專(zhuān)利名稱(chēng)：基板處理裝置及基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用處理液將以圖案狀形成在基板上的溶解膜溶解，從 而從基板上除去形成在溶解膜上的薄膜的基板處理裝置及基板處理方法。
背景技術(shù)：
在FPD (Flat Panel Display:平板顯示器)或?yàn)V色片等的制造工序中， 取代金屬的蝕刻，而通過(guò)剝離(lift off)法來(lái)形成金屬的薄膜圖案。在此， 剝離法是指利用光致抗蝕劑等的溶解膜在基板的表面上形成與目標(biāo)圖案相 反的圖案，并對(duì)該基板蒸鍍金屬薄膜之后，通過(guò)處理液使溶解膜溶解，從而 從基板上除去溶解膜上的金屬薄膜來(lái)形成所要的圖案的方法。例如，美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2004/0197966號(hào)說(shuō)明書(shū)中公開(kāi)了如下的工 序利用光致抗蝕劑形成像素電極的圖案并通過(guò)真空蒸鍍法沉積電極材料之 后，利用有機(jī)熔劑來(lái)溶解光致抗蝕劑圖案，從而剝離沉積膜而形成元件電極。當(dāng)通過(guò)這種剝離法形成圖案時(shí)，被剝離的金屬薄膜以粉末狀態(tài)大量地混 入到處理液中。該金屬薄膜不會(huì)像蝕刻時(shí)那樣被處理液溶解。因此，由于該 金屬薄膜混入，會(huì)發(fā)生壓送處理液用泵的故障以及設(shè)置在循環(huán)路徑上的過(guò)濾 器的篩眼堵塞等。而且，由于變成粉末的金屬薄膜再次附著于基板上，從而 產(chǎn)品的成品率下降。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而提出的，其目的在于提供一種基板處理裝 置及基板處理方法，能夠減少壓送處理液用泵的故障以及設(shè)置在循環(huán)路徑上 的過(guò)濾器的篩眼堵塞，并且還能夠防止薄膜再次附著在基板上。本申請(qǐng)第一技術(shù)方案所述的一種基板處理裝置，利用處理液使以圖案狀 形成在基板上的溶解膜溶解，從而從基板上除去形成在溶解膜上的薄膜，其 特征在于，包括處理液供給單元，其用于向基板供給所述處理液；處理液 回收單元，其用于回收由所述處理液供給單元供給到基板上而對(duì)所述處理膜進(jìn)行溶解從而含有所述薄膜的處理液；分離單元，其從由所述處理液回收單 元回收的處理液中將所述薄膜分離并排出到處理液外，將通過(guò)所述分離單元 而分離并排出薄膜之后的處理液，再次向基板供給。本申請(qǐng)第二技術(shù)方案是在第一技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，還包括多個(gè)處理部， 其設(shè)置有所述處理液供給單元；基板傳送機(jī)構(gòu)，其用于向所述多個(gè)處理部依 次傳送基板，而且所述處理液回收單元和所述分離單元至少設(shè)置在位于傳送 線路的上游側(cè)的處理部，其中該傳送線路是由所述基板傳送機(jī)構(gòu)傳送基板的 傳送線路。本申請(qǐng)第三技術(shù)方案是在第二技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，包括有送液機(jī)構(gòu)，該 送液機(jī)構(gòu)將處理液從所述多個(gè)處理部中的位于傳送線路的下游側(cè)的處理部 向位于傳送線路的上游側(cè)的處理部輸送，其中該傳送線路是由所述基板傳送 機(jī)構(gòu)傳送基板的傳送線路。本申請(qǐng)第四技術(shù)方案是在第二或第三技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，還包括有斷液 單元，該斷液?jiǎn)卧獙埩粼趶乃鎏幚聿堪岢龅幕宓谋砻嫔系奶幚硪簭脑?