專利名稱：一種掩膜板和掩膜板系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜板和掩膜板系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
目前，在 TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯示器)中，液晶顯示面板由彩膜基板和陣列基板對(duì)盒而成。在制造彩膜基板和陣列基板的過(guò)程中，需要進(jìn)行多次光刻工藝以形成層結(jié)構(gòu)，并且制造中需要多少次光刻工藝一般就需要多少?gòu)埐煌瑘D案的掩膜板。但是，這些掩膜板的價(jià)格昂貴，如果在設(shè)計(jì)、運(yùn)輸?shù)冗^(guò)程中發(fā)生任何差錯(cuò)，就會(huì)使得掩膜板無(wú)法使用，這樣給生產(chǎn)企業(yè)帶來(lái)很大損失也給生產(chǎn)者帶來(lái)很多不便。在其他需要光刻的領(lǐng)域，也存在相同的問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種掩膜板和掩膜板系統(tǒng)，用以使得一個(gè)掩膜板可調(diào)變呈現(xiàn)不同圖案，從而減少在制造中使用掩膜板的數(shù)量。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案一方面，提供一種掩膜板，包括圖案顯示屏，用于呈現(xiàn)掩膜圖案；控制單元，用于根據(jù)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制所述圖案顯示屏在不同區(qū)域的光透過(guò)量，以呈現(xiàn)所述掩膜圖案?！矫?，提供一種掩膜板系統(tǒng)，包括曝光機(jī)、掩膜板；其中，所述掩膜板為上述的掩膜板，所述曝光機(jī)提供紫外光。本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種掩膜板、掩膜板系統(tǒng)及掩膜方法，通過(guò)控制單元根據(jù)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制圖案顯示屏在不同區(qū)域的光透過(guò)量，從而在圖案顯示屏呈現(xiàn)所需掩膜圖案，在整個(gè)光刻工藝中，本實(shí)用新型實(shí)施例中的掩膜板能夠呈現(xiàn)不同的掩膜圖案，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中在整個(gè)光刻工藝需要使用多張不同圖案的掩膜板，本實(shí)用新型實(shí)施例中提供的掩膜板減少了制造過(guò)程中使用掩膜板的數(shù)量，避免了使用多張掩膜板過(guò)程中帶來(lái)的不便和損失。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I (a)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種掩膜板的示意圖；圖I (b)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種掩膜板的示意圖；[0014]圖2(a)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種掩膜板的示意圖；圖2(b)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種掩膜板的示意圖；圖3(a)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的再一種掩膜板的示意圖；圖3(b)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的再一種掩膜板的示意圖；圖4(a)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的又一種掩膜板的示意圖；圖4(b)為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的又一種掩膜板的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的 實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種掩膜板，包括圖案顯示屏，用于呈現(xiàn)掩膜圖案；控制單元，用于根據(jù)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制所述圖案顯示屏在不同區(qū)域的光透過(guò)量，以呈現(xiàn)所述掩膜圖案。在本實(shí)用新型實(shí)施中，該控制單元與圖案顯示屏電連接，以便圖案顯示屏接收控制單元輸出的不同灰階信息所對(duì)應(yīng)的電信號(hào)，從而呈現(xiàn)所需掩膜圖案；另外，控制單元并不受限于其設(shè)置的位置，例如，可以設(shè)置在圖案顯示屏的外圍，具體的，控制單元可以為設(shè)置在圖案顯示屏外圍的控制電路。進(jìn)一步的，上述掩膜板還包括存儲(chǔ)單元，用于存儲(chǔ)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息。