br>[0050]2)曝光
[0051]以鉻板4作為掩膜板，鉻板上具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案，利用紫外曝光設(shè)備進(jìn)行曝光，曝光能量設(shè)定為350mJ，在曝光過程中，紫外光照射到的區(qū)域(即具有內(nèi)電極圖案的區(qū)域)發(fā)生光分解或降解反應(yīng)，使性質(zhì)發(fā)生變化，以便在顯影過程中溶于正性顯影液，未曝光的部分則被保留，形成內(nèi)電極圖案。料片曝光的示意圖如圖2所示。
[0052]3)顯影
[0053]利用自動(dòng)顯影設(shè)備對曝光后的料片顯影并烘干，顯影的正性顯影液可以采用0.4wt%的碳酸鈉溶液，顯影后鉻板上的圖案被保留在料片上，其他部分被沖洗掉，形成設(shè)計(jì)需要的初步的內(nèi)電極圖案5，形成的內(nèi)電極圖案與料片2之間存在一定的厚度差，此厚度差即印刷的感光銀漿的厚度，顯影后的料片示意圖如圖3所示。
[0054]4)旋涂感光漿料，感光漿料的配方是在制備料片的配方中添加感光劑配成，在感光漿料中感光劑的質(zhì)量百分比為3%?5%，本例中在料片的配方中添加雙丙酮丙烯酰胺，雙丙酮丙烯酰胺在感光漿料中的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為4%，感光漿料具有負(fù)向曝光性能，粘度為lOOOOCPSo
[0055]在料片2的具有初步的內(nèi)電極圖案的一面上旋涂一層均勻的厚度為12 μ m的感光漿料6并烘干。具體如下:此旋涂設(shè)備具有吸真空功能，旋涂時(shí)將料片放在旋涂平臺(tái)上并打開真空吸附，真空度的設(shè)置根據(jù)不同的旋涂設(shè)備會(huì)有不同，真空度的大小以保證料片在旋涂時(shí)不會(huì)被甩出為宜。往料片上倒上一定重量的感光漿料，開機(jī)高速旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速率>1000rpm，本例中為1500rpm，利用離心原理將感光漿料均勻涂覆在料片上，通過控制旋涂速率及時(shí)間可控制感光漿料的厚度，旋涂感光漿料后的料片示意圖如圖4所示。
[0056]5)曝光
[0057]以鉻板作為掩膜板(此掩膜板設(shè)計(jì)與感光銀漿曝光時(shí)掩膜板設(shè)計(jì)一樣)，利用紫外曝光設(shè)備進(jìn)行曝光，曝光能量設(shè)定為200mJ，在曝光過程中未被紫外光照射到的區(qū)域(即內(nèi)電極圖案區(qū)域)將在顯影過程中溶于負(fù)性顯影液，使被感光漿料覆蓋的內(nèi)電極圖案顯露出來，被曝光的部分(無內(nèi)電極圖案的空白部分)則保留下來。
[0058]6)顯影
[0059]利用自動(dòng)顯影設(shè)備對曝光后的料片顯影并烘干，顯影的負(fù)性顯影液選用0.8wt%的亞硫酸納溶液，顯影后內(nèi)電極圖案完整的顯露出來，除內(nèi)電極圖案所在的部分的其他部分則被保留，顯影后料片示意圖如圖5所示。
[0060]疊層過程是將形成完整電極后的料片通過一層一層堆疊的方式形成具有一定厚度的產(chǎn)品，疊層的要求是不同層之間形成的內(nèi)電極圖案必須在同一條豎直線上，同時(shí)為了保證不同層之間的結(jié)合強(qiáng)度，在疊層過程中需要加壓，在加壓過程中，若料片與電極之間具有一定的厚度差，一方面電極容易在受壓時(shí)變形從而與設(shè)計(jì)圖形偏差導(dǎo)致電性偏差，另一方面由于高度差，上下層之間的料片在加壓過程容易出現(xiàn)滑動(dòng)從而導(dǎo)致疊層后電極與電極之間不在同一豎直線上，也會(huì)造成與設(shè)計(jì)偏差，而本發(fā)明中由于感光漿料與感光銀漿的厚度相差很小，且感光漿料的主體配方與料片的配方相同，只是增加了感光性能，因此相對于只進(jìn)行一次感光銀漿曝光顯影的料片，但經(jīng)過感光漿料的曝光顯影，可以消除只進(jìn)行一次感光銀漿曝光顯影形成的內(nèi)電極與料片的厚度差，經(jīng)過感光漿料顯影后，料片表面平整性好，可以保證疊層過程中內(nèi)電極圖案不被壓扁同時(shí)保證疊層對位效果。