表面上除去。本申請(qǐng)第五技術(shù)方案是在第四技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，所述斷液?jiǎn)卧窍蚧?板的表面噴射氣體的氣刀。本申請(qǐng)第六技術(shù)方案是在第二技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，在所述多個(gè)處理部中 的位于傳送線路的最下游側(cè)的處理部中設(shè)置過(guò)濾處理液的過(guò)濾單元，其中該 傳送線路是由所述基板傳送機(jī)構(gòu)傳送基板的傳送線路。本申請(qǐng)第七技術(shù)方案所述的一種基板處理方法，利用處理液使以圖案狀 形成在基板上的溶解膜溶解，從而從基板上除去形成在溶解膜上的薄膜，其 特征在于，包括處理液供給工序，用于向基板供給所述處理液；處理液回 收工序，用于回收在所述處理液供給工序中供給到基板上而對(duì)所述處理膜進(jìn) 行溶解從而含有所述薄膜的處理液；分離工序，從在所述處理液回收工序中 回收了的處理液中將所述薄膜分離并排出到處理液外；處理液再供給工序， 將在所述分離工序中分離并排出薄膜之后的處理液再次向基板供給。根據(jù)第一以及第七技術(shù)方案，能夠減少圧送處理液用泵的故障以及設(shè)置 在循環(huán)路徑上的過(guò)濾器的篩眼堵塞，并且能夠防止薄膜再次附著在基板上。根據(jù)第二技術(shù)方案，利用多個(gè)處理部能夠?qū)⒒逡来翁幚砀蓛?。根?jù)第三技術(shù)方案，能夠有效使用處理液。根據(jù)第四技術(shù)方案，能夠防止將薄膜與處理液一起帶入到基板的傳送線 路的下游側(cè)的處理部中。根據(jù)第五技術(shù)方案，通過(guò)氣體，不僅能夠除去處理液，而且還能夠除去 附著在基板的表面上的薄膜。根據(jù)第六技術(shù)方案，能夠在防止過(guò)濾單元的篩眼堵塞的同時(shí)，對(duì)處理液 進(jìn)行過(guò)濾。


圖1是本發(fā)明的基板處理裝置的概要圖。圖2是過(guò)濾單元39的概要圖。圖3是其它實(shí)施方式的第一處理部1的概要圖。圖4是另外其它實(shí)施方式的第一處理部1的概要圖。
具體實(shí)施方式
下面，根據(jù)

本發(fā)明的實(shí)施方式。圖l是本發(fā)明的基板處理裝置 的概要圖。該基板處理裝置通過(guò)向由多個(gè)傳送滾子10傳送的基板W的兩個(gè)面提供處理液，利用處理液使以圖案狀形成在基板w上的由光致抗蝕劑形成的溶 解膜溶解，由此從基板w上除去形成在溶解膜上的薄膜。該基板處理裝置包括從由傳送滾子10組成的傳送基板W的傳送線路的上游側(cè)開(kāi)始向下游側(cè)順序設(shè)置的第一處理部1、第二處理部2、第三處理部3以及離心分離機(jī) 41。第一處理部1包括貯存用于溶解溶解膜的處理液的貯留槽15;用于向由傳送滾子10傳送的基板W的表面噴出處理液的噴淋?chē)娮?1 (shower nozzle);用于向由傳送滾子IO傳送的基板W的背面噴出處理液的噴淋?chē)?嘴12;經(jīng)管道17將貯留槽15內(nèi)的處理液輸送到噴淋?chē)娮?1、 12用的泵16; 以及用于向基板W的兩面噴射高壓氣體的上下一對(duì)的氣刀13、 14。另外，第二處理部2包括貯存用于溶解溶解膜的處理液的貯留槽25; 用于向由傳送滾子10傳送的基板W的表面噴出處理液的噴淋?chē)娮?1;用于向由傳送滾子10傳送的基板W的背面噴出處理液的噴淋?chē)娮?2;經(jīng)管道 27將貯留槽25內(nèi)的處理液輸送到噴淋?chē)娮?1、 22的泵26;以及用于向基 板W的兩面噴射高壓氣體的上下一對(duì)的氣刀23、 24。