一種片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及片式電子元器件的制備，特別涉及一種片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，隨著科技的進(jìn)步，電子元器件得到越來(lái)越廣泛的應(yīng)用，隨著電子產(chǎn)品越來(lái)越往多功能及小體積化方向發(fā)展，對(duì)其使用的主要配件一電子元器件的體積也要求越來(lái)越小。
[0003]傳統(tǒng)的電子元器件制作內(nèi)電極的方法是采用絲網(wǎng)印刷，在料片表面形成內(nèi)電極，但是受絲網(wǎng)印刷技術(shù)的限制，制作的內(nèi)電極的最小線寬為30μ??，線寬精度要求只能達(dá)到±3μπ?，難以滿足元器件的高精度要求，而現(xiàn)有的細(xì)線條內(nèi)電極(<30μπ?)及高精度要求(線寬精度要求±lym)內(nèi)電極的制作方法是先用絲網(wǎng)印刷方式將需要印刷圖案的區(qū)域鋪滿銀漿，然后再使用紫外光配合相應(yīng)的掩膜板圖案對(duì)其固化、顯影、水洗，最后形成所需的內(nèi)電極圖案，但是該方法是在料片的表面上形成電極，電極與料片存在一定厚度差，這樣后面的疊層工序在加壓后內(nèi)電極就會(huì)有被壓變形的風(fēng)險(xiǎn)，同時(shí)由于厚度差在疊層過(guò)程中容易造成疊層偏位，會(huì)導(dǎo)致報(bào)廢損耗大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了彌補(bǔ)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提出一種片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法。
[0005]本發(fā)明的技術(shù)問(wèn)題通過(guò)以下的技術(shù)方案予以解決:
[0006]一種片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，包括如下步驟:
[0007](I)在干凈平整的料片的表面上印刷一層平整的感光導(dǎo)電金屬漿料并烘干；
[0008](2)利用具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案的第一掩膜板，對(duì)所述感光導(dǎo)電金屬漿料進(jìn)行紫外曝光；
[0009](3)對(duì)經(jīng)所述步驟(2)曝光后的料片顯影并烘干，在所述料片上形成初步的內(nèi)電極圖案；
[0010](4)在料片的具有初步的內(nèi)電極圖案的一面上旋涂一層均勻的感光漿料并烘干；
[0011](5)利用具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案的第二掩膜板，對(duì)所述感光漿料進(jìn)行紫外曝光；
[0012](6)對(duì)經(jīng)所述步驟(5)曝光后的料片顯影并烘干，在所述料片上形成完整的內(nèi)電極圖案。
[0013]優(yōu)選地:
[0014]所述感光導(dǎo)電金屬漿料的粘度為10000±1000CPS。
[0015]步驟(2)中紫外曝光的曝光能量在150-500mJ之間。
[0016]步驟(5)中紫外曝光的曝光能量在100_300mJ之間。
[0017]步驟⑴中的所述感光導(dǎo)電金屬楽料的厚度為10-12 μπι;步驟⑷中的所述感光漿料的厚度比步驟(I)中的所述感光導(dǎo)電金屬漿料的厚度厚1-2 μ m或與步驟(I)中的所述感光導(dǎo)電金屬漿料的厚度相等。
[0018]所述感光漿料是在所述料片的配方中添加感光劑配成，在所述感光漿料中感光劑的質(zhì)量百分比為3%?5% ;所述感光漿料的粘度< 10000CPS。
[0019]所述感光導(dǎo)電金屬漿料具有正向曝光性能，所述感光漿料具有負(fù)向曝光性能；或者所述感光導(dǎo)電金屬漿料具有負(fù)向曝光性能，所述感光漿料具有正向曝光性能。
[0020]步驟(4)中的所述旋涂是在旋涂設(shè)備中進(jìn)行，所述旋涂設(shè)備的旋轉(zhuǎn)速率>1000rpm且具有吸真空功能，以保證料片在旋涂時(shí)不會(huì)被甩出。
[0021]所述第一掩膜板和第二掩膜板均為鉻板。
[0022]所述感光劑為雙丙酮丙烯酰胺。
[0023]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的技術(shù)方案中，內(nèi)電極分別通過(guò)感光導(dǎo)電金屬漿料和感光漿料進(jìn)行兩次曝光顯影成型，形成的內(nèi)電極與料片之間不存在厚度差，解決了內(nèi)電極疊層過(guò)程中易導(dǎo)致的內(nèi)電極變形及疊層偏位等不良；同時(shí)經(jīng)過(guò)上述技術(shù)方案制備的內(nèi)電極能保持高精度要求，內(nèi)電極圖案最小線寬可達(dá)到15 μ m，線寬精度(即線寬極差)可控制在± I μ m，滿足片式元器件的高精度要求，本發(fā)明尤其適用于所有應(yīng)用黃光工藝成型內(nèi)電極的片式元器件行業(yè)當(dāng)中。
