化學(xué)研磨裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種不使用夾具也能夠?qū)ΣＡЩ鍖?shí)施化學(xué)研磨處理的單片式化學(xué)研磨裝置。化學(xué)研磨裝置(10)具備多個(gè)搬送輥(50)以及處理室(16、18、20、22)，多個(gè)搬送輥(50)構(gòu)成為在水平方向搬送玻璃基板，處理室(16、18、20、22)構(gòu)成為對(duì)由多個(gè)搬送輥(50)搬送的玻璃基板進(jìn)行化學(xué)研磨處理。處理室(16、18、20、22)至少具有處理槽(161)與回收槽(162)。處理槽(161)構(gòu)成為在與由搬送輥(50)搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化學(xué)研磨液?；厥詹?162)構(gòu)成為回收從處理槽(161)溢出的化學(xué)研磨液。
【專利說(shuō)明】化學(xué)研磨裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種化學(xué)研磨裝置，其構(gòu)成為對(duì)被連續(xù)搬送的多個(gè)玻璃基板進(jìn)行化學(xué)研磨處理。

【背景技術(shù)】
[0002]為了使玻璃基板薄型化，通常需要使用含有氫氟酸的化學(xué)研磨液對(duì)玻璃基板進(jìn)行化學(xué)研磨處理。作為這種化學(xué)研磨處理，可以舉出分批式化學(xué)研磨和單片式化學(xué)研磨，所述分批式化學(xué)研磨將待處理玻璃基板以規(guī)定時(shí)間浸潰于放入有化學(xué)研磨液的槽中，所述單片式化學(xué)研磨將待處理玻璃基板用搬送輥依次搬送且同時(shí)噴灑化學(xué)研磨液。
[0003]在這些化學(xué)研磨的方式中，對(duì)于分批方式的研磨而言，其通過(guò)將待處理玻璃基板以規(guī)定時(shí)間浸潰于研磨液浴槽中，從而使玻璃基板薄板化至所期望的板厚，因此具有能夠一次性處理大量玻璃基板這樣的優(yōu)點(diǎn)。然而，分批方式的研磨至少存在以下問(wèn)題。
[0004]首先，在分批方式的研磨中，由于研磨液浴槽是向上方開(kāi)放的結(jié)構(gòu)，因此存在研磨液浴槽的周?chē)纬蓾鈿浞釟夥者@樣的問(wèn)題。特別是，在對(duì)研磨液浴槽的研磨液進(jìn)行發(fā)泡處理的情況下，具有氣體狀的氫氟酸容易向周?chē)鷶U(kuò)散這樣的問(wèn)題。在這樣的氫氟酸氣氛中操作的操作人員，如果不身著適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)裝備進(jìn)行操作，則有可能損害健康。因此，發(fā)給操作人員的保護(hù)裝備的成本變高。
[0005]此外，在分批方式的研磨中，為了消除研磨液浴槽的周?chē)臐鈿浞釟夥?，需要?qiáng)有力的洗滌器等排氣設(shè)備，從而增加設(shè)備成本。進(jìn)而，由于氫氟酸氣體而容易發(fā)生設(shè)備腐蝕，因此存在為實(shí)施適當(dāng)防蝕處理而花費(fèi)成本或者設(shè)備的更換頻率變大而花費(fèi)成本這樣的問(wèn)題。
[0006]因此，近年來(lái)，有時(shí)使用單片方式的化學(xué)研磨處理。例如，在以往技術(shù)中，存在平板顯示器玻璃基板蝕刻設(shè)備，該設(shè)備構(gòu)成為:利用能夠附著玻璃基板的夾具來(lái)縱向支承玻璃基板，并且在搬送該夾具的同時(shí)對(duì)玻璃基板噴射化學(xué)研磨液(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2008-266135號(hào)公報(bào)。


