本實(shí)用新型關(guān)于一種曝光裝置，特別關(guān)于一種掃描式曝光設(shè)備。

背景技術(shù)：

微影制程在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中是基本配備，而其為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)成本中單一最大成本因子。根據(jù)信息網(wǎng)絡(luò)工業(yè)公司所發(fā)展的評(píng)估方法，曝光系統(tǒng)的占整個(gè)晶圓廠(chǎng)成本的20%。而微影設(shè)備主要掌握在Nikon、ASML和SVGL等光學(xué)設(shè)備廠(chǎng)。

微影設(shè)備當(dāng)中的曝光設(shè)備，目前是采用一次性曝光的方式，借由復(fù)雜的光學(xué)機(jī)構(gòu)讓對(duì)位好的光罩與基板進(jìn)行曝光。這種一次性曝光的方式，由于需要達(dá)到光線(xiàn)的準(zhǔn)直性需求、一次性(可控制時(shí)間長(zhǎng)短)以及光罩與基板的緊密貼合，所以，在對(duì)位機(jī)構(gòu)上以及曝光光學(xué)機(jī)構(gòu)上，要求極為嚴(yán)格。也因此，曝光設(shè)備的價(jià)格動(dòng)輒數(shù)百萬(wàn)美金。此外，對(duì)于不同大小的晶圓或基板來(lái)說(shuō)，需要不同大小的曝光設(shè)備。這也是曝光系統(tǒng)可以占整個(gè)晶圓廠(chǎng)成本的20%的主要原因。

自半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展至今，曝光設(shè)備的成本始終居高不下，主因在于對(duì)曝光設(shè)備的光線(xiàn)準(zhǔn)直性與定位等要求極高，一般廠(chǎng)商不具光學(xué)設(shè)備的能力，無(wú)法設(shè)計(jì)與開(kāi)發(fā)。因此，如何能開(kāi)發(fā)出一個(gè)成本大幅降低，且可適用于多種不同尺寸的晶圓、基板，具有高度準(zhǔn)直性且能達(dá)到傳統(tǒng)曝光設(shè)備的基本要求者，成為曝光設(shè)備開(kāi)發(fā)的重要方向。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型提供一種掃描式曝光設(shè)備，其制程簡(jiǎn)單，合格率高。

本實(shí)用新型提供一種掃描式曝光設(shè)備，包括：

一基座，該基座具有一平臺(tái)，該平臺(tái)上擺置一基板以及一光罩的組合體；

一控制電路板；

一線(xiàn)性光源，電連接該控制電路板，并配置多個(gè)發(fā)光組件，該多個(gè)發(fā)光組件能夠產(chǎn)生一線(xiàn)性準(zhǔn)直光；以及

至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，配置于該基座上，連接該控制電路板，該線(xiàn)性光源配置于至少一該傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的其中之一上，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠帶動(dòng)該線(xiàn)性光源進(jìn)行作動(dòng)。

其中該線(xiàn)性準(zhǔn)直光的波長(zhǎng)介于280納米至550納米之間。

其中該線(xiàn)性準(zhǔn)直光的波長(zhǎng)為365納米、375納米、385納米、405納米或437納米。

其中該控制電路板能夠調(diào)整該線(xiàn)性光源的輸出功率。

其中該控制電路板能夠調(diào)整該線(xiàn)性光源的移動(dòng)速度。

其中該多個(gè)發(fā)光組件排列成至少一列。

其中該線(xiàn)性光源的長(zhǎng)度介于5厘米至300厘米之間。

其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括產(chǎn)生直線(xiàn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該線(xiàn)性光源以第一軸直線(xiàn)式移動(dòng)。

其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括產(chǎn)生直線(xiàn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該線(xiàn)性光源以第一軸直線(xiàn)式移動(dòng)；該傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使該線(xiàn)性光源的中心產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該線(xiàn)性光源旋轉(zhuǎn)至與該第一軸的夾角為θ度時(shí)，控制該線(xiàn)性光源以第二軸直線(xiàn)移動(dòng)。

其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使該線(xiàn)性光源的中心產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該線(xiàn)性光源進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括一垂直移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)帶動(dòng)該線(xiàn)性光源以一垂直軸移動(dòng)，使該控制電路板能夠控制該線(xiàn)性光源與該光罩的相對(duì)距離。

