專利名稱：用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及集成電路制造領(lǐng)域，尤其涉及一種用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體集成電路制造工藝中，光刻工藝是其中最為重要的步驟之一。光刻工藝的過(guò)程是經(jīng)曝光系統(tǒng)將預(yù)制在掩模板上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預(yù)涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光刻膠層上。經(jīng)過(guò)顯影工藝去除或保留曝光圖案部位的光刻膠，以達(dá)到將預(yù)制在掩模板上的器件或電路圖形在晶片表面或介質(zhì)層上精確成型的目的。光刻工藝的好壞將直接影響半導(dǎo)體器件的特征尺寸和產(chǎn)品品質(zhì)，其中，掩膜板是光刻復(fù)制圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜板上的任何缺陷都會(huì)對(duì)最終圖形精度產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。如圖1所示，圖1為現(xiàn)有的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，所述掩膜板115具有圖案區(qū)域，用于掩膜板115的防塵保護(hù)裝置包括:框架113和保護(hù)薄膜111，所述保護(hù)薄膜111被緊繃在所述框架113上，所述保護(hù)薄膜111需光學(xué)透明且結(jié)實(shí)，通常采用硝化纖維或者醋酸纖維素制成。所述框架113環(huán)繞掩膜板邊沿，所述保護(hù)薄膜111和所述框架113限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，以將所述圖案區(qū)域密封，保護(hù)掩膜板115上的圖案區(qū)域不受塵?；蚱渌问降奈廴荆⑶艺丛诒Ｗo(hù)薄膜111上的污染物與圖案區(qū)域表面保持足夠遠(yuǎn)的距離，在成像時(shí)，污染物的像平面不落在晶片表面上，減小污染物對(duì)生產(chǎn)的影響。然而，在實(shí)際生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)，由于保護(hù)薄膜111被緊繃在所述框架113上，在保護(hù)薄膜面上有張力的存在，對(duì)框架113產(chǎn)生作用力，并傳遞到掩膜板115上，掩膜板115會(huì)因此產(chǎn)生微小形變，導(dǎo)致圖案區(qū)域偏離預(yù)定的位置，最終影響復(fù)制到晶片上的圖案的效果。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，以解決保護(hù)薄膜產(chǎn)生的張力使掩膜板產(chǎn)生形變影響影響復(fù)制到晶片上的圖案的效果的問(wèn)題。為解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置包括保護(hù)薄膜以及用于固定所述保護(hù)薄膜的框架，所述保護(hù)薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個(gè)首尾相連的長(zhǎng)條狀邊框，所述邊框包括靠近所述掩膜板的第一邊框和靠近保護(hù)薄膜的第二邊框，所述第二邊框上沿邊框長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽?？蛇x的，所述凹槽位于所述第二邊框靠近所述圖案區(qū)域的側(cè)面或遠(yuǎn)離所述圖案區(qū)域的側(cè)面?？蛇x的，所述凹槽位于所述第二邊框與保護(hù)薄膜連接的面或第二邊框與第一邊框連接的面上?？蛇x的，所述第二邊框從靠近掩膜板的一側(cè)到與保護(hù)膜連接的一側(cè)寬度是變化的。可選的，所述第二邊框從靠近掩膜板的一側(cè)到與保護(hù)膜連接的一側(cè)寬度均勻變小。 可選的，所述第一邊框和第二邊框由粘結(jié)劑粘結(jié)連接。可選的，所述粘結(jié)劑為環(huán)氧丙烯酸酯、硅膠聚酯或丙烯酸聚酯?？蛇x的，所述邊框的材質(zhì)為金屬、合金、高分子材料復(fù)合物中的任意一種?？蛇x的，所述邊框的材質(zhì)為鋁合金。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型提供的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，由于邊框包括靠近所述掩膜板的第一邊框和靠近保護(hù)薄膜的第二邊框，所述第二邊框上沿邊框長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽。該邊框易產(chǎn)生形變吸收部分保護(hù)薄膜的張力，使掩膜板受到的張力變小，從而減小或消除掩膜板的形變，提高曝光效果。