【發(fā)明內(nèi)容】

發(fā)明所要解決的課題
[0008]然而，專利文獻(xiàn)I中所記載的技術(shù)依然不得不使用用于支承玻璃基板的夾具。因此，與上述分批式化學(xué)研磨裝置同樣，也存在準(zhǔn)備夾具的費(fèi)用高，而且容易在玻璃基板上產(chǎn)生夾具痕跡這樣的問(wèn)題。如果在玻璃基板上產(chǎn)生夾具痕跡，則會(huì)使進(jìn)行高效的倒角設(shè)計(jì)變得極其困難，因此存在使倒角效率降低這樣的問(wèn)題。
[0009]本發(fā)明鑒于上述課題而做出的，其提供不使用夾具也能夠?qū)ΣＡЩ鍖?shí)施化學(xué)研磨處理的單片式化學(xué)研磨裝置。 解決課題的手段
[0010]本發(fā)明所述的化學(xué)研磨裝置構(gòu)成為對(duì)被連續(xù)搬送的多個(gè)玻璃基板進(jìn)行化學(xué)研磨處理。該化學(xué)研磨裝置至少具備:多個(gè)搬送輥，所述多個(gè)搬送輥構(gòu)成為在水平方向搬送玻璃基板；一個(gè)或者多個(gè)處理室，所述一個(gè)或者多個(gè)處理室的構(gòu)成為對(duì)由所述多個(gè)搬送輥搬送的玻璃基板進(jìn)行化學(xué)研磨處理。處理室至少包含處理槽和回收槽。處理槽構(gòu)成為在與由所述搬送輥搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化學(xué)研磨液?；厥詹蹣?gòu)成為回收從所述處理槽溢出的化學(xué)研磨液。
[0011]在該構(gòu)成中，被搬送輥依次搬送的玻璃基板，通過(guò)在處理室中與溢出的化學(xué)研磨液接觸，在室內(nèi)進(jìn)行依次的化學(xué)研磨處理。此時(shí)玻璃基板僅被搬送輥部分地支撐，且玻璃基板的特定部分沒(méi)有一直與搬送輥接觸，因而不產(chǎn)生如使用夾具時(shí)的夾具跡。
對(duì)于處理室的個(gè)數(shù)而言，單個(gè)也可以實(shí)施本發(fā)明，但優(yōu)選為多個(gè)。其理由為:在以單個(gè)處理室構(gòu)成的情況下，處理室內(nèi)的槽和配管等容易巨大化，其結(jié)果，溢出的控制及對(duì)于配管的熱變形、應(yīng)力變形的應(yīng)對(duì)處理等變得困難。
[0012]在設(shè)有多個(gè)處理室的情況下，優(yōu)選地，在各處理室之間分別設(shè)有中繼部，并且，中繼部至少具有處理槽，所述處理槽構(gòu)成為在與被搬送輥搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化學(xué)研磨液。其理由為通過(guò)在中繼部也使玻璃基板與化學(xué)研磨液接觸，可防止玻璃基板在從處理室向下個(gè)處理室搬送期間其表面變干，發(fā)生化學(xué)研磨不均等問(wèn)題。
[0013]另外，優(yōu)選地，處理室的前段進(jìn)一步具有預(yù)處理槽，所述預(yù)處理槽構(gòu)成為使向所述處理室導(dǎo)入前的玻璃基板的表面濕潤(rùn)。其理由為，玻璃基板在干燥狀態(tài)與從化學(xué)研磨液產(chǎn)生的氣體(如氟化氫氣體)接觸，易于發(fā)生玻璃基板上白濁化等問(wèn)題，但通過(guò)用水分等使玻璃基板的表面濕潤(rùn)，從而變得難以發(fā)生這樣的問(wèn)題。
[0014]另外，優(yōu)選地，多個(gè)搬送輥構(gòu)成為在處理室中利用I對(duì)搬送輥從上下夾著并支撐玻璃基板。利用這樣的構(gòu)成，即使在被浸入溢出的化學(xué)研磨液的狀態(tài)下，也使玻璃基板的位置穩(wěn)定化。進(jìn)一步而言，優(yōu)選地，多個(gè)搬送輥構(gòu)成為，在處理室中，隔著O型圈與玻璃基板接觸。通過(guò)這樣的構(gòu)成，搬送輥與玻璃基板的接觸面積變得更小，因此更難以發(fā)生化學(xué)研磨不均等問(wèn)題。