還包括對(duì)該基板與該光罩進(jìn)行對(duì)位動(dòng)作的一光罩對(duì)位裝置，該光罩對(duì)位裝置配置于該平臺(tái)上。

其中該光罩對(duì)位裝置至少包括一組攝像頭、一光罩夾持具以及一對(duì)位基座。

本實(shí)用新型還提供一種掃描式曝光設(shè)備，包括：

一基座，該基座具有一固定平臺(tái)與一可動(dòng)平臺(tái)，該可動(dòng)平臺(tái)上擺置至少一基板以及一光罩的組合體；

一控制電路板，固定于該基座上；

一線(xiàn)性光源，連接該控制電路板，并配置多個(gè)發(fā)光組件，該多個(gè)發(fā)光組件能夠產(chǎn)生一線(xiàn)性準(zhǔn)直光；以及

至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，配置于該基座上，連接該控制電路板，該至少傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的其中之一配置于該可動(dòng)平臺(tái)上以使該可動(dòng)平臺(tái)移動(dòng)。

其中該線(xiàn)性準(zhǔn)直光的波長(zhǎng)介于280納米至550納米之間。

其中該線(xiàn)性準(zhǔn)直光的波長(zhǎng)為365納米、375納米、385納米、405納米或437納米。

其中該控制電路板能夠調(diào)整該線(xiàn)性光源的輸出功率。

其中該控制電路板能夠調(diào)整該線(xiàn)性光源的移動(dòng)速度。

其中該多個(gè)發(fā)光組件排列成至少一列。

其中該線(xiàn)性光源的長(zhǎng)度介于5厘米至300厘米之間。

其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括產(chǎn)生直線(xiàn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該可動(dòng)平臺(tái)以第一軸直線(xiàn)式移動(dòng)。

其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括產(chǎn)生直線(xiàn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板可控制該可動(dòng)平臺(tái)以第一軸直線(xiàn)式移動(dòng)；該傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使該可動(dòng)平臺(tái)的中心產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該可動(dòng)平臺(tái)旋轉(zhuǎn)至與該第一軸的夾角為θ度時(shí)，控制該可動(dòng)平臺(tái)以第二軸直線(xiàn)移動(dòng)。

其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使該線(xiàn)性光源的中心產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)使該控制電路板能夠控制該可動(dòng)平臺(tái)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

其中該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括一垂直移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該至少一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)該可動(dòng)平臺(tái)以一垂直軸移動(dòng)，使該控制電路板能夠控制該可動(dòng)平臺(tái)與該光罩的相對(duì)距離。

還包括對(duì)基板與該光罩進(jìn)行對(duì)位動(dòng)作的一光罩對(duì)位裝置，該光罩對(duì)位裝置配置于該可動(dòng)平臺(tái)上。

其中該光罩對(duì)位裝置至少包括一組攝像頭、一光罩夾持具以及一對(duì)位基座。

本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)在于：

本實(shí)用新型運(yùn)用可提供線(xiàn)性準(zhǔn)直光的線(xiàn)性光源，再結(jié)合掃描技術(shù)將線(xiàn)性準(zhǔn)直光變成面的準(zhǔn)直光，不需要復(fù)雜的光學(xué)機(jī)構(gòu)，且設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可達(dá)到大幅降低曝光設(shè)備的成本的目的。

附圖說(shuō)明

圖1A、圖1B為本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的一具體實(shí)施例的上視圖、側(cè)視圖。

圖2A、圖2B為本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的又一具體實(shí)施例的上視圖、側(cè)視圖。

圖3A、圖3B為本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的另一具體實(shí)施例的上視圖、側(cè)視圖。

圖4A、圖4B為本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的再一具體實(shí)施例的上視圖、側(cè)視圖。

圖5A-5E為本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的又一具體實(shí)施例的上視圖與側(cè)視圖。

圖6為本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的對(duì)位機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖。

圖中：

1 基座；

2 傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；

3 軌道；

5a、5b 平臺(tái)；

6 傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；

10 基板；

20 光阻層；

30 光罩；

31 圖案；

40 線(xiàn)性光源；

41 線(xiàn)性準(zhǔn)直光；

50a 傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；

50b 支架；

51 軌道；

60 控制電路板；

70 支架；

71 傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；

80 旋轉(zhuǎn)平臺(tái)；

90 傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；

100 傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；

101 軌道；

102 傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；

110 乘載平臺(tái)；

120 夾持具；

130 攝像組。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，以使本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以更好的理解本實(shí)用新型并能予以實(shí)施，但所舉實(shí)施例不作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。