第三處理部3包括貯存用于溶解溶解膜的處理液的貯留槽35;用于向 由傳送滾子10傳送的基板W的表面噴出處理液的噴淋?chē)娮?1;用于向由傳 送滾子10傳送的基板W的背面噴出處理液的噴淋?chē)娮?2;經(jīng)管道37將貯 留槽35內(nèi)的處理液輸送到噴淋?chē)娮?1、 32的泵36;以及用于向基板W的 兩面噴射高壓氣體的上下一對(duì)的氣刀33、 34。第三處理部3的貯槽35經(jīng)管道61及開(kāi)關(guān)閥55與新處理液的供給源連 接。而且，第三處理部3的貯留槽35與第二處理部2的貯留槽25經(jīng)管道62 及泵49連接。通過(guò)泵49的作用，能夠?qū)⒌谌幚聿?的貯留槽35內(nèi)的處 理液輸送到第二處理部2的貯留槽25。同樣地，第二處理部2的貯留槽25 與第一處理部1的貯留槽15經(jīng)管道63及泵47連接。通過(guò)泵47的作用，能 夠?qū)⒌诙幚聿?的貯留槽25內(nèi)的處理液輸送到第一處理部1的貯留槽15。 第一處理部1的貯留槽15經(jīng)管道40及開(kāi)關(guān)閥45與廢液排出部44連接。離心分離機(jī)41作為用于利用離心力將薄膜從處理液中分離并排出到外 部的分離單元發(fā)揮作用。過(guò)濾器等過(guò)濾單元，通過(guò)允許處理液通過(guò)而不允許 薄膜通過(guò)而將薄膜從處理液中除去，但不具有將薄膜從處理液中分離并排出 到處理液的外部的功能。相對(duì)與此，所述離心分離機(jī)41具有將薄膜排出到 處理液的循環(huán)線路的外部的功能。此外，如果是一種具有將薄膜排出到處理 液的循環(huán)線路的外部的功能的分離單元，那么也可以使用除離心分離機(jī)41 以外的分離單元。所述離心分離機(jī)41經(jīng)管道64、設(shè)置在管道64中的泵46和開(kāi)關(guān)閥51、 以及管道66而與第一處理部1的貯留槽15連接。而且，所述離心分離機(jī)41 經(jīng)管道65、設(shè)置在管道65中的泵48和開(kāi)關(guān)閥52、以及管道66而與第二處 理部2的貯留槽25連接。另外，從離心分離機(jī)41排出的處理液被貯存到貯留槽42中，而薄膜被 排出到薄膜回收桶43。貯留槽42與泵50及管道60連接。所述管道60與第 一處理部1的貯留槽15通過(guò)具有開(kāi)關(guān)閥54的管道68連接，并且與第二處 理部2的貯留槽25通過(guò)具有開(kāi)關(guān)閥53的管道67連接。圖2是上述過(guò)濾單元39的概要圖。所述過(guò)濾單元具有第一過(guò)濾器系統(tǒng)和第二過(guò)濾器系統(tǒng)，其中，該第一過(guò) 濾器系統(tǒng)包括過(guò)濾器81及配置在過(guò)濾器81前后的一對(duì)開(kāi)關(guān)閥82、 83，該第 二過(guò)濾器系統(tǒng)包括過(guò)濾器84及配置在過(guò)濾器85前后的一對(duì)開(kāi)關(guān)閥85、 86。 一般地，利用第一過(guò)濾器系統(tǒng)或者第二過(guò)濾器系統(tǒng)的任意一方來(lái)進(jìn)行處理液 的過(guò)濾。并且具有下述的結(jié)構(gòu)，當(dāng)因持續(xù)地過(guò)濾處理液導(dǎo)致過(guò)濾器81或者 過(guò)濾器84中的任意一方被污染時(shí)，使用另一方過(guò)濾器系統(tǒng)的過(guò)濾器進(jìn)行過(guò) 濾，而同時(shí)對(duì)被污染的過(guò)濾器進(jìn)行清洗或者更換作業(yè)。下面，對(duì)具有上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置的基板處理動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。