發(fā)明效果
[0015]如果利用上述本發(fā)明，則不使用夾具也能夠?qū)ΣＡЩ鍖?shí)施化學(xué)研磨處理。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式所述的單片式化學(xué)研磨裝置的外觀圖。
圖2是表示單片式化學(xué)研磨裝置的概略構(gòu)成圖。
圖3是表不第I處理室的概略構(gòu)成圖。
圖4是表示中繼部的概略構(gòu)成圖。
圖5是表示對(duì)被搬送的玻璃基板進(jìn)行化學(xué)研磨處理的狀態(tài)圖。
圖6是表示在預(yù)處理室進(jìn)行預(yù)處理的狀態(tài)圖。
圖7是表示單片式化學(xué)研磨裝置的概略構(gòu)成的其他例的圖。
圖8是表示單片式化學(xué)研磨裝置概略構(gòu)成的進(jìn)一步的其他例的圖。

【具體實(shí)施方式】
[0017]圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的一例的單片式化學(xué)研磨裝置10外觀圖。如圖1所示，化學(xué)研磨裝置10具備，搬入部12、預(yù)處理室14、第I處理室16、第2處理室18、第3處理室20、第4處理室22、第I中繼部28、第2中繼部30、第3中繼部32、水洗室24、和搬出部26。各室和各中繼部具有耐酸性，且設(shè)有由透明構(gòu)件構(gòu)成的窗40。
[0018]搬入部12構(gòu)成為能夠接收通過(guò)由操作人員進(jìn)行的手動(dòng)操作或者由機(jī)器人等進(jìn)行的自動(dòng)操作而搬入的待薄型化處理的玻璃基板100。預(yù)處理室14，構(gòu)成為接收從搬入部12搬送的玻璃基板100。第I處理室16構(gòu)成為通過(guò)使玻璃基板100與化學(xué)研磨液接觸以蝕刻(該實(shí)施方式為薄型化)玻璃基板100。第2處理室18、第3處理室20和第4處理室22構(gòu)成為，分別具有與第I處理室16實(shí)質(zhì)上相同的結(jié)構(gòu)，且通過(guò)使與第I處理室16相同組成的化學(xué)研磨液與玻璃基板100接觸以蝕刻玻璃基板100。
[0019]第I中繼部28、第2中繼部30以及第3中繼部32分別構(gòu)成為將多個(gè)處理室連結(jié)。水洗室24構(gòu)成為對(duì)經(jīng)由第4處理室22的玻璃基板100進(jìn)行水洗。搬出部26構(gòu)成為能夠取出經(jīng)化學(xué)研磨處理以及水洗處理的玻璃基板100。到達(dá)搬出部26的玻璃基板100通過(guò)由操人作員進(jìn)行的手動(dòng)操作或者由機(jī)器人等進(jìn)行的自動(dòng)操作從化學(xué)研磨裝置10中被取出并回收。然后，在玻璃基板100需要進(jìn)一步的薄型化的情況下，將其再次導(dǎo)入化學(xué)研磨裝置10中，而在不需要進(jìn)一步薄型化的情況下，將其移送至成膜工序等后續(xù)工序中。各室和各中繼部直接或間接地被連接至排氣部34。排氣部34被構(gòu)成為:具備排氣管和洗滌器等，以排出化學(xué)研磨裝置10內(nèi)部的氣體。
[0020]在上述化學(xué)研磨裝置10中，除了向預(yù)處理室14的導(dǎo)入口和自水洗室24的導(dǎo)出口，預(yù)處理室14、第I處理室16、第2處理室18、第3處理室20、第4處理室22、第I中繼部28、第2中繼部30、第3中繼部32和水洗室24作為整體被氣密性且水密性地封閉。導(dǎo)入口和導(dǎo)出口呈現(xiàn)比玻璃基板100的板厚略高，比玻璃基板100的寬度略寬的狹縫形狀。