根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，本實(shí)用新型運(yùn)用可提供線(xiàn)性準(zhǔn)直光的線(xiàn)性光源，再結(jié)合掃描技術(shù)將線(xiàn)性準(zhǔn)直光變成面的準(zhǔn)直光，不需要復(fù)雜的光學(xué)機(jī)構(gòu)，且設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可達(dá)到大幅降低曝光設(shè)備的成本的目的。

圖1A，本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的一具體實(shí)施例的上視圖， 圖1B為圖1A中從A方向看進(jìn)去的側(cè)視圖。在圖1A、圖1B中，掃描式曝光設(shè)備包含基座1、控制電路板60、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a、線(xiàn)性光源40。其中基座1具有平臺(tái)5a，可擺置基板10、光罩30的組合體以進(jìn)行微影制程，基板10上已形成有光阻層20。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、50a配置于基座1上，連接控制電路板60，線(xiàn)性光源40配置于傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a上，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a可帶動(dòng)線(xiàn)性光源40進(jìn)行作動(dòng)，其以垂直于線(xiàn)性光源40的軸向方式作動(dòng)，而是線(xiàn)性光源40所發(fā)出的線(xiàn)性準(zhǔn)直光41可以?huà)呙璧姆绞綐?gòu)成面的曝光。線(xiàn)性光源40電連接控制電路板60，并配置多個(gè)發(fā)光組件，這些發(fā)光組件可產(chǎn)生線(xiàn)性準(zhǔn)直光41，線(xiàn)性準(zhǔn)直光41用以執(zhí)行微影制程。線(xiàn)性光源40的制作方式很多，發(fā)光組件可采用發(fā)光二極管，而發(fā)光二極管的排列可采用單排發(fā)光二極管或者多排發(fā)光二極管的方式，并于出光部制作透鏡，使發(fā)光二極管的光源形成準(zhǔn)直光41。其中，控制電路板60控制傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a帶動(dòng)線(xiàn)性光源40移動(dòng)第一距離，并控制線(xiàn)性光源40于第一距離的移動(dòng)期間持續(xù)產(chǎn)生線(xiàn)性準(zhǔn)直光41，以對(duì)基板10、光罩30(包括了圖案31)的組合體進(jìn)行至少一次曝光，據(jù)以完成微影制程。

實(shí)作上，第一距離的設(shè)定，可依據(jù)基板10、光罩30的組合體的尺寸大小而定。舉例而言，線(xiàn)性光源40的長(zhǎng)度可介于5厘米至300厘米，當(dāng)線(xiàn)性光源40的長(zhǎng)度為150厘米時(shí)，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a可以設(shè)計(jì)為150-300厘米。于是，此曝光設(shè)備就可以對(duì)小于150厘米×300厘米以下的光罩+基板的組合進(jìn)行曝光，而不受限于傳統(tǒng)的固定尺寸的曝光設(shè)備，使曝光設(shè)備可單一化，簡(jiǎn)單化。因此，第一距離因?yàn)閭鲃?dòng)機(jī)構(gòu)50a的可變動(dòng)性而成為可調(diào)。調(diào)整的方式，就由控制電路板60來(lái)執(zhí)行。此外，第一距離的概念，可以是單向單次，也可以是來(lái)回兩次，也可以是來(lái)回三次、來(lái)回四次等?；旧?，一次完整的掃描所需的第一距離，最短者為光罩+基板的大小所需的距離。較佳者為大于光罩+基板的大小。第一距離的移動(dòng)，可以一作業(yè)周期稱(chēng)之。

其中，線(xiàn)性準(zhǔn)直光41的波長(zhǎng)介于280納米至550納米之間，例如365納米、375納米、385納米、405納米、437納米等。