其中，灰階信息包括所需掩膜圖案各部分的灰階值。對(duì)于普通掩膜工藝所使用的掩膜板的掩膜圖案而言，可以分為不透光圖案區(qū)和完全透光圖案區(qū)，例如在不透光圖案區(qū)的灰階值可以為0(即全黑)，在完全透光圖案區(qū)的灰階值可以為255 (即全白)；對(duì)于灰階掩膜工藝所使用的掩膜板的掩膜圖案而言，還進(jìn)一步包括半透光圖案區(qū)，半透光圖案的灰階值根據(jù)需要可以為0 255之間的值。另外，存儲(chǔ)單元并不受限于其設(shè)置的位置，例如，該存儲(chǔ)單元設(shè)置在電腦中，可以為一種⑶S(Graphic Data System,圖形數(shù)據(jù)系統(tǒng))設(shè)計(jì)文件,并且通過(guò)操作系統(tǒng)和相應(yīng)軟件從該存儲(chǔ)單元中讀取各個(gè)圖案的相關(guān)信息。下面，參照?qǐng)D1(a)至圖4(b)詳細(xì)介紹了上述掩膜板的結(jié)構(gòu)。需要說(shuō)明的是，上述掩膜板均包含圖案顯示屏和控制單元，當(dāng)然還可以進(jìn)一步包括存儲(chǔ)單元；但由于所有的掩膜板的重要區(qū)別在于圖案顯示屏的不同，而控制單元以及存儲(chǔ)單元可以是相同的，故在所有附圖中均未畫(huà)出控制單元以及存儲(chǔ)單元。優(yōu)選的，上述掩膜板中的圖案顯示屏包括兩個(gè)透明基板，分別設(shè)置在所述兩個(gè)透明基板外側(cè)的偏振片，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素單元；每個(gè)像素單元包括液晶，以及驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極。例如，圖I (a)和圖I (b)中所示的掩膜板10，該掩膜板10的圖案顯示屏包括透明基板101、透明基板102，分別設(shè)置在透明基板101、102外側(cè)的偏振片103、104，以及透明基板101與透明基板102之間的多個(gè)像素單元。需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中的圖案顯示屏與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板顯示結(jié)構(gòu)類似，具體的，透明基板102的結(jié)構(gòu)可以與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板的陣列基板相同，透明基板101與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板的不同之處在于本實(shí)用新型實(shí)施例中采用的透明基板101中沒(méi)有彩膜而現(xiàn)有技術(shù)中的彩膜基板包括彩膜。需要說(shuō)明的是，參考圖I (a)、圖1(b)、圖2(a)、圖2(b)、圖3 (a)、圖3 (b)，本實(shí)用新型提供的掩膜板10、20、30驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的方式，具體為控制單元控制圖案顯示屏10中像素單元中第一電極與第二電極的電壓以驅(qū)動(dòng)該像素單元中液晶旋轉(zhuǎn)的方式，與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板中驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)方式相同，故而本實(shí)用新型實(shí)施例中的掩膜板的類型也可以按照驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的方式分為T(mén)N(Twisted Nematic,扭曲向列)型、VA(VerticalAligment,垂直排列)型、FFS (Fringe-Field switching,邊緣電場(chǎng)驅(qū)動(dòng))型等。另外,參考現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板顯示圖案的方式可以分為常黑模式和常白模式，本實(shí)用新型實(shí)施例中的掩膜板也可以分為常黑模式和常白模式。以常白模式的掩膜板為例，在需要完全曝光的區(qū)域，如圖1(a)所示，在不施加電 壓的條件下，利用液晶的旋光性，紫外光能夠全部透射，形成了掩膜圖案的完全透光圖案區(qū)，如圖1(b)所示，在給第一電極和第二電極施加一定電壓條件下，紫外光能夠被全部吸收，形成了掩膜圖案的不透光圖案區(qū)，進(jìn)一步的，若采用的是灰階曝光工藝，則在需要半曝光的區(qū)域，可以根據(jù)掩膜圖案的灰階信息在第一電極和第二電極兩端施加合適的電壓時(shí)，紫外光一部分被吸收，另一部分透過(guò)，從而控制紫外光的透過(guò)量，形成了掩膜圖案的半透光圖案區(qū)。這樣，在圖案顯示屏10具有的上述結(jié)構(gòu)和功能下，通過(guò)控制單元根據(jù)掩膜圖案的灰階信息控制了掩膜圖案不同區(qū)域的光透過(guò)量，從而使得圖案顯示屏10呈現(xiàn)所需掩膜圖案。