[0021]另外，預(yù)處理室14、第I處理室16、第2處理室18，第3處理室20、第4處理室22以及水洗室24連通至排氣部34，各室的內(nèi)部氣體被吸引至排氣部34，因此形成于化學(xué)研磨裝置10的開(kāi)口被維持在負(fù)壓狀態(tài)，不會(huì)通過(guò)這些開(kāi)口漏出處理氣體。
[0022]如圖2所示，第I處理室16、第2處理室18、第3處理室20、第4處理室22、第I中繼部28、第2中繼部30和第3中繼部32的處理液供給側(cè)，介由處理液供給部44連接至處理液收容部42。另一方面，第I處理室16、第2處理室18、第3處理室20以及第4處理室22的處理液排出側(cè)連接至壓濾器480，經(jīng)壓濾器480過(guò)濾的處理液被送回至處理液收容部42。
[0023]此外，預(yù)處理室14和水洗室24連接至水供給部46，構(gòu)成為接收來(lái)自水供給部46的純水的供給。如圖2所示，化學(xué)研磨裝置10具備以貫穿第I處理室16、第2處理室18、第3處理室20、第4處理室22、第I中繼部28、第2中繼部30以及第3中繼部32的方式配置的多個(gè)搬送輥50。利用這些多個(gè)搬送輥50構(gòu)成搬送玻璃基板100的搬送通路。在此，搬送速度優(yōu)選設(shè)定為100?800mm/分鐘，更優(yōu)選應(yīng)當(dāng)設(shè)定為300?550mm/分鐘。并且，在本實(shí)施方式中，第I處理室16、第2處理室18、第3處理室20以及第4處理室22中的處理時(shí)間設(shè)定為合計(jì)20分鐘左右，但并不局限于此。
[0024]在化學(xué)研磨裝置10中被薄型化處理的玻璃基板100沒(méi)有特別限定，化學(xué)研磨裝置10構(gòu)成為如下方式，gp:即使對(duì)于G8尺寸的四分之一切割(1080X 1030mm)以及G6尺寸(1500X 1800mm)等大型玻璃基板,也能夠均勻研磨其上下兩面。此外，化學(xué)研磨裝置10構(gòu)成為在不使用夾具、托架的情況下，直接利用搬送輥50來(lái)搬送玻璃基板100。
[0025]第I的處理室16、第2的處理室18、第3的處理室20以及第4處理室22實(shí)質(zhì)上是相同構(gòu)成，因此以下只對(duì)第I處理室16進(jìn)行說(shuō)明，省略對(duì)其他處理室進(jìn)行說(shuō)明。另外，第I中繼部28、第2中繼部30以及第3中繼部32實(shí)質(zhì)上是相同構(gòu)成，因此以下只對(duì)第I中繼部28進(jìn)行說(shuō)明，省略對(duì)其他中繼部說(shuō)明。
[0026]如圖3所示，第I處理室16具備處理槽161，所述處理槽161被構(gòu)成為到比利用搬送輥50搬送的玻璃基板100更高位置為止溢出化學(xué)研磨液。在處理槽161設(shè)有循環(huán)噴淋管164，循環(huán)噴淋管164被構(gòu)成為通過(guò)從多個(gè)噴出口噴出化學(xué)研磨液，使得化學(xué)研磨液在槽內(nèi)循環(huán)。優(yōu)選地，循環(huán)噴淋管164設(shè)于玻璃基板100的搬送通路的上下兩側(cè)。循環(huán)噴淋管164連接至泵442，處理槽161的下部的化學(xué)研磨液利用泵442可以經(jīng)常地向循環(huán)噴淋管164供給。處理槽161的底部，介由泵484連接至壓濾器480的同時(shí)，介由閥488連接至廢液罐486。
