一種掩膜板及取向膜摩擦方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種掩膜板及取向膜摩擦方法，掩膜板包括至少一個墊板；其中，墊板的一面為水平面，另一面至少具有與覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的部分圖形相匹配的圖形；墊板在墊板具有圖形的一面與基板接觸處置處的厚度等于接觸位置處非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面之間的距離，用于在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時覆蓋基板的非顯示區(qū)域，使覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面水平，從而可以避免在對取向膜進(jìn)行摩擦?xí)r，由于非顯示區(qū)域的表面不平整所造成的對應(yīng)位置處的摩擦布的定向損傷，從而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差，以及造成取向膜的取向異常，進(jìn)而保證顯示產(chǎn)品的顯示均勻性。
【專利說明】一種掩膜板及取向膜摩擦方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種掩膜板及取向膜摩擦方法。

【背景技術(shù)】
[0002]近年來,液晶顯示面板(Liquid Crystal Display, LCD)已經(jīng)逐漸遍及人們的生活中。液晶顯示面板主要由陣列基板，彩膜基板，以及位于該兩基板之間的液晶分子組成。液晶顯示面板通過電場控制液晶分子的取向使液晶顯示面板的透射率發(fā)生變化，從而實現(xiàn)顯示功能。為使液晶分子在初始狀態(tài)下按一定的方向排列，需要在液晶顯示面板的對向基板和陣列基板的內(nèi)表面分別涂敷一層取向膜，然后利用包裹有摩擦布的摩擦輥在取向膜上摩擦出取向槽，這樣液晶分子就能夠按照取向槽的方向排列。
[0003]圖1所示為對取向膜進(jìn)行摩擦取向的設(shè)備工作示意圖，將形成有取向膜的玻璃基板2通過真空吸附在摩擦基臺I上，包裹在摩擦輥3上的摩擦布以一定壓入量與玻璃基板上的取向膜接觸，然后通過摩擦基臺I的勻速水平運動和摩擦輥3的勻速轉(zhuǎn)動，實現(xiàn)對玻璃基板2上的取向膜定向摩擦的作用。
[0004]但是，由于為了實現(xiàn)信號加載，玻璃基板2上的非顯示區(qū)域4 一般均設(shè)計有凹凸不平的圖形5和走線，從而造成玻璃基板的非顯示區(qū)域4的表面與顯示區(qū)域6的表面之間不平整。因此在現(xiàn)有摩擦取向技術(shù)中，當(dāng)摩擦輥3摩擦經(jīng)過上述凹凸不平的圖形5后，就會對應(yīng)位置處的摩擦布造成定向損傷，進(jìn)而造成摩擦方向上的摩擦角偏差，造成取向膜的取向異常，從而引起顯示產(chǎn)品顯示不均的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，本發(fā)明實施例提供了一種掩膜板及取向膜摩擦方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中由于非顯示區(qū)域不平整，導(dǎo)致對經(jīng)過非顯示區(qū)域的摩擦輥上的摩擦布造成定向損傷，進(jìn)而造成摩擦方向上的摩擦角偏差的問題。
[0006]因此，本發(fā)明實施例提供的一種掩膜板，所述掩膜板用于在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時覆蓋所述基板的非顯示區(qū)域；
[0007]所述掩膜板包括至少一個墊板；其中，
[0008]所述墊板的一面為水平面，另一面至少具有與覆蓋位置處的所述非顯示區(qū)域的部分圖形相匹配的圖形；
[0009]所述墊板在所述墊板具有圖形的一面與所述基板接觸處置處的厚度等于所述接觸位置處所述非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面之間的距離。
[0010]較佳地，為了使用方便，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，所述掩膜板包括至少兩個條形結(jié)構(gòu)的所述墊板，且各所述墊板的延伸方向與對所述基板將要進(jìn)行摩擦處理時的摩擦輥的中心軸方向平行。
[0011]較佳地，為了使用方便，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，還包括:固定連接各所述墊板的固定架；
[0012]且相鄰兩個所述墊板之間的距離等于覆蓋位置處的所述非顯示區(qū)域之間的距離。
[0013]較佳地，為了使用方便，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，所述固定架為與各所述墊板的一端固定連接的條形架。
[0014]較佳地，為了使用方便，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，所述固定架為平行設(shè)置的兩條條形架，其中，一條所述條形架分別與各所述墊板的一端固定，另一條所述條形架分別與各所述墊板的另一端固定。
[0015]較佳地，為了使用方便，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，所述固定架為“口”字型框架，所述“口”字型框架的一側(cè)分別與各所述墊板的一端固定，對應(yīng)的另一側(cè)分別與各所述墊板的另一端固定。