圖1為現(xiàn)有的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例一的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置的剖面示意圖；圖3為本實(shí)用新型另一實(shí)施例的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置的剖面示意圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例二的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置的剖面示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的核心思想在于，提供一種用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置包括保護(hù)薄膜以及用于固定所述保護(hù)薄膜的框架，所述保護(hù)薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個(gè)首尾相連的長(zhǎng)條狀邊框，所述邊框包括靠近所述掩膜板的第一邊框和靠近保護(hù)薄膜的第二邊框，所述第二邊框上沿邊框長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽。由于這樣的框架結(jié)構(gòu)易產(chǎn)生形變，能夠吸收所述保護(hù)薄膜產(chǎn)生的張力，從而能減小或消除掩膜板的形變，防止掩膜板形變對(duì)復(fù)制到晶片上的圖案的效果產(chǎn)生影響。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型提出的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。根據(jù)下面說(shuō)明和權(quán)利要求書，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說(shuō)明的是，附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率，僅用以方便、明晰地輔助說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例的目的。參考附圖2，圖2為本實(shí)施例的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置的剖面示意圖，所述掩膜板215具有圖案區(qū)域(未圖示)，所述用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置包括保護(hù)薄膜211以及用于固定所述保護(hù)薄膜211的框架，所述保護(hù)薄膜211和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個(gè)首尾相連的長(zhǎng)條狀邊框213，所述邊框包括靠近所述掩膜板的第一邊框215和靠近保護(hù)薄膜的第二邊框214，所述第二邊框214上沿邊框長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽216。本實(shí)施例中，凹槽216選擇開在第二邊框214遠(yuǎn)離圖案區(qū)域的側(cè)面上。這樣的邊框結(jié)構(gòu)，靠近保護(hù)薄膜211的第二邊框214上由于沿長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽216因而易產(chǎn)生形變，一方面能吸收部分保護(hù)薄膜211的張力，另一方面邊框213可視為一杠桿系統(tǒng)，第二邊框214為杠桿的支點(diǎn)，保護(hù)薄膜211的張力的力矩遠(yuǎn)小于掩膜板215對(duì)第二邊框214的力矩，因此能減小張力對(duì)所述掩膜板215的影響。所述第一邊框215和第二邊框214由粘結(jié)劑結(jié)合，所述邊框213與所述掩膜板215由粘合劑粘合連接，所述保護(hù)薄膜211與所述邊框213也由粘合劑粘合連接。所述粘結(jié)劑可以是環(huán)氧丙烯酸酯、硅膠聚酯或丙烯酸聚酯等常見(jiàn)工業(yè)粘合劑。所述邊框213材質(zhì)可為金屬、合金、高分子材料復(fù)合物中的任意一種。優(yōu)選為鋁合金材質(zhì)，其質(zhì)輕，有足夠的強(qiáng)度，并且彈性好。所述邊框213高度H需滿足在曝光機(jī)臺(tái)以及檢測(cè)機(jī)臺(tái)內(nèi)高度需求,一般為5mnT6.5mm。本實(shí)用新型并不限定凹槽216的位置和形狀，也可選擇將凹槽216開在第二邊框214靠近圖案區(qū)域的側(cè)面上，或者，在本申請(qǐng)的另一實(shí)施例中(參考附圖3)，設(shè)置在所述第二邊框314與保護(hù)薄膜311連接的面上或第二邊框314與第一邊框315連接的面上，選擇這樣的結(jié)構(gòu)時(shí)，優(yōu)選將凹槽316開口處設(shè)置為較凹槽寬度小的結(jié)構(gòu)，以保證凹槽316所在的面有足夠的粘結(jié)面積。實(shí)施例二參考附圖4，圖4為本實(shí)施例的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置的剖面示意圖，所述用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置包括保護(hù)薄膜411以及用于固定所述保護(hù)薄膜411的框架，所述保護(hù)薄膜411和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個(gè)首尾相連的長(zhǎng)條狀邊框413，所述邊框413包括靠近所述掩膜板的第一邊框415和靠近保護(hù)薄膜411的第二邊框414，所述第二邊框414上沿邊框長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽416。