[0027]此外，處理槽161介由構(gòu)成處理液供給部44的泵44連接至儲(chǔ)液罐420。儲(chǔ)液罐420介由泵425連接至氫氟酸罐424，同時(shí)介由泵427連接至鹽酸罐426。另外，儲(chǔ)液罐420連接至溫度調(diào)節(jié)部422，罐內(nèi)的液體的溫度以成為所期望溫度的方式被管理。在該實(shí)施方式中，由儲(chǔ)液罐420、溫度調(diào)節(jié)部422、氫氟酸罐424、鹽酸罐426以及泵425、427構(gòu)成處理液收容部42，但處理液收容部42的構(gòu)成并非被限定于此。另外，在該實(shí)施方式中，處理液供給部44的化學(xué)研磨液被管理成為40?42°C左右，且化學(xué)研磨液的組成被管理為氫氟酸I?20重量％、鹽酸O?10重量％、剩余為水的液體組成，但液體溫度、液體組成并非被限定于此。
[0028]處理槽161下部配置有回收槽162?；厥詹?62被構(gòu)成為回收從處理槽161溢出化學(xué)研磨液，因此被構(gòu)成為從處理槽161灑落的化學(xué)研磨液流入回收槽。回收槽162介由泵444連接于處理槽161，被構(gòu)成為流入回收槽444的化學(xué)研磨液返回處理槽161?；厥詹?62連接至溫度調(diào)節(jié)部163，因此可以將回收槽162內(nèi)的液溫以成為所期望的溫度的方式管理。在回收槽162底部淤渣變得容易積存，該底部在介由泵484連接至壓濾器480的同時(shí)，介由閥488連接至廢液罐486。
[0029]閥488通常被關(guān)閉，因此處理槽161和回收槽162的化學(xué)研磨液利用泵484被送至壓濾器480。另一方面，若打開(kāi)閥488，則將處理槽161和回收槽162的化學(xué)研磨液向廢液罐486排出。通常，化學(xué)研磨液經(jīng)過(guò)反應(yīng)生成物的沉淀及其他的處理之后，如果是可以再利用狀態(tài)則被送入壓濾器480，另一方面，在不可以再利用的狀態(tài)的情況下，作為高濃廢液被送入廢液罐486。
[0030]接下來(lái)，使用圖4對(duì)第I中繼部28進(jìn)行說(shuō)明。第I中繼部28具備處理槽281，所述處理槽281構(gòu)成為在與由所述搬送輥50搬送的玻璃基板100相比更高位置溢出化學(xué)研磨液。處理槽281介由泵440連接至儲(chǔ)液罐420。另外，處理槽281的底部介由泵484連接至壓濾器480的同時(shí)，介由閥488連接至廢液罐486。
[0031]閥488通常被關(guān)閉，因此處理槽281的化學(xué)研磨液利用泵484被送至壓濾器480。另一方面，若打開(kāi)閥488，則將處理槽281的化學(xué)研磨液向廢液罐486排出。另外，從處理槽281溢出的化學(xué)研磨液，流至第I中繼部28的底部的斜面上，流入相鄰位置的處置室的回收槽。
[0032]繼續(xù)地，使用圖5㈧和圖5⑶，對(duì)在第I處理室16的化學(xué)研磨處理進(jìn)行說(shuō)明。如同圖所示，在第I處理室16中利用I對(duì)搬送輥50從上下夾著并支撐玻璃基板100。在該實(shí)施方式中，為降低搬送輥50的周面與玻璃基板100的接觸面積，在搬送輥50的周面安裝O型圈502，隔著該O型圈502，搬送輥50與玻璃基板100接觸。該結(jié)果，玻璃基板100隔著O型圈502被傳遞來(lái)自搬送輥50的搬送力。
[0033]玻璃基板100在被搬送輥100搬送的同時(shí)，浸在從處理槽161溢出的化學(xué)研磨液中。因此，玻璃基板100在被搬送的同時(shí)被蝕刻而薄型化。此時(shí)，從設(shè)置于循環(huán)噴淋管164的多個(gè)的開(kāi)口部向玻璃基板100噴出化學(xué)研磨液。因此能防止玻璃基板100的表面附近積存淤渣，另外，對(duì)玻璃基板100送去新鮮的化學(xué)研磨液。處理槽161內(nèi)的化學(xué)研磨液時(shí)常循環(huán)，因此處理槽161內(nèi)的化學(xué)研磨液難以發(fā)生不均質(zhì)化。需要說(shuō)明的是，在上述的構(gòu)成中，搬送輥50、循環(huán)噴淋管164和O型圈502的材質(zhì)優(yōu)選為具備耐酸性的樹(shù)脂，在該實(shí)施方式中，使用聚氯乙烯、聚四氟乙烯等。