又優(yōu)選的，該圖案顯示屏包括兩個(gè)透明基板，設(shè)置在其中一個(gè)透明基板外側(cè)或內(nèi)側(cè)的偏振片，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素單元；每個(gè)像素單元包括液晶，二色向染料，以及驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極；其中，所述偏振片的偏振化方向與所述二色向染料所能夠吸收的線偏振光分量方向一致。例如，圖2(a)和圖2(b)所示的掩膜板20，該掩膜板20的圖案顯示屏，包括透明基板201、透明基板202，設(shè)置在透明基板202外側(cè)的偏振片203，以及透明基板201與透明基板202之間的多個(gè)像素單元。需要說(shuō)明的是，圖2(a)和圖2(b)中的偏振片203并不限于圖中所示的位置，也可以位于透明基板202內(nèi)側(cè)，亦或是透明基板201的內(nèi)側(cè)或外側(cè)；需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中的圖案顯示屏與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板顯示結(jié)構(gòu)類似，具體的，透明基板202的結(jié)構(gòu)可以與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板的陣列基板相同，透明基板201與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板的不同之處在于本實(shí)用新型實(shí)施例中采用的透明基板201中沒(méi)有彩膜而現(xiàn)有技術(shù)中的彩膜基板包括彩膜。如圖2 (a)和圖2 (b)所示，每個(gè)像素單元包括液晶204，二色向染料205，以及驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極；其中，所述偏振片203的偏振化方向與所述二色向染料所能夠吸收的線偏振光分量方向一致。其中，二色向染料205分散在液晶204之間，且該二色向染料205的特性決定了其對(duì)紫外光的兩個(gè)正交線偏振光分量中的一種分量吸收得較好，另一種吸收得較差。[0038]具體的，將紫外光分為兩個(gè)正交的線偏振光分量分量M、與分量N,以TN型掩膜板為例，在不需要曝光的區(qū)域，如圖2 (a)，液晶204相對(duì)于基板平面平行地取向時(shí)，分量M被二色向染料吸收，因偏振片203的偏振化方向與二色向染料205所能夠吸收的線偏振光分量方向一致，使得分量N無(wú)法通過(guò)偏振片203，這樣圖案顯示屏20吸收入射光紫外光效果較好，從而形成了掩膜圖案的不透光圖案區(qū)；在需要曝光的區(qū)域，如圖2(b)所示，液晶204相對(duì)于基板平面垂直地取向時(shí)，分量M通過(guò)二色向染料，紫外光在通過(guò)偏振片時(shí)203時(shí)，其分量N被偏振片203吸收，分量M通過(guò)偏振片203，也就使得一分部光到達(dá)光刻膠區(qū)域進(jìn)行曝光，進(jìn)一步的，若采用的是灰階曝光工藝，則在需要半曝光的區(qū)域，可以根據(jù)掩膜圖案的灰階信息給圖案顯示屏20中第一電極和第二電極施加合適電壓，形成掩膜圖案中的半透光圖案區(qū)，從而控制了掩膜圖案不同區(qū)域的光透過(guò)量，呈現(xiàn)了所需的掩膜圖案。又優(yōu)選的，圖案顯示屏包括兩個(gè)透明基板，設(shè)置在其中一個(gè)透明基板外側(cè)或內(nèi)側(cè) 的右旋圓偏振片，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素單元；每個(gè)像素單元包括液晶，以及驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極；例如，圖3(a)和圖3(b)所示掩膜板30,該掩膜板30的圖案顯示屏包括透明基板301、透明基板302，設(shè)置在透明基板302內(nèi)側(cè)的右旋圓偏振片303，以及透明基板301與透明基板302之間的多個(gè)像素單元。需要說(shuō)明的是，圖3(a)和圖3(b)中的偏振片303并不限于圖中所示的位置，也可以位于透明基板302外側(cè)，亦或是透明基板301的內(nèi)側(cè)或外側(cè)；需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中的圖案顯示屏與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板顯示結(jié)構(gòu)類似，具體的，透明基板302的結(jié)構(gòu)可以與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板的陣列基板相同，透明基板301與現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板的不同之處在于本實(shí)用新型實(shí)施例中采用的透明基板301中沒(méi)有彩膜而現(xiàn)有技術(shù)中的彩膜基板包括彩膜。其中，所述液晶為膽甾液晶310。