最初，由多個(gè)傳送輪子IO傳送的基板W被傳送到第一處理部1。在第 一處理部1中，貯存到貯留槽15中的處理液通過(guò)泵16的作用經(jīng)管道17而 輸送到噴淋?chē)娮靗l、 12，并向基板W的兩面噴出。從噴淋?chē)娮靗l、 12供給 到基板W并溶解了處理膜且含有薄膜的處理液，經(jīng)管道18再度回收到貯留 槽15。利用由一對(duì)氣刀13、 14噴射的高壓空氣，從基板W上除去包含附著 在基板W的兩面上的薄膜的處理液。此時(shí)，附著在基板W的表面上的薄膜 也會(huì)被由一對(duì)氣刀B、 14噴射的高壓空氣從基板W上除去。在第一處理部1被處理過(guò)的基板W接著被傳送到第二處理部2。在第二 處理部2中，被貯存到貯留槽25的處理液通過(guò)泵26的作用經(jīng)管道27輸送 到噴淋?chē)娮?1、 22并噴到基板W的兩面。從噴淋?chē)娮?1、 22供給到基板 W并溶解了處理膜且含有薄膜的處理液，經(jīng)管道28再度回收到貯留槽25。 利用由一對(duì)氣刀23、 24噴射的高壓空氣，從基板W上除去包含附著在基板 W的兩面上的薄膜的處理液。此時(shí)，附著在基板W的表面上的薄膜也會(huì)被 由一對(duì)氣刀23、 24噴射的高壓空氣從基板W上除去。此外，通過(guò)第一處理部1的處理，基板W完成了除去不需要的薄膜的 工序。因此，在從第一處理部1傳送到第二處理部2的基板W上幾乎沒(méi)有 殘留不需要的薄膜。通過(guò)在第二處理部2中對(duì)這種基板W進(jìn)一步進(jìn)行處理， 使得通過(guò)第二處理部2之后的基板W實(shí)質(zhì)上不存在不需要的薄膜。將在第二處理部2中處理過(guò)的基板W接著傳送到第三處理部3。在第三 處理部3中，貯存到貯留槽35中的處理液通過(guò)泵36的作用經(jīng)管道37輸送 到噴淋?chē)娮?1、 32并噴到基板W的兩面上。從噴淋?chē)娮?1、 32供給到基板W并溶解了處理膜且含有薄膜的處理液，經(jīng)管道38再度回收到貯留槽35。 利用由一對(duì)氣刀33、 34噴射的高壓空氣，從基板W上除去包含附著在基板 W的兩上的薄膜的處理液。此時(shí)，附著在基板W的兩面上的薄膜也會(huì)被 由一對(duì)氣刀33、 34噴射的高壓空氣從基板W上除去此外，在該第三處理部3中，從噴淋?chē)娮?1、 32向基板W供給之前的 處理液，因由過(guò)濾單元39被過(guò)濾而成為潔凈的處理液。此時(shí)，如上所述， 通過(guò)第一、第二處理部l、 2的作用，從基板W及附著在其上的處理液中幾 乎完全地除去了薄膜。因此，在所述第三處理部3中，即使利用過(guò)濾單元39 的過(guò)濾器81、 84進(jìn)行處理液的過(guò)濾，也不會(huì)發(fā)生過(guò)濾器81、 84的篩眼堵塞 的情況。而且，因持續(xù)地過(guò)濾處理液而導(dǎo)致過(guò)濾器81或者過(guò)濾器84的任意一方 被污染時(shí)，使用另一方的過(guò)濾器系統(tǒng)的過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，與此同時(shí)進(jìn)行被污 染的過(guò)濾器的更換作業(yè)即可。當(dāng)處理了一定量的基板W之后，在貯留槽15、 25內(nèi)的處理液中混入了 規(guī)定量以上的薄膜時(shí)，使用離心分離機(jī)41進(jìn)行將薄膜從處理液分離并排出 到處理液外的分離動(dòng)作。此時(shí)，將薄膜從貯存在貯留槽15中的處理液分離時(shí)，打開(kāi)開(kāi)關(guān)閥51及 開(kāi)關(guān)閥54的同時(shí)關(guān)閉開(kāi)關(guān)閥52及開(kāi)關(guān)閥53。