[0034]在上述的構(gòu)成中，通過(guò)向處理槽161或處理槽281供給比從處理槽161和處理槽281溢出液量多的化學(xué)研磨液，能使液面上升，溢出液量與供給量相等時(shí)液面能保持一定。雖然沒(méi)有圖示，優(yōu)選地，處理槽161或處理槽281上設(shè)有液面?zhèn)鞲衅鳎以O(shè)有根據(jù)該液面?zhèn)鞲衅鞯妮敵鲂盘?hào)，以使液面保持在規(guī)定范圍內(nèi)的方式控制處理液供給部44的各泵的動(dòng)作的控制裝置。
[0035]另外，在本實(shí)施方式中，特意將以相同液體組成實(shí)施同樣的化學(xué)研磨的第I處理室16、第2處理室18、第3處理室20以及第4處理室22彼此分割而設(shè)置。其理由是，抑制各處理槽161的大小，抑制循環(huán)噴淋管164及其他配管的長(zhǎng)度，從而防止循環(huán)噴淋管164的撓曲。另外，抑制減小由循環(huán)噴淋管164及其他配管的熱膨脹的影響。通過(guò)采取這樣的構(gòu)成，能夠?qū)⒀h(huán)噴淋管164與玻璃基板100的距離均勻地維持，容易調(diào)節(jié)噴射于玻璃基板100的化學(xué)研磨液的液壓。此外，循環(huán)噴淋管164和其他的配管的長(zhǎng)度雖然也與管徑(送液量)相關(guān)，一般來(lái)說(shuō)，為2.5m以下、優(yōu)選地控制在2m以下。
[0036]接下來(lái)，利用圖6 (A)?圖6 (C)，對(duì)預(yù)處理室14的構(gòu)成進(jìn)行說(shuō)明。在預(yù)處理室14中，在向第I處理室16的玻璃基板100的導(dǎo)入口，配置有接收玻璃基板100的對(duì)置輥146、和向玻璃基板100的上下面噴射水的水洗噴嘴142、144。在與玻璃基板100的搬送方向正交的方向(寬度方向)上的整個(gè)區(qū)域，以規(guī)定的間隔配備有多個(gè)水洗噴嘴142、144。在此，設(shè)定有接觸壓，從而使玻璃基板100被對(duì)置輥146和搬送輥50柔和地保持而導(dǎo)入到第I處理室16。
[0037]此外，水洗噴嘴142、144被設(shè)定為朝向玻璃基板100的向第I處理室16的導(dǎo)入口噴射水。因此，導(dǎo)入至第I處理室16的玻璃基板100是充分潤(rùn)濕的狀態(tài)，防止進(jìn)行不均勻的初期蝕刻。S卩，由于第I處理室16是氫氟酸氣體氣氛，因此，如果玻璃基板100的表面是干燥狀態(tài)，則存在可能因氫氟酸氣體而被不均勻地侵蝕的危險(xiǎn)，但在本實(shí)施方式中，由于玻璃基板100的表面由水保護(hù)，因此之后能夠在第I處理室16中開(kāi)始均勻的蝕刻。
[0038]在本實(shí)施方式中，如圖7(A)?圖7(C)所示，水洗噴嘴142構(gòu)成為向正下方噴射水，而水洗噴嘴144構(gòu)成為朝向上方且朝向玻璃基板100的搬送通路的上游側(cè)傾斜地噴射水。水洗噴嘴144構(gòu)成為向斜上方噴射水的結(jié)果是，當(dāng)玻璃基板100接近水洗噴嘴142、144時(shí)，如圖7 (A)和圖7⑶所示，能夠從水洗噴嘴144向玻璃基板100的上表面供給水。由此，能夠在玻璃基板100的上表面迅速形成用于保護(hù)其免受氫氟酸氣體腐蝕的水膜。另外，如果玻璃基板100接近水洗噴嘴144，則由于從水洗噴嘴144噴射的水會(huì)噴到玻璃基板100的底面，因此能夠利用水洗噴嘴144適宜地洗滌玻璃基板100的底面，并且使其適宜地潤(rùn)濕。