其中，整個(gè)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括了橫向的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a以及垂直的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2。如圖1B所示，垂直的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2即為高度調(diào)整機(jī)構(gòu)，其設(shè)有軌道3，可調(diào)整線(xiàn)性光源40與基板10、光罩30的組合體的相對(duì)距離，其通過(guò)帶動(dòng)橫向的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a整體向上或向下來(lái)調(diào)整線(xiàn)性光源40與基板10、光罩30的組合體的相對(duì)距離。而傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a則通過(guò)軌道51來(lái)帶動(dòng)線(xiàn)性光源40的橫向移動(dòng)。

此外，控制電路板60可調(diào)整線(xiàn)性光源40的輸出功率，讓需要不同曝光強(qiáng)度的基板+光罩組合同樣可進(jìn)行曝光制程。此外，控制電路板60也可控制傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a的移動(dòng)速度(掃描速度)，進(jìn)而控制曝光時(shí)間。

圖1A、圖1B的實(shí)施例，借由將傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包含產(chǎn)生直線(xiàn)動(dòng)作的機(jī)構(gòu)，因此，可使控制電路板60控制線(xiàn)性光源40以第一軸直線(xiàn)式移動(dòng)，也就是橫向移動(dòng)，此第一軸垂直于線(xiàn)性光源40的軸線(xiàn)。

橫向的直線(xiàn)移動(dòng)，可結(jié)合線(xiàn)性光源40的線(xiàn)而構(gòu)成曝光的面。構(gòu)成曝光的面的方法，另可采用基板移動(dòng)的方式，請(qǐng)參考圖2A、圖2B。

圖2A-圖2B為本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的又一具體實(shí)施例的上視圖與側(cè)視圖， 圖2B為圖2A中從A看入的側(cè)視圖。

在圖2A、圖2B中，掃描式曝光設(shè)備包含：基座1、控制電路板60、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)6、線(xiàn)性光源40。其中基座1具有平臺(tái)5a，可擺置基板10、光罩30的組合體以進(jìn)行微影制程，基板10上已形成有光阻層20。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、6配置于基座1上，連接控制電路板60，線(xiàn)性光源40配置于支架70上，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2借由軌道3可帶動(dòng)支架70作動(dòng)，而使線(xiàn)性光源40進(jìn)行垂直移動(dòng)；傳動(dòng)機(jī)構(gòu)6可帶動(dòng)基板10移動(dòng)，使線(xiàn)性光源40所發(fā)出的線(xiàn)性準(zhǔn)直光41可以?huà)呙璧姆绞綐?gòu)成對(duì)基板10+光罩30的面的曝光。其中，控制電路板60控制傳動(dòng)機(jī)構(gòu)6帶動(dòng)基板10移動(dòng)第一距離，并控制線(xiàn)性光源40于第一距離的移動(dòng)期間持續(xù)產(chǎn)生線(xiàn)性準(zhǔn)直光41，以對(duì)基板10、光罩30(包括了圖案31)的組合體進(jìn)行至少一次曝光，據(jù)以完成微影制程。

第一距離的設(shè)定與前述者相同，不再贅述。也就是，控制傳動(dòng)機(jī)構(gòu)6進(jìn)行第一距離，等同于圖1A、圖1B中，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)5a的相同動(dòng)作。

整個(gè)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括了可使基板10橫向移動(dòng)的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)6以及垂直的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2。如圖2B所示，垂直的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2即為高度調(diào)整機(jī)構(gòu)，其設(shè)有軌道3，可調(diào)整線(xiàn)性光源40與基板10、光罩30的組合體的相對(duì)距離，其通過(guò)帶動(dòng)支架70整體向上或向下來(lái)調(diào)整線(xiàn)性光源40與基板10、光罩30的組合體的相對(duì)距離。而傳動(dòng)機(jī)構(gòu)6則帶動(dòng)線(xiàn)性光源40的橫向移動(dòng)。