該膽甾液晶310具有右旋結(jié)構(gòu)，以TN型掩膜板為例，在不需要曝光的區(qū)域，如圖3(a)所示，膽留液晶310相對(duì)于基板平面平行地取向時(shí)，反射紫外光304中的右旋圓偏振光305，左旋圓偏振光306可以通過(guò)膽留液晶，在帖上右旋圓偏振片303后，將左旋圓偏振光306吸收，從而有效地防止了漏光現(xiàn)象，形成了掩膜圖案的不透光圖案區(qū)。在需要曝光的區(qū)域，如圖3(b)所示，膽甾液晶310相對(duì)于基板平面垂直地取向時(shí)，紫外光304不被該膽留液晶吸收，當(dāng)經(jīng)過(guò)右旋圓偏振片303時(shí)，左旋圓偏振光306被吸收，右旋圓偏振光305透過(guò)，進(jìn)一步的，若采用灰階曝光工藝，則在需要半曝光的區(qū)域，根據(jù)掩膜圖案的灰階信息給圖案顯示屏30中第一電極和第二電極施加合適的電壓，從而控制了掩膜圖案不同區(qū)域的光透過(guò)量，形成了掩膜圖案中的半透光圖案區(qū)，從而控制了掩膜圖案不同區(qū)域的光透過(guò)量，使得圖案顯示屏30呈現(xiàn)所需的掩膜圖案。又優(yōu)選的，圖案顯示屏包括兩個(gè)透明基板，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素單元；每個(gè)像素單元包括一個(gè)密閉腔，所述密閉腔的上下兩個(gè)面上分別設(shè)置有上電極、下電極，所述密閉腔的左右兩個(gè)面上分別設(shè)置有左電極、右電極，上述四個(gè)電極兩兩之間無(wú)電連接且均為透明電極；所述密閉腔充滿含有黑色和透明顯示轉(zhuǎn)換的電致變色粒子或電泳粒子的透明無(wú)色溶劑。例如，如圖4(a)和圖4(b)所示的掩膜板40，該掩膜板40的圖案顯示屏包括透明基板401、透明電極402，以及透明基板401、透明電極402之間的多個(gè)像素單元；每個(gè)像素單元包括一個(gè)密閉腔，所述密閉腔的上下兩個(gè)面上分別設(shè)置有上電極403、下電極404，所述密閉腔的左右兩個(gè)面上分別設(shè)置有左電極405、右電極406，上述四個(gè)電極兩兩之間無(wú)電連接且均為透明電極；所述密閉腔充滿含有黑色和透明顯示轉(zhuǎn)換的電致變色粒子或電泳粒子400的透明無(wú)色溶劑。在該圖案顯示屏40中，因上電極403、下電極404、左電極405、右電極406四個(gè)電極兩兩之間無(wú)電連接，兩兩之間可設(shè)置絕緣層410，每個(gè)密閉腔外壁設(shè)置有隔離墻411。如圖4(a)所示，當(dāng)對(duì)上電極403、下電極404施加電壓時(shí)，電致變色粒子或電泳粒子400運(yùn)動(dòng)到密閉腔的上面，從而顯示了黑色圖案，從而阻斷了紫外光透過(guò)，形成了掩膜圖案的不透光圖案區(qū)。在這種狀況下，由于電致變色粒子或電泳粒子的雙穩(wěn)定效應(yīng)，可以去掉上電極403、下電極404兩端電壓。另一方面，如圖4 (b)，在對(duì)左電極405、右電極406施加電壓時(shí)，電致變色粒子或電泳粒子400運(yùn)動(dòng)到密閉腔的側(cè)壁，從而使得紫外光全部透過(guò)，形成了掩膜圖案的完全透光圖案區(qū)，進(jìn)一步的，根據(jù)掩膜圖案的灰階信息，在透明基板401、透明電極402之間的多個(gè)像素單元之間，對(duì)左電極405和/或右電極406和/或上電極403和/或下電極404施加合適的電壓時(shí)，使得電致變色粒子或電泳粒子400在密閉腔內(nèi)位置、排列方式等，例如，通過(guò)電壓的控制使得電致變色粒子或電泳粒子400懸浮在腔體中，從而使得只有部分光可以透過(guò)，也就形成了掩膜圖案中的半透光圖案區(qū)。本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種掩膜板系統(tǒng)，包括曝光機(jī)、掩膜板；其中，所述掩膜板為上述的掩膜板，所述曝光機(jī)提供紫外光。本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種掩膜方法，包括控制單元根據(jù)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制圖案顯示屏在不同區(qū)域的光透過(guò)量；圖案顯示屏呈現(xiàn)出所述掩膜圖案；曝光機(jī)發(fā)出的光透過(guò)已呈現(xiàn)掩膜圖案的圖案顯示屏，實(shí)現(xiàn)對(duì)待曝光基板的掩膜曝光。本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種掩膜板、掩膜板系統(tǒng)及掩膜方法，通過(guò)控制單元根據(jù)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制圖案顯示屏在不同區(qū)域的光透過(guò)量，從而在圖案顯示屏呈現(xiàn)所述所需掩膜圖案，則在整個(gè)光刻工藝中，本實(shí)用新型實(shí)施例中的掩膜板能夠呈現(xiàn)不同的掩膜圖案，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中在整個(gè)光刻工藝中需要使用多張不同圖案的掩膜板，本實(shí)用新型實(shí)施例中提供的掩膜板減少了制造過(guò)程中使用掩膜板的數(shù)量，避免了使用多張掩膜板過(guò)程中帶來(lái)的不便和損失。