[0039]如上所述，通過(guò)將水洗噴嘴142、144設(shè)置于預(yù)處理室14，能夠防止干燥狀態(tài)的玻璃基板100暴露于氫氟酸氣體而被不均勻地蝕刻。此外，防止玻璃基板100以干燥狀態(tài)被夾入對(duì)置輥146與搬送輥50之間，因此在通過(guò)對(duì)置輥146與搬送輥50之間時(shí)，能夠防止在玻璃基板100上產(chǎn)生傷痕或者使玻璃基板100污損。
[0040]玻璃基板100依次通過(guò)第I處理室16、第2處理室18、第3處理室20、第4處理室22、第I中繼部28、第2中繼部30以及第3中繼部32，并依次被化學(xué)研磨。然后，對(duì)結(jié)束多個(gè)階段的化學(xué)研磨的玻璃基板100，利用配置于第4處理室22的出口的氣刀244進(jìn)行上表面的除液處理后，利用從配置于水洗室24中的一組噴射管242接收的洗滌水來(lái)洗滌。洗滌用噴射管242雖然是固定狀態(tài)，但也可以采用使其擺動(dòng)的構(gòu)成。
[0041]總之，在洗滌處理的最終段，配置有上下一對(duì)氣刀246，利用由該處噴射的空氣使玻璃基板100的上下面迅速干燥。然后，從水洗室24的導(dǎo)出口排出的玻璃基板100由在搬出部26等待的操作人員取出，從而完成一系列加工處理。如此，通過(guò)在上下一對(duì)氣刀246的前段另外配置氣刀244，能夠迅速將化學(xué)研磨液從玻璃基板100的上表面去除，因此能夠有效防止玻璃基板100的上表面被不均勻地蝕刻。
[0042]如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式涉及的化學(xué)研磨裝置10，在封閉的空間中進(jìn)行化學(xué)研磨，利用洗滌器等排氣機(jī)構(gòu)能夠幾乎全部回收裝置內(nèi)產(chǎn)生的氫氟酸氣體等有毒氣體，因此氫氟酸氣體幾乎不會(huì)向化學(xué)研磨裝置10周?chē)鷶U(kuò)散。其結(jié)果是，與分批式化學(xué)研磨處理的情況相比，化學(xué)研磨裝置10周?chē)牟僮鳝h(huán)境顯著改善。因此，消除了使操作人員的健康惡化的擔(dān)憂且同時(shí)消除了在保護(hù)裝備上耗費(fèi)成本的必要。
[0043]此外，由于能夠防止化學(xué)研磨裝置10的周?chē)脑O(shè)備被氫氟酸氣體侵蝕，因此能夠抑制設(shè)備的維護(hù)費(fèi)用。也就是說(shuō)，具有能夠以廉價(jià)的維護(hù)費(fèi)用來(lái)為操作人員提供良好的操作環(huán)境這樣的優(yōu)點(diǎn)。
[0044]進(jìn)而，與分批方式的研磨處理相比，在使用單片方式的化學(xué)研磨裝置10的情況下，具有能夠提高操作效率、產(chǎn)品的品質(zhì)這樣的優(yōu)點(diǎn)。而且，由于通過(guò)化學(xué)研磨裝置10提高板厚精度，因此可預(yù)測(cè)到切割時(shí)的成品率穩(wěn)定。此外，對(duì)于切斷面平面強(qiáng)度，與分批方式的研磨處理相比也能夠變強(qiáng)。并且，由于沒(méi)有由發(fā)泡導(dǎo)致的氫氟酸損失，因此能夠期待削減15%左右氫氟酸成本的效果。
[0045]在上述的實(shí)施方式，說(shuō)明了在第I中繼部28、第2中繼部30和第3中繼部32設(shè)有化學(xué)研磨液溢出的處理槽的構(gòu)成，但如圖7所示，也能夠采用:具有將化學(xué)研磨液向玻璃基板100噴射的噴灑式機(jī)構(gòu)的第I中繼部280、第2中繼部300和第3中繼部320。通過(guò)采用這樣的構(gòu)成，玻璃基板100被依次施行、浸潰、噴灑、浸漬、噴灑，淤渣不容易殘留。
[0046]此外，如圖8所示，可以采用具有洗滌水溢出的槽的水洗室240。通過(guò)采用這樣的構(gòu)成，可以使洗滌水的消費(fèi)量減少。
