專利名稱：清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及清洗設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種清洗裝置。
背景技術(shù)：
隨著制造技術(shù)的日益發(fā)展，各式各樣的工件在機(jī)械加工過程中被使用，那么工件的清洗設(shè)備的使用也顯得尤為的重要?，F(xiàn)有技術(shù)中的工件清洗加工設(shè)備大多采用超聲波清洗器，但是只有清洗池底部設(shè)置有超聲波換能器，清洗效率不高，不能實現(xiàn)最佳的清洗效果O因此，急需一種改進(jìn)的技術(shù)來解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的這一問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種清洗裝置。本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
清洗裝置，包括清洗部件和能量發(fā)生部分，所述能量發(fā)生部分包括電機(jī)和超聲波發(fā)生裝置，所述清洗部件包括上蓋、清洗本體、清洗槽和待清洗工件置放處，所述清洗本體設(shè)于清洗槽外圍，所述待清洗工件置放處設(shè)于清洗槽內(nèi)，所述清洗本體內(nèi)設(shè)有固定塊，所述清洗槽活動設(shè)于固定塊上，所述清洗槽底部設(shè)有超聲波換能器，所述超聲波換能器連接超聲波發(fā)生裝置，所述清洗槽上設(shè)有加熱片，所述待清洗工件置放處為網(wǎng)格狀，所述待清洗工件置放處上放置有待清洗工件，所述清洗本體的間隙小于待清洗工件的體積。所述清洗槽頂部周邊設(shè)有溢流槽。

所述溢流槽連接設(shè)于清洗本體上的溢流出口，所述溢流出口上設(shè)有閥門。所述清洗槽上設(shè)有過熱保護(hù)裝置。所述加熱片為半導(dǎo)體加熱片。本發(fā)明的優(yōu)點是:設(shè)有加熱設(shè)備，加上超聲波清洗，使得效果達(dá)到最佳狀態(tài)，整體結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，便于推廣。


下面結(jié)合附圖和具體實施方式
對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。其中:1、電機(jī)，2、超聲波發(fā)生裝置，3、上蓋，4、清洗本體，5、清洗槽，6、待清洗工件置放處，7、固定塊，8、超聲波換能器，9、加熱片，10、待清洗工件，11、溢流槽，12、溢流出口，
13、閥門，14、過熱保護(hù)裝置。
具體實施例方式如圖1所示，本發(fā)明的清洗裝置，包括清洗部件和能量發(fā)生部分，所述能量發(fā)生部分包括電機(jī)I和超聲波發(fā)生裝置2，所述清洗部件包括上蓋3、清洗本體4、清洗槽5和待清洗工件置放處6，所述清洗本體4設(shè)于清洗槽5外圍，所述待清洗工件置放處6設(shè)于清洗槽5內(nèi)，所述清洗本體4內(nèi)設(shè)有固定塊7，所述清洗槽5活動設(shè)于固定塊7上，所述清洗槽5底部設(shè)有超聲波換能器8，所述超聲波換能器8連接超聲波發(fā)生裝置2，所述清洗槽5上設(shè)有加熱片9，所述待清洗工件置放處6為網(wǎng)格狀，所述待清洗工件置放處6上放置有待清洗工件10，所述清洗本體4的間隙小于待清洗工件10的體積，所述清洗槽5頂部周邊設(shè)有溢流槽11，所述溢流槽11連接設(shè)于清洗本體4上的溢流出口 12，所述溢流出口 12上設(shè)有閥門13，所述清洗槽5上設(shè)有過熱保護(hù)裝置14，所述加熱片9為半導(dǎo)體加熱片，設(shè)有加熱設(shè)備，力口上超聲波清洗，使得效果達(dá)到最佳狀態(tài)，整體結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，便于推廣。
權(quán)利要求
1.清洗裝置，包括清洗部件和能量發(fā)生部分，其特征在于:所述能量發(fā)生部分包括電機(jī)和超聲波發(fā)生裝置，所述清洗部件包括上蓋、清洗本體、清洗槽和待清洗工件置放處，所述清洗本體設(shè)于清洗槽外圍，所述待清洗工件置放處設(shè)于清洗槽內(nèi)，所述清洗本體內(nèi)設(shè)有固定塊，所述清洗槽活動設(shè)于固定塊上，所述清洗槽底部設(shè)有超聲波換能器，所述超聲波換能器連接超聲波發(fā)生裝置，所述清洗槽上設(shè)有加熱片，所述待清洗工件置放處為網(wǎng)格狀，所述待清洗工件置放處上放置有待清洗工件，所述清洗本體的間隙小于待清洗工件的體積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于:所述清洗槽頂部周邊設(shè)有溢流槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗裝置，其特征在于:所述溢流槽連接設(shè)于清洗本體上的溢流出口，所述溢流出口上設(shè)有閥門。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于:所述清洗槽上設(shè)有過熱保護(hù)裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于:所述加熱片為半導(dǎo)體加熱片。
全文摘要
本發(fā)明公開了清洗裝置，包括清洗部件和能量發(fā)生部分，其特征在于所述能量發(fā)生部分包括電機(jī)和超聲波發(fā)生裝置，所述清洗部件包括上蓋、清洗本體、清洗槽和待清洗工件置放處，所述清洗本體設(shè)于清洗槽外圍，所述待清洗工件置放處設(shè)于清洗槽內(nèi)，所述清洗本體內(nèi)設(shè)有固定塊，所述清洗槽活動設(shè)于固定塊上，所述清洗槽底部設(shè)有超聲波換能器，所述超聲波換能器連接超聲波發(fā)生裝置，所述清洗槽上設(shè)有加熱片，所述待清洗工件置放處為網(wǎng)格狀，所述待清洗工件置放處上放置有待清洗工件，所述清洗本體的間隙小于待清洗工件的體積。本發(fā)明的優(yōu)點是設(shè)有加熱設(shè)備，加上超聲波清洗，使得效果達(dá)到最佳狀態(tài)，整體結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，便于推廣。
文檔編號B08B3/12GK103203340SQ20131010382
公開日2013年7月17日 申請日期2013年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月28日
發(fā)明者凌強(qiáng) 申請人:凌強(qiáng)