凹槽416位于第二邊框414與保護(hù)薄膜411連接的面上，所述第二邊框414從靠近掩膜板415的一側(cè)到與保護(hù)膜411連接的一側(cè)寬度是變化的，可以均勻變小或變大，當(dāng)然也寬度也可以不均勻的變化。本實(shí)施例中第二邊框414從靠近掩膜板415的一側(cè)到與保護(hù)膜411連接的一側(cè)寬度均勻變小。相比實(shí)施例一，本實(shí)施例的框架形狀形變性能更佳，因此能吸收更多保護(hù)薄膜的張力，從而能進(jìn)一步減小張力對(duì)所述掩膜板的影響。綜上所述，本實(shí)用新型提供了一種用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，該防塵保護(hù)裝置的邊框包括靠近所述掩膜板的第一邊框和靠近保護(hù)薄膜的第二邊框，所述第二邊框上沿邊框長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽。因而有更好的柔韌性，易產(chǎn)生形變吸收部分保護(hù)薄膜的張力，使掩膜板受到的張力變小，減小或消除掩膜板的形變對(duì)復(fù)制到晶片上的圖案的效果的影響，達(dá)到提升曝光效果提升產(chǎn)品良率的目的。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置包括保護(hù)薄膜以及用于固定所述保護(hù)薄膜的框架，所述保護(hù)薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，其特征在于，所述框架包括多個(gè)首尾相連的長(zhǎng)條狀邊框，所述邊框包括靠近所述掩膜板的第一邊框和靠近保護(hù)薄膜的第二邊框，所述第二邊框上沿邊框長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽。
2.如權(quán)利要求1所述的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述凹槽位于所述第二邊框靠近所述圖案區(qū)域的側(cè)面或遠(yuǎn)離所述圖案區(qū)域的側(cè)面。
3.如權(quán)利要求1所述的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述凹槽位于所述第二邊框與保護(hù)薄膜連接的面或第二邊框與第一邊框連接的面上。
4.如權(quán)利要求3所述的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述第二邊框從靠近掩膜板的一側(cè)到與保護(hù)膜連接的一側(cè)寬度是變化的。
5.如權(quán)利要求4所述的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述第二邊框從靠近掩膜板的一側(cè)到與保護(hù)膜連接的一側(cè)寬度均勻變小。
6.如權(quán)利要求1所述的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述第一邊框和第二邊框由粘結(jié)劑粘結(jié)連接。
7.如權(quán)利要求6所述的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述粘結(jié)劑為環(huán)氧丙烯酸酯、硅膠聚酯或丙烯酸聚酯。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述邊框的材質(zhì)為金屬、合金、高分子材料復(fù)合物中的任意一種。
9.如權(quán)利要求8所述的用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述邊框的材質(zhì)為招合金。
專利摘要本實(shí)用新型揭露了一種用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護(hù)裝置包括保護(hù)薄膜以及用于固定所述保護(hù)薄膜的框架，所述保護(hù)薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個(gè)首尾相連的長(zhǎng)條狀邊框，所述邊框包括靠近所述掩膜板的第一邊框和靠近保護(hù)薄膜的第二邊框，所述第二邊框上沿邊框長(zhǎng)度方向開設(shè)有凹槽。使用本實(shí)用新型所提供的防塵保護(hù)裝置，其框架結(jié)構(gòu)更易吸收所述保護(hù)薄膜產(chǎn)生的張力，從而能減小或消除掩膜板的形變，提升產(chǎn)品良率。
文檔編號(hào)G03F1/64GK203012349SQ20122074896
公開日2013年6月19日 申請(qǐng)日期2012年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月31日
發(fā)明者覃柳莎, 張力群 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司