[0047]在該實(shí)施方式中，雖然說(shuō)明了利用化學(xué)研磨裝置10使玻璃基板100薄型化的例子，但也可使用化學(xué)研磨裝置10進(jìn)行將玻璃基板100沿區(qū)劃溝分?jǐn)嗟奶幚怼?br> [0048]上述實(shí)施方式的說(shuō)明在所有方面上均為例示，不應(yīng)認(rèn)為具有限制性。本發(fā)明的范圍并不是由上述實(shí)施方式，而是由權(quán)利要求書(shū)表示。進(jìn)而，本發(fā)明的范圍包含與權(quán)利要求書(shū)均等的意義以及該范圍內(nèi)的全部變更。
[0049]符號(hào)說(shuō)明 10-化學(xué)研磨裝置 12-搬入部
14-預(yù)處理室 16-第I處理室 18-第2處理室 20-第3處理室 22-第4處理室 24-水洗室 26-搬出部 28-第I中繼部 30-第2中繼部 32-第3中繼部 50-搬送輥 100-玻璃基板
161-處理槽
162-回收槽
163-溫度調(diào)節(jié)部
164-循環(huán)噴淋管
【權(quán)利要求】
1.一種化學(xué)研磨裝置，其構(gòu)成為對(duì)被連續(xù)搬送的多個(gè)玻璃基板進(jìn)行化學(xué)研磨處理，其特征在于，至少具備: 多個(gè)搬送輥，所述多個(gè)搬送輥構(gòu)成為在水平方向搬送玻璃基板， 一個(gè)或者多個(gè)處理室，所述一個(gè)或者多個(gè)處理室構(gòu)成為對(duì)由所述多個(gè)搬送輥搬送的玻璃基板進(jìn)行化學(xué)研磨處理， 所述處理室至少具有: 處理槽，所述處理槽構(gòu)成為在與由所述搬送輥搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化學(xué)研磨液， 回收槽，所述回收槽構(gòu)成為回收從所述處理槽溢出的化學(xué)研磨液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)研磨裝置，其特征在于， 具備多個(gè)所述處理室， 各處理室之間分別設(shè)有中繼部， 所述中繼部至少具有處理槽，所述處理槽構(gòu)成為在與由所述搬送輥搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化學(xué)研磨液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中所述的化學(xué)研磨裝置，其特征在于，在所述處理室的前段進(jìn)一步具備預(yù)處理槽， 所述預(yù)處理槽構(gòu)成為使導(dǎo)入所述處理室前的玻璃基板的表面濕潤(rùn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)中所述的化學(xué)研磨裝置，其特征在于， 所述多個(gè)搬送輥構(gòu)成為在所述處理室中利用一對(duì)搬送輥從上下夾著并支撐所述玻璃基板。
5.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的化學(xué)研磨裝置，其特征在于， 所述多個(gè)搬送輥構(gòu)成為在所述處理室中，隔著O型圈與所述玻璃基板接觸。
【文檔編號(hào)】C03C15/00GK104379526SQ201380021332
【公開(kāi)日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2013年5月29日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月6日
【發(fā)明者】西山榮 申請(qǐng)人:株式會(huì)社Ｎｓｃ