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述方法實(shí)施例的全部或部分步驟可以通過(guò)程序指令相關(guān)的硬件來(lái)完成，前述的程序可以存儲(chǔ)于一計(jì)算機(jī)可讀取存儲(chǔ)介質(zhì)中，該程序在執(zhí)行時(shí)，執(zhí)行包括上述方法實(shí)施例的步驟；而前述的存儲(chǔ)介質(zhì)包括R0M、RAM、磁碟或者光盤(pán)等各種可以存儲(chǔ)程序代碼的介質(zhì)。以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范 圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種掩膜板,其特征在于,包括 圖案顯示屏，用于呈現(xiàn)掩膜圖案； 控制單元，用于根據(jù)光刻エ藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制所述圖案顯示屏在不同區(qū)域的光透過(guò)量，以呈現(xiàn)所述掩膜圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的掩膜板，其特征在于，還包括存儲(chǔ)單元，用于存儲(chǔ)光刻エ藝中所需的掩膜圖案的灰階信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的掩膜板，其特征在于，所述圖案顯示屏包括兩個(gè)透明基板，分別設(shè)置在所述兩個(gè)透明基板外側(cè)的偏振片，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素單元； 每個(gè)像素単元包括液晶，以及驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的掩膜板，其特征在于，所述圖案顯示屏包括兩個(gè)透明基板，設(shè)置在其中ー個(gè)透明基板外側(cè)或內(nèi)側(cè)的偏振片，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素単元； 每個(gè)像素單元包括液晶，二色向染料，以及驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極； 其中，所述偏振片的偏振化方向與所述二色向染料所能夠吸收的線偏振光分量方向一致。
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的掩膜板，其特征在于，所述圖案顯示屏包括兩個(gè)透明基板，設(shè)置在其中ー個(gè)透明基板外側(cè)或內(nèi)側(cè)的右旋圓偏振片，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素単元； 每個(gè)像素単元包括液晶，以及驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極； 其中，所述液晶為膽留液晶。
6.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的掩膜板，其特征在于，所述圖案顯示屏包括兩個(gè)透明基板，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素単元； 每個(gè)像素単元包括一個(gè)密閉腔，所述密閉腔的上下兩個(gè)面上分別設(shè)置有上電極、下電極，所述密閉腔的左右兩個(gè)面上分別設(shè)置有左電極、右電極，上述四個(gè)電極兩兩之間無(wú)電連接且均為透明電極；所述密閉腔充滿含有黒色和透明顯示轉(zhuǎn)換的電致變色粒子或電泳粒子的透明無(wú)色溶剤。
7.—種掩膜板系統(tǒng),其特征在于,包括曝光機(jī)、掩膜板；其中，所述掩膜板為權(quán)利要求I 6任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的掩膜板，所述曝光機(jī)提供紫外光。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種掩膜板和掩膜板系統(tǒng)，涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，用以使得一個(gè)掩膜板可調(diào)變呈現(xiàn)不同圖案，從而減少在制造中使用掩膜板的數(shù)量。所述掩膜板包括圖案顯示屏，用于呈現(xiàn)掩膜圖案；控制單元，用于根據(jù)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制所述圖案顯示屏在不同區(qū)域的光透過(guò)量，以呈現(xiàn)所述掩膜圖案。本實(shí)用新型實(shí)施例可應(yīng)用于液晶顯示器的生產(chǎn)。
文檔編號(hào)G03F1/00GK202548530SQ201220006968
公開(kāi)日2012年11月21日 申請(qǐng)日期2012年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月9日
發(fā)明者李文波, 王剛 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司