然后，通過(guò)泵46及泵50的作 用，使處理液在貯留槽15、離心分離機(jī)41以及貯留槽42之間循環(huán)。然后， 通過(guò)離心分離機(jī)41將薄膜從處理液中分離并排出到處理液外。薄膜被分離 了的處理液從離心分離機(jī)41排出到貯留槽42。此外，從處理液分離了的薄 膜被回收到薄膜回收桶43。另外，將薄膜從貯存在貯留槽25中的處理液分離時(shí)，打開(kāi)開(kāi)關(guān)閥52及 開(kāi)關(guān)閥53的同時(shí)關(guān)閉開(kāi)關(guān)閥51及開(kāi)關(guān)閥54。然后，通過(guò)泵48及泵50的作 用，使處理液在貯留槽25、離心分離機(jī)41以及貯留槽42之間循環(huán)。然后， 通過(guò)離心分離機(jī)41將薄膜從處理液中分離并排出到處理液外。薄膜被分離 了的處理液從離心分離機(jī)41排出到貯留槽42。此外，從處理液分離了的薄 膜被回收到薄膜回收桶43。此外， 一般地可以認(rèn)為，在由傳送滾子IO傳送的基板W的傳送線路上， 貯存在三個(gè)貯留槽15、 25、 35的處理液越是位于上游側(cè)越會(huì)因薄膜等導(dǎo)致更高的污染度。因此可以采用如下的結(jié)構(gòu)，即每當(dāng)處理一定量的基板或者每隔一定期間，通過(guò)泵49的作用利用管道62將貯留槽35內(nèi)的處理液輸送到 貯留槽25，同時(shí)通過(guò)泵47的作用利用管道63將貯留槽25內(nèi)的處理液輸送 到貯留槽15。而且，此時(shí)通過(guò)預(yù)先打開(kāi)開(kāi)關(guān)閥45將貯留槽15內(nèi)的處理液排 出到廢液排出部44。另外，在上述實(shí)施方式中，分別設(shè)置有在貯留槽15、 25、 35、 42、離心 分離機(jī)41以及在這些部件之間循環(huán)處理液的兩個(gè)循環(huán)系統(tǒng)，還可以在這些 部件中，在一方處理基板W，而使另一方進(jìn)行薄膜的除去作業(yè)。接著，對(duì)第一處理部l的其它實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖3是其它實(shí)施方式 的第一處理部l的概要圖。在圖1所示的實(shí)施方式中，將通過(guò)離心分離機(jī)41而分離并排出了薄膜 的處理液輸送到貯留槽15。相對(duì)與此，圖3所示的實(shí)施方式具有如下結(jié)構(gòu)， 即將通過(guò)離心分離機(jī)41而分離并排出了薄膜的處理液輸送到噴淋?chē)娮?1、 12，并將該處理液直接噴到基板W上。其它的結(jié)構(gòu)與圖1所示的實(shí)施方式 相同。接著，對(duì)第一處理部l的另外其它的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖4是另外其 它的實(shí)施方式的第一處理部1的概要圖。在如圖1及圖3所示的實(shí)施方式中，將溶解了溶解膜且含有薄膜的處理 液回收到貯留槽15。相對(duì)于此，如圖4所示的實(shí)施方式采用了，將溶解了溶 解膜且含有薄膜的處理液直接輸送到離心分離機(jī)41的結(jié)構(gòu)。而且，在該實(shí) 施方式也具有如下的結(jié)構(gòu)，將通過(guò)離心分離機(jī)41而分離并排出了薄膜的處 理液輸送到噴淋?chē)娮靗l、 12，并將該處理液直接噴到基板W上的結(jié)構(gòu)。其 它的結(jié)構(gòu)與圖1及圖3所示的實(shí)施方式相同。