[0061]以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干等同替代或明顯變型，而且性能或用途相同，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)在干凈平整的料片的表面上印刷一層平整的感光導(dǎo)電金屬漿料并烘干； (2)利用具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案的第一掩膜板，對所述感光導(dǎo)電金屬漿料進(jìn)行紫外曝光； (3)對經(jīng)所述步驟(2)曝光后的料片顯影并烘干，在所述料片上形成初步的內(nèi)電極圖案； (4)在料片的具有初步的內(nèi)電極圖案的一面上旋涂一層均勻的感光漿料并烘干； (5)利用具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案的第二掩膜板，對所述感光漿料進(jìn)行紫外曝光; (6)對經(jīng)所述步驟(5)曝光后的料片顯影并烘干，在所述料片上形成完整的內(nèi)電極圖案。
2.如權(quán)利要求1所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:所述感光導(dǎo)電金屬漿料的粘度為10000 ±1000CPS。
3.如權(quán)利要求1所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:步驟(2)中紫外曝光的曝光能量在150-500mJ之間。
4.如權(quán)利要求1所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:步驟(5)中紫外曝光的曝光能量在100-300mJ之間。
5.如權(quán)利要求1所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:步驟(I)中的所述感光導(dǎo)電金屬漿料的厚度為10-12μπι;步驟(4)中的所述感光漿料的厚度比步驟(I)中的所述感光導(dǎo)電金屬漿料的厚度厚1-2 ym或與步驟(I)中的所述感光導(dǎo)電金屬漿料的厚度相等。
6.如權(quán)利要求1所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:所述感光漿料是在所述料片的配方中添加感光劑配成，在所述感光漿料中感光劑的質(zhì)量百分比為3%?5% ;所述感光漿料的粘度< 10000CPS。
7.如權(quán)利要求1所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:所述感光導(dǎo)電金屬漿料具有正向曝光性能，所述感光漿料具有負(fù)向曝光性能；或者所述感光導(dǎo)電金屬漿料具有負(fù)向曝光性能，所述感光漿料具有正向曝光性能。
8.如權(quán)利要求1所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:步驟(4)中的所述旋涂是在旋涂設(shè)備中進(jìn)行，所述旋涂設(shè)備的旋轉(zhuǎn)速率>1000rpm且具有吸真空功能，以保證料片在旋涂時(shí)不會(huì)被甩出。
9.如權(quán)利要求7所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:所述第一掩膜板和第二掩膜板均為鉻板。
10.如權(quán)利要求6所述的片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，其特征在于:所述感光劑為雙丙酮丙烯酰胺。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，包括如下步驟：(1)在干凈平整的料片的表面上印刷一層平整的感光導(dǎo)電金屬漿料并烘干；(2)利用具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案的第一掩膜板，對所述感光導(dǎo)電金屬漿料進(jìn)行紫外曝光；(3)對曝光后的料片顯影并烘干，在所述料片上形成初步的內(nèi)電極圖案；(4)在料片的具有初步的內(nèi)電極圖案的一面上旋涂一層均勻的感光漿料并烘干；(5)利用具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案的第二掩膜板，對所述感光漿料進(jìn)行紫外曝光；(6)對曝光后的料片顯影并烘干，在所述料片上形成完整的內(nèi)電極圖案。本發(fā)明形成的內(nèi)電極與料片之間不存在厚度差，解決了內(nèi)電極疊層過程中易導(dǎo)致的內(nèi)電極變形及疊層偏位等不良。
【IPC分類】H01G4-005, H01G4-30
【公開號】CN104681274
【申請?zhí)枴緾N201510059867
【發(fā)明人】陳先仁, 王清華, 余洪學(xué), 覃杰勇
【申請人】深圳順絡(luò)電子股份有限公司
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2015年2月4日