圖3A-圖3B，本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的另一具體實(shí)施例的上視圖與側(cè)視圖，圖3B為圖3A中從A看入的側(cè)視圖。在圖3A、圖3B中，掃描式曝光設(shè)備包含：基座1、控制電路板60、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)70、線(xiàn)性光源40、支架50b、支架70。其中基座1具有平臺(tái)5b，可擺置基板10、光罩30的組合體以進(jìn)行微影制程，基板10上已形成有光阻層20。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2配置于基座1上，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)71配置于支架70上，支架70則由支架50b固定。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、71連接控制電路板60，線(xiàn)性光源40配置于傳動(dòng)機(jī)構(gòu)71而固定于支架70上，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)71可帶動(dòng)線(xiàn)性光源40進(jìn)行旋轉(zhuǎn)式作動(dòng)，使線(xiàn)性光源40所發(fā)出的線(xiàn)性準(zhǔn)直光41可以圓形方式掃描構(gòu)成面的曝光。其中，控制電路板60控制傳動(dòng)機(jī)構(gòu)50a帶動(dòng)線(xiàn)性光源40旋轉(zhuǎn)至少一圈，并控制線(xiàn)性光源40于旋轉(zhuǎn)一圈的移動(dòng)期間持續(xù)產(chǎn)生線(xiàn)性準(zhǔn)直光41，以對(duì)基板10、光罩30(包括了圖案31)的組合體進(jìn)行至少一次曝光，據(jù)以完成微影制程。

圖3A、圖3B的實(shí)施例為線(xiàn)性光源40旋轉(zhuǎn)的實(shí)施例，另一種方式是基座1的平臺(tái)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，請(qǐng)參考圖4A-圖4B，本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的再一具體實(shí)施例的上視圖與側(cè)視圖，圖3B為圖3A中從A看入的側(cè)視圖。在圖4A、圖4B圖中，掃描式曝光設(shè)備包含基座1、控制電路板60、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)90、線(xiàn)性光源40。其中基座1具有平臺(tái)5b，可擺置基板10、光罩30的組合體以進(jìn)行微影制程，基板10上已形成有光阻層20。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2配置于基座1上，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)71配置于支架70上，支架70則由支架50b固定。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)71連接控制電路板60，線(xiàn)性光源40固定于支架70上。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)90配置于旋轉(zhuǎn)平臺(tái)80上，可帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)80進(jìn)行旋轉(zhuǎn)式作動(dòng)，使線(xiàn)性光源40所發(fā)出的線(xiàn)性準(zhǔn)直光41可以圓形方式掃描移動(dòng)中的基板10與光罩30，進(jìn)而構(gòu)成面的曝光。其中，控制電路板60控制傳動(dòng)機(jī)構(gòu)90帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)80旋轉(zhuǎn)至少一圈，并控制線(xiàn)性光源40于旋轉(zhuǎn)一圈的移動(dòng)期間持續(xù)產(chǎn)生線(xiàn)性準(zhǔn)直光41，以對(duì)基板10、光罩30(包括了圖案31)的組合體進(jìn)行至少一次曝光，據(jù)以完成微影制程。于此，旋轉(zhuǎn)一周即為一作業(yè)周期。同樣地，旋轉(zhuǎn)多次即為完成多次的作業(yè)周期；或者，正向旋轉(zhuǎn)一次、逆向旋轉(zhuǎn)一次，則為完成兩次的作業(yè)周期。

與圖1A、圖1B、圖2A、圖2B實(shí)施例不同的是，圖3A、圖3B、圖4A、圖4B的實(shí)施例是以旋轉(zhuǎn)的方式進(jìn)行掃描。因此，整個(gè)曝光的范圍是線(xiàn)性光源40旋轉(zhuǎn)一圈所涵蓋的圓面積。

而以上的實(shí)施例，涵蓋了線(xiàn)性光源40移動(dòng)，而基板10與光罩30不動(dòng)的實(shí)施例，以及，線(xiàn)性光源40不動(dòng)，而基板10與光罩30移動(dòng)的不同實(shí)施例。換言之，本實(shí)用新型的實(shí)施例說(shuō)明了產(chǎn)生線(xiàn)性光源40與基板10+光罩30的相對(duì)移動(dòng)，即可構(gòu)成線(xiàn)性光源40對(duì)基板10+光罩30的面的掃瞄型曝光。而曝光的完整度，則可通過(guò)功率的調(diào)整、線(xiàn)性光源40與基板10+光罩30的相對(duì)距離、掃描曝光的時(shí)間與次數(shù)等來(lái)進(jìn)行調(diào)控。達(dá)到不須以復(fù)雜的光學(xué)機(jī)構(gòu)，即可以極低的成本來(lái)實(shí)現(xiàn)過(guò)去無(wú)法解決的成本問(wèn)題，實(shí)為本實(shí)用新型所達(dá)到的一大特殊技術(shù)功效。