[0016]較佳地，為了便于實施，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，所述墊板為網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，其中，所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的網(wǎng)孔對應(yīng)所述基板的顯示區(qū)域。
[0017]較佳地，為了防止在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時所產(chǎn)生的靜電對取向膜造成的破壞作用，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，所述墊板具有導(dǎo)電性，且所述墊板還具有接電端子。
[0018]較佳地，為了防止在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時所產(chǎn)生的靜電對取向膜造成的破壞作用，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，所述墊板和所述固定架均具有導(dǎo)電性；
[0019]各所述墊板與所述固定架電連接，且所述固定架具有接電端子。
[0020]較佳地，為了避免摩擦輥在與墊板的側(cè)面接觸時，側(cè)面與水平面之間的棱對摩擦布造成影響，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，在進(jìn)行摩擦處理時所述墊板與所述摩擦輥有接觸的側(cè)面為光滑斜面或光滑弧面。
[0021]較佳地，為了避免掩膜板自身表面對摩擦布的影響，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，所述墊板具有水平面的一面是經(jīng)過平整化處理后的。
[0022]相應(yīng)地，本發(fā)明實施例提供還提供了一種取向膜摩擦方法，包括:
[0023]在摩擦輥對所述涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦前，采用本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板，將所述掩膜板的墊板覆蓋于與所述墊板對應(yīng)位置具有相匹配圖形的所述基板的非顯示區(qū)域，且所述墊板具有圖形一面面向所述基板，使所述墊板的表面與所述基板的顯示區(qū)域的表面水平；
[0024]使用摩擦輥上的摩擦布對所述涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦處理。
[0025]較佳地，為了防止在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時所產(chǎn)生的靜電對取向膜造成的破壞作用，在本發(fā)明實施例提供的上述摩擦方法中，在使用摩擦輥上的摩擦布對所述涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦處理之前，還包括:
[0026]將所述掩膜板中的接線電端子與地線電連接。
[0027]本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板及取向膜摩擦方法，掩膜板包括至少一個墊板；其中，墊板的一面為水平面，另一面至少具有與覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的部分圖形相匹配的圖形；墊板在墊板具有圖形的一面與基板接觸處置處的厚度等于接觸位置處非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面之間的距離，用于在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時覆蓋基板的非顯示區(qū)域，使覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面水平，從而可以避免在對取向膜進(jìn)行摩擦?xí)r，由于非顯示區(qū)域的表面不平整所造成的對應(yīng)位置處的摩擦布的定向損傷，從而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差，以及造成取向膜的取向異常，進(jìn)而保證顯示產(chǎn)品的顯示均勻性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0028]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中對取向膜進(jìn)行摩擦取向的設(shè)備工作示意圖；
[0029]圖2a和圖2b分別為本發(fā)明實施例提供的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖3a至圖3c分別為本發(fā)明實施例提供的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖4a和圖4b分別為本發(fā)明實施例提供的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖5為本發(fā)明實施例提供的墊板與摩擦輥接觸的側(cè)面的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖6為本發(fā)明實施例提供的取向膜摩擦方法的流程示意圖。

【具體實施方式】
[0034]下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明實施例提供的掩膜板及取向膜摩擦方法的【具體實施方式】進(jìn)行詳細(xì)地說明。
[0035]附圖中各膜層的形狀和大小不反映掩膜板的真實比例，目的只是示意說明本
【發(fā)明內(nèi)容】
。
