘米至300厘米之間。
21.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括產(chǎn)生直線動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該可動(dòng)平臺(tái)以第一軸直線式移動(dòng)。
22.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括產(chǎn)生直線動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板可控制該可動(dòng)平臺(tái)以第一軸直線式移動(dòng)；該傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使該可動(dòng)平臺(tái)的中心產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該可動(dòng)平臺(tái)旋轉(zhuǎn)至與該第一軸的夾角為θ度時(shí)，控制該可動(dòng)平臺(tái)以第二軸直線移動(dòng)。
23.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使該線性光源的中心產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該可動(dòng)平臺(tái)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
24.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括一垂直移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)該可動(dòng)平臺(tái)以一垂直軸移動(dòng)，使該控制電路板能夠控制該可動(dòng)平臺(tái)與該光罩的相對(duì)距離。
25.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，還包括對(duì)基板與該光罩進(jìn)行對(duì)位動(dòng)作的一光罩對(duì)位裝置，該光罩對(duì)位裝置配置于該可動(dòng)平臺(tái)上。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的掃描式曝光設(shè)備，其特征在于，其中該光罩對(duì)位裝置至少包括一組攝像頭、一光罩夾持具以及一對(duì)位基座。