圖1A、圖1B、圖2A、圖2B的實(shí)施例，說(shuō)明了線(xiàn)性光源40以一軸的移動(dòng)方式，來(lái)達(dá)到面的掃描的技術(shù)。另一種方式是，在曝光的期間，線(xiàn)性光源40可通過(guò)機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)，來(lái)實(shí)現(xiàn)第一軸的移動(dòng)以執(zhí)行面的曝光；將線(xiàn)性光源40經(jīng)過(guò)旋轉(zhuǎn)后，以第二軸的移動(dòng)來(lái)執(zhí)行面的曝光。換言之，本實(shí)用新型亦可通過(guò)讓線(xiàn)性光源40以多個(gè)不同軸的方向進(jìn)行移動(dòng)與曝光，請(qǐng)參考圖5A-圖5E，本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的又一具體實(shí)施例的上視圖與側(cè)視圖。

圖5A說(shuō)明了線(xiàn)性光源40被安裝于傳動(dòng)機(jī)構(gòu)100上后，可進(jìn)行橫向(第一軸)的移動(dòng)而進(jìn)行面的曝光掃描。圖5B-圖5C則說(shuō)明了借由傳動(dòng)機(jī)構(gòu)102的旋轉(zhuǎn)功能，可讓掛于傳動(dòng)機(jī)構(gòu)102下方的線(xiàn)性光源40進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并且，借由軌道101的配置，可讓線(xiàn)性光源40進(jìn)行縱向(第二軸)的移動(dòng)而進(jìn)行面的曝光掃描。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)102可執(zhí)行使線(xiàn)性光源40旋轉(zhuǎn)的功能，而旋轉(zhuǎn)的θ角可以是任意角度，較佳者為90度，也就是，讓線(xiàn)性光源40的軸向與第一軸平行。

圖5D為圖5A由A方向看入的側(cè)視圖，圖5E則為圖5A由B方向看入的側(cè)視圖。與圖1B比較可發(fā)現(xiàn)，圖5D、圖5E的實(shí)施例，增加了傳動(dòng)機(jī)構(gòu)100、軌道101與傳動(dòng)機(jī)構(gòu)102，使得線(xiàn)性光源40可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)θ角后的第二軸移動(dòng)。這種新型架構(gòu)，可讓掃描行曝光機(jī)可進(jìn)行不同面向的掃描，進(jìn)而使各個(gè)角度的掃描均勻度提高。其他的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)作，街與前述者相同，不再贅述。

圖1A-圖5E的四個(gè)不同實(shí)施例，主要說(shuō)明了本實(shí)用新型提供線(xiàn)性光源40與基板10之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)機(jī)制。而在掃描曝光之前，有基板10與光罩30的對(duì)位工作需進(jìn)行。因此，本實(shí)用新型更包括了對(duì)位裝置，讓基板10與光罩30可進(jìn)行準(zhǔn)確對(duì)位后，再進(jìn)行掃描曝光。接下來(lái)，請(qǐng)參考圖6，本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備的對(duì)位機(jī)構(gòu)的視圖。在此實(shí)施例中，整個(gè)對(duì)位裝置包含了夾持具120，可夾持光罩30；攝像組130，可擷取基板10與光罩30的影像，一般是配制在基板10與光罩30的對(duì)位標(biāo)志處；乘載平臺(tái)110，乘載基板10以進(jìn)行與光罩30對(duì)位前后的軟接觸與硬接觸，使光罩30與基板10能密合，以防止曝光過(guò)程的漏光。

圖6的實(shí)施例說(shuō)明，通過(guò)對(duì)位機(jī)構(gòu)的配置，本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備即可執(zhí)行完整的光罩對(duì)位、至少一次掃描曝光，而達(dá)到與傳統(tǒng)的整照式曝光設(shè)備相同的功能。本實(shí)用新型的掃描式曝光設(shè)備不但成本低、且合格率高，同樣可達(dá)到高分辨率的曝光效果。

以上所述實(shí)施例僅是為充分說(shuō)明本實(shí)用新型而所舉的較佳的實(shí)施例，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不限于此。本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型基礎(chǔ)上所作的等同替代或變換，均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實(shí)用新型的保護(hù)范圍以權(quán)利要求書(shū)為準(zhǔn)。