此外，在圖3及圖4中表示了第一處理部1的變形例，然而對(duì)第二處理 部也能夠采用與圖3及圖4相同的結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其利用處理液使以圖案狀形成在基板上的溶解膜溶解，從而從基板上除去形成在溶解膜上的薄膜，其特征在于，包括處理液供給單元，其用于向基板供給所述處理液；處理液回收單元，其用于回收由所述處理液供給單元供給到基板上而對(duì)所述處理膜進(jìn)行溶解從而含有所述薄膜的處理液；分離單元，其從由所述處理液回收單元回收的處理液中將所述薄膜分離并排出到處理液外，將通過(guò)所述分離單元而分離并排出薄膜之后的處理液，再次向基板供給。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 還包括多個(gè)處理部，其設(shè)置有所述處理液供給單元； 基板傳送機(jī)構(gòu)，其用于向所述多個(gè)處理部依次傳送基板， 所述處理液回收單元和所述分離單元至少設(shè)置在位于傳送線路的上游 側(cè)的處理部，其中該傳送線路是由所述基板傳送機(jī)構(gòu)傳送基板的傳送線路。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，包括有送液機(jī) 構(gòu)，該送液機(jī)構(gòu)將處理液從所述多個(gè)處理部中的位于傳送線路的下游側(cè)的處 理部向位于傳送線路的上游側(cè)的處理部輸送，其中所述傳送線路是由所述基 板傳送機(jī)構(gòu)傳送基板的傳送線路。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括有 斷液?jiǎn)卧?，該斷液?jiǎn)卧獙埩粼趶乃鎏幚聿堪岢龅幕宓谋砻嫔系奶幚硪?從該表面上除去。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述斷液?jiǎn)卧?是向基板的表面噴射氣體的氣刀。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述多個(gè)處 理部中的位于傳送線路的最下游側(cè)的處理部設(shè)置有過(guò)濾處理液的過(guò)濾單元， 其中該傳送線路是由所述基板傳送機(jī)構(gòu)傳送基板的傳送線路。
7. —種基板處理方法，利用處理液使以圖案狀形成在基板上的溶解膜溶解，從而從基板上除去形成在溶解膜上的薄膜，其特征在于，包括 處理液供給工序，用于向基板供給所述處理液；處理液回收工序，用于回收在所述處理液供給工序中供給到基板而對(duì)所 述處理膜進(jìn)行溶解從而含有所述薄膜的處理液；分離工序，從在所述處理液回收工序中回收的處理液中，將所述薄膜分 離并排出到處理液外；處理液再供給工序，將在所述分離工序中分離并排出薄膜之后的處理 液，再次向基板供給。全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置及基板處理方法，能夠減少壓送處理液用泵的故障以及設(shè)置在循環(huán)路徑上的過(guò)濾器的篩眼堵塞，并能夠防止薄膜再次附著在基板上。將從噴淋?chē)娮?11、12)供給到基板(W)上并對(duì)處理膜進(jìn)行溶解從而含有薄膜的處理液回收之后，將此處理液輸送到離心分離機(jī)(41)。在離心分離機(jī)(41)，將薄膜分離并排出到處理液外。將分離出薄膜后的處理液從噴淋?chē)娮?11、12)再次供給到基板上。
文檔編號(hào)G02F1/1368GK101252078SQ200810001968
公開(kāi)日2008年8月27日 申請(qǐng)日期2008年1月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月23日
發(fā)明者尾崎一人 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社