[0036]本發(fā)明實施例提供的一種掩膜板，如圖2a和圖2b所不,掩膜板01用于在對基板02上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時覆蓋基板02的非顯示區(qū)域；
[0037]掩膜板01包括至少一個墊板011 ;其中，
[0038]墊板011的一面為水平面，另一面至少具有與覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的部分圖形相匹配的圖形；
[0039]墊板011在該墊板011具有圖形的一面與基板02接觸處置處的厚度等于該接觸位置處非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面之間的距離。
[0040]本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板，包括至少一個墊板；其中，墊板的一面為水平面，另一面至少具有與覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的部分圖形相匹配的圖形；墊板在墊板具有圖形的一面與基板接觸處置處的厚度等于接觸位置處非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面之間的距離，用于在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時覆蓋基板的非顯示區(qū)域，使覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面水平，從而可以避免在對取向膜進(jìn)行摩擦?xí)r，由于非顯示區(qū)域的表面不平整所造成的對應(yīng)位置處的摩擦布的定向損傷，從而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差，以及造成取向膜的取向異常，進(jìn)而保證顯示產(chǎn)品的顯示均勻性。
[0041]較佳地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，如圖2a所示，掩膜板01包括至少兩個條形結(jié)構(gòu)的墊板011，且墊板011的延伸方向與將要對基板02進(jìn)行摩擦處理時的摩擦輥03的中心軸方向平行。這是因為，在對取向膜進(jìn)行摩擦處理時，根據(jù)受力作用，沿垂直于摩擦輥03的中心軸方向延伸的非顯示區(qū)域的不平整基本上不會對摩擦輥上的摩擦布造成影響，因此，采用掩膜板覆蓋沿平行于摩擦輥03的中心軸方向延伸的非顯示區(qū)域，就可以避免由于非顯示區(qū)域的不平整對摩擦輥上的摩擦布造成損傷，從而可以保證取向膜的摩擦效果。
[0042]較佳地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，如圖3a至圖3c所示，還包括:固定連接各墊板oil的固定架012 ；
[0043]且相鄰兩個墊板011之間的距離等于覆蓋位置處的非顯示區(qū)域之間的距離。這樣，在使用上述掩膜板時，通過一次操作就可以進(jìn)行掩膜板的取放。
[0044]較佳地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，固定架012可以僅固定各墊板011的一側(cè)，如圖3a所示，固定架012為與各墊板011的一端固定連接的條形架。
[0045]或者，較佳地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，固定架012可以固定各墊板011的兩側(cè)，如圖3b所示，固定架012為平行設(shè)置的兩條條形架，其中，一條條形架分別與各墊板011的一端固定，另一條條形架分別與各墊板011的另一端固定。
[0046]或者，較佳地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，固定架012可以固定各墊板011的兩側(cè)，如圖3c所示，固定架012為“口”字型框架，“ 口 ”字型框架的一側(cè)分別與各墊板011的一端固定，對應(yīng)的另一側(cè)分別與各墊板011的另一端固定。
[0047]進(jìn)一步地，在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板，各墊板可以通過拉伸焊接的方式固定在固定架上，當(dāng)然也可以通過其它連接方式，在此不作限定。
[0048]進(jìn)一步地，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，如圖2b所示，墊板011為網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，其中，網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的網(wǎng)孔對應(yīng)基板的顯示區(qū)域。這樣，相當(dāng)于在對取向膜進(jìn)行摩擦?xí)r，掩膜板不僅覆蓋了沿平行于摩擦輥03的中心軸方向延伸的非顯示區(qū)域，而且還覆蓋了沿垂直于摩擦輥03的中心軸方向延伸的非顯示區(qū)域，從而進(jìn)一步避免了由于非顯示區(qū)域的不平整對摩擦輥上的摩擦布造成損傷，從而可以保證取向膜的摩擦效果。
[0049]進(jìn)一步地，在對取向膜進(jìn)行摩擦處理時，還容易產(chǎn)生靜電。當(dāng)靜電電壓達(dá)到一定值，對取向膜有直接的破壞作用，即取向膜被擊穿或定向狀態(tài)被破壞，從而使顯示產(chǎn)品出現(xiàn)外觀缺陷。雖然現(xiàn)有技術(shù)中通常利用能產(chǎn)生空氣電離化或者光離化的離子發(fā)生器來進(jìn)行靜電消除，但是任然會存在一些問題:
[0050]1、電離化離子除靜電法效率較低，并且放電極電暈放電會產(chǎn)生電磁噪聲的危害；