【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1是本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中的料片印刷感光銀漿后的示意圖；
[0025]圖2是本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中的感光銀漿曝光示意圖；
[0026]圖3是本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中的顯影后料片示意圖；
[0027]圖4是本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中的料片旋涂感光漿料后的示意圖；
[0028]圖5是本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中的感光漿料顯影后的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0029]下面對(duì)照附圖并結(jié)合優(yōu)選的實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0030]本發(fā)明提供了一種片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法，包括如下步驟:
[0031](I)在干凈平整的料片的表面上印刷一層平整的感光導(dǎo)電金屬漿料并烘干；
[0032](2)利用具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案的第一掩膜板，對(duì)所述感光導(dǎo)電金屬漿料進(jìn)行紫外曝光；
[0033](3)對(duì)經(jīng)所述步驟(2)曝光后的料片顯影并烘干，在所述料片上形成初步的內(nèi)電極圖案；
[0034](4)在料片的具有初步的內(nèi)電極圖案的一面上旋涂一層均勻的感光漿料并烘干；
[0035](5)利用具有與內(nèi)電極圖案一致的圖案的第二掩膜板，對(duì)所述感光漿料進(jìn)行紫外曝光；
[0036](6)對(duì)經(jīng)所述步驟(5)曝光后的料片顯影并烘干，在所述料片上形成完整的內(nèi)電極圖案。
[0037]在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，片式電子元器件內(nèi)電極的制備方法具體包括如下步驟:
[0038]—、制備料片
[0039](I)用球磨配料方式配制陶瓷流延漿料
[0040]將陶瓷粉、溶劑、增塑劑、分散劑按本領(lǐng)域常規(guī)的比例添加混合，用球磨機(jī)按本領(lǐng)域常規(guī)的速率旋轉(zhuǎn)攪拌分散一定時(shí)間，配制成具有一定粘度的適合流延的陶瓷流延漿料。具體的，本例中采用硼硅玻璃加氧化鋁系陶瓷粉、乙酸乙酯(溶劑)、異丙醇(溶劑)、己二酸二辛脂(增塑劑)、德國(guó)畢克公司的BYK-110分散劑按重量配比為1:0.3:0.2:0.1:0.02的比例混合，球磨機(jī)轉(zhuǎn)速為40?50r/min，球磨時(shí)間為39?4Ih。
[0041](2)流延陶瓷生帶
[0042]將配制好的陶瓷流延漿料用流延機(jī)流延在離型膜上，如PET離型膜，烘干后形成一定厚度的陶瓷生片，本例中為厚度15 μπι的陶瓷生片，形成的陶瓷生片表面光滑平整，厚度一致性好，厚度極差控制在±0.5 μ m，外觀無(wú)針孔，氣泡，劃痕等不良。
[0043](3)切斷陶瓷生片
[0044]將流延后的陶瓷生片用自動(dòng)切斷機(jī)切成一定寬度及長(zhǎng)度的料片，本例中為152*152_的料片，便于后續(xù)的印刷疊層工序的生產(chǎn)。
[0045]以上步驟(1)-(3)中制備料片的配方不限于以上列舉的，其和工藝參數(shù)均是本領(lǐng)域常規(guī)的，不再贅述。
[0046]二、制備內(nèi)電極
[0047]I)印刷感光導(dǎo)電金屬楽料
[0048]本例中感光導(dǎo)電金屬漿料采用杜邦L6127感光銀漿(以下稱為感光銀漿)，該感光銀漿具有正向曝光性能，粘度為10000 ±1000CPS。
[0049]在形成在PET離型膜I的料片2上整面印刷10 μ m厚的感光銀漿3并烘干，在印刷過(guò)程中要保證表面的平整性，及保證厚度的均勻性，印刷感光銀漿并烘干后的料片如圖1所示。<