[0051]2、電極放電的離子化方式極易吸附灰塵，在氣流輸送離子的過程中會造成環(huán)境和被消物體的污染，需經(jīng)常清洗電極；
[0052]3、采用光離子化靜電消除器時，由于光離子的照射范圍就是靜電消除器的工作區(qū)域，覆蓋范圍較小，因此在工作時產(chǎn)生的軟X射線，對人體會有一定的危害；
[0053]4、殘留的靜電對取向膜和摩擦布的損傷會造成相應(yīng)的顯示缺陷。
[0054]因此，基于上述原因，為了防止在對取向膜進(jìn)行摩擦處理時所產(chǎn)生的靜電破壞作用，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，如圖4a所示，墊板011具有導(dǎo)電性，且墊板還具有接電端子013。這樣，在使用上述掩膜板時，可以通過該接電端子013將墊板011與地線電連接，從而防止摩擦過程中產(chǎn)生的靜電發(fā)生積累。
[0055]或者，較佳地，當(dāng)掩膜板中包括有固定架時，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，如圖4b所示，墊板011和固定架012均具有導(dǎo)電性；各墊板011與固定架012電連接，且固定架012具有接電端子013。這樣，在使用上述掩膜板時，可以通過該接電端子013將墊板011與地線電連接，從而防止摩擦過程中產(chǎn)生的靜電發(fā)生積累。
[0056]具體地，在具體實施時，墊板的導(dǎo)電性可以通過鍍膜的方法在墊板的表面沉積導(dǎo)電薄膜；或者采用導(dǎo)電材料制作墊板，在此不作限定。
[0057]同理，在具體實施時，固定架的導(dǎo)電性可以通過鍍膜的方法在固定架的表面沉積導(dǎo)電薄膜；或者采用導(dǎo)電材料制作固定架，在此不作限定。
[0058]進(jìn)一步地，在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，如圖4a和圖4b所示，還包括與接電端子013匹配的具有插頭的導(dǎo)線014，這樣在使用時，直接將插頭插入接地端口就可以實現(xiàn)墊板接地。
[0059]進(jìn)一步地，為了避免摩擦輥在與墊板的側(cè)面接觸時，墊板的側(cè)面與水平面之間的棱對摩擦布造成影響，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，如圖5所示，在進(jìn)行摩擦處理時墊板011與摩擦輥03有接觸的側(cè)面為光滑斜面或光滑弧面。
[0060]較佳地，為了避免在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，墊板具有水平面的一面是經(jīng)過平整化處理后的。這是由于經(jīng)過平整化處理后的表面會更加光滑，從而可以減小掩膜板自身表面對摩擦布的影響。
[0061]具體地，在具體實施時，平整化處理可以是拋光處理等，在此不作限定。
[0062]進(jìn)一步地，為了保證掩膜板的使用壽命，在本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板中，墊板的材料可以采用硬度比較高、且耐摩擦的材料。
[0063]需要說明的是，本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板所覆蓋的基板可以是陣列基板，也可以是彩膜基板，在此不作限定。
[0064]基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例提供還提供了一種取向膜摩擦方法，如圖6所示，包括:
[0065]S101、在摩擦輥對涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦前，采用本發(fā)明實施例提供的上述掩膜板，將掩膜板的墊板覆蓋于與墊板對應(yīng)位置具有相匹配圖形的基板的非顯示區(qū)域，且墊板具有圖形一面面向基板，使墊板的表面與基板的顯示區(qū)域的表面水平；
[0066]S102、使用摩擦輥上的摩擦布對涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦處理。
[0067]本發(fā)明實施例提供的上述摩擦方法，由于在摩擦輥對涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦前，在基板的非顯示區(qū)域覆蓋有一掩膜板。其中，該掩膜板包括至少一個墊板；其中，墊板的一面為水平面，另一面至少具有與覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的部分圖形相匹配的圖形；墊板在墊板具有圖形的一面與基板接觸處置處的厚度等于接觸位置處非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面之間的距離。因此，當(dāng)該掩膜板覆蓋基板的非顯示區(qū)域時，可以使覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面水平，從而可以避免在對取向膜進(jìn)行摩擦?xí)r，由于非顯示區(qū)域的表面不平整所造成的對應(yīng)位置處的摩擦布的定向損傷，從而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差，以及造成取向膜的取向異常，進(jìn)而保證顯示產(chǎn)品的顯示均勻性。
[0068]較佳地，為了防止在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時所產(chǎn)生的靜電對取向膜造成的破壞作用，在本發(fā)明實施例提供的上述摩擦方法中，在使用摩擦輥上的摩擦布對涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦處理之前，還包括:
[0069]將掩膜板中的接線電端子與地線電連接。從而防止摩擦過程中產(chǎn)生的靜電發(fā)生積累，進(jìn)而可以防止由于靜電擊穿摩擦布所引起的摩擦不均勻，以及由于取向膜被靜電損傷所導(dǎo)致的液晶取向不良，引起漏光、低對比度等不良問題。
[0070]本發(fā)明實施例提供的掩膜板及取向膜摩擦方法，掩膜板包括至少一個墊板；其中，墊板的一面為水平面，另一面至少具有與覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的部分圖形相匹配的圖形；墊板在墊板具有圖形的一面與基板接觸處置處的厚度等于接觸位置處非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面之間的距離，用于在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時覆蓋基板的非顯示區(qū)域，使覆蓋位置處的非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面水平，從而可以避免在對取向膜進(jìn)行摩擦?xí)r，由于非顯示區(qū)域的表面不平整所造成的對應(yīng)位置處的摩擦布的定向損傷，從而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差，以及造成取向膜的取向異常，進(jìn)而保證顯示產(chǎn)品的顯示均勻性。
[0071]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種掩膜板，用于在對基板上的取向膜進(jìn)行摩擦處理時覆蓋所述基板的非顯示區(qū)域；其特征在于:所述掩膜板包括至少一個墊板；其中， 所述墊板的一面為水平面，另一面至少具有與覆蓋位置處的所述非顯示區(qū)域的部分圖形相匹配的圖形； 所述墊板在所述墊板具有圖形的一面與所述基板接觸處置處的厚度等于所述接觸位置處所述非顯示區(qū)域的表面與顯示區(qū)域的表面之間的距離。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括至少兩個條形結(jié)構(gòu)的所述墊板，且各所述墊板的延伸方向與對所述基板將要進(jìn)行摩擦處理時的摩擦輥的中心軸方向平行。
3.如權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，還包括:固定連接各所述墊板的固定架； 且相鄰兩個所述墊板之間的距離等于覆蓋位置處的所述非顯示區(qū)域之間的距離。
4.如權(quán)利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述固定架為與各所述墊板的一端固定連接的條形架。
5.如權(quán)利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述固定架為平行設(shè)置的兩條條形架，其中，一條所述條形架分別與各所述墊板的一端固定，另一條所述條形架分別與各所述墊板的另一端固定。
6.如權(quán)利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述固定架為“口 ”字型框架，所述“ 口 ”字型框架的一側(cè)分別與各所述墊板的一端固定，對應(yīng)的另一側(cè)分別與各所述墊板的另一端固定。
7.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述墊板為網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，其中，所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的網(wǎng)孔對應(yīng)所述基板的顯示區(qū)域。
8.如權(quán)利要求1-7任一項所述的掩膜板，其特征在于，所述墊板具有導(dǎo)電性，且所述墊板還具有接電端子。
9.如權(quán)利要求3-6任一項所述的掩膜板，其特征在于，所述墊板和所述固定架均具有導(dǎo)電性； 各所述墊板與所述固定架電連接，且所述固定架具有接電端子。
10.如權(quán)利要求1-7任一項所述的掩膜板，其特征在于，在進(jìn)行摩擦處理時所述墊板與所述摩擦輥有接觸的側(cè)面為光滑斜面或光滑弧面。
11.如權(quán)利要求1-7任一項所述的掩膜板，其特征在于，所述墊板具有水平面的一面是經(jīng)過平整化處理后的。
12.—種取向膜摩擦方法，其特征在于，包括: 在摩擦輥對所述涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦前，采用權(quán)利要求1-11任一項所述的掩膜板，將所述掩膜板的墊板覆蓋于與所述墊板對應(yīng)位置具有相匹配圖形的所述基板的非顯示區(qū)域，且所述墊板具有圖形一面面向所述基板，使所述墊板的表面與所述基板的顯示區(qū)域的表面水平； 使用摩擦輥上的摩擦布對所述涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦處理。
13.如權(quán)利要求12所述的摩擦方法，其特征在于，在使用摩擦輥上的摩擦布對所述涂覆有取向膜的基板進(jìn)行摩擦處理之前，還包括: 將所述掩膜板中的接線電端子與地線電連接。
【文檔編號】G02F1/1337GK104280940SQ201410504758
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2014年9月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月26日
【發(fā)明者】胡偉, 朱亞文, 樓鈺, 莫再隆, 樸承翊 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司