本申請涉及晶圓檢測，特別是涉及一種氣浮導(dǎo)軌運動平臺及晶圓檢測設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、芯片的生產(chǎn)需要經(jīng)過晶圓的檢測，晶圓檢測設(shè)備對運動平臺的運動精度要求較高。目前有采用直線電機配置氣浮導(dǎo)軌進行驅(qū)動的高精度運動平臺，包括y軸直線模組和設(shè)置在y軸直線模組上的x軸直線模組，x軸直線模組的滑塊上安裝晶圓治具，由于要保證x軸直線模組有足夠的行程，x軸導(dǎo)軌為長行程的大理石氣浮導(dǎo)軌，質(zhì)量較大，形成懸臂結(jié)構(gòu)而造成導(dǎo)軌受力，導(dǎo)致外形變化，繼而影響運動平臺的正常使用。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、基于此，本申請?zhí)峁┮环N氣浮導(dǎo)軌運動平臺及晶圓檢測設(shè)備，能夠避免長行程的大理石氣浮導(dǎo)軌形成懸臂結(jié)構(gòu)，保障運動平臺正常使用。

2、本申請采用的技術(shù)方案如下:

3、一種氣浮導(dǎo)軌運動平臺，包括：大理石底座；第一y軸氣浮導(dǎo)軌，在所述大理石底座上相對設(shè)置有兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌；y軸滑塊，所述y軸滑塊的兩端一一對應(yīng)滑動安裝于兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌上；y軸直線模組，在所述大理石底座上位于兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌之間設(shè)有至少一個所述y軸直線模組，所述y軸直線模組包括y軸直線電機和設(shè)置于所述y軸直線電機一側(cè)的第二y軸氣浮導(dǎo)軌，所述y軸直線電機的動子連接所述y軸滑塊，所述y軸滑塊滑動安裝于所述第二y軸氣浮導(dǎo)軌上；x軸氣浮導(dǎo)軌，設(shè)置在所述y軸滑塊上；x軸滑塊，滑動安裝于所述x軸氣浮導(dǎo)軌上；x軸直線模組，設(shè)置在所述y軸滑塊上，所述x軸直線模組包括x軸直線電機，所述x軸直線電機的動子連接所述x軸滑塊。

4、進一步的，在所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌上設(shè)有第一氣隙組件，所述第二y軸氣浮導(dǎo)軌為大理石導(dǎo)軌，所述y軸滑塊為大理石滑塊，在所述y軸滑塊上設(shè)有第二氣隙組件，通過所述第一氣隙組件在所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌與所述y軸滑塊的端部之間形成氣隙結(jié)構(gòu)，通過所述第二氣隙組件在所述y軸滑塊與所述第二y軸氣浮導(dǎo)軌之間形成氣隙結(jié)構(gòu)。

5、進一步的，兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌對稱設(shè)置在所述大理石底座的上表面上，兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌和所述大理石底座圍成用于容納所述y軸滑塊的容納腔，在所述大理石底座的上表面上向下凹陷形成容置槽，所述y軸直線模組設(shè)置在所述容置槽內(nèi)。

6、進一步的，所述x軸氣浮導(dǎo)軌為大理石導(dǎo)軌，所述x軸滑塊上設(shè)有第三氣隙組件，通過所述第三氣隙組件在所述x軸氣浮導(dǎo)軌與所述x軸滑塊之間形成氣隙結(jié)構(gòu)。

7、進一步的，所述x軸氣浮導(dǎo)軌為中間開槽的凹形導(dǎo)軌，所述x軸直線模組設(shè)置在所述凹形導(dǎo)軌的凹槽內(nèi)，所述x軸滑塊包括上蓋板和在所述上蓋板兩端相對設(shè)置的兩側(cè)板，所述凹形導(dǎo)軌穿過所述上蓋板與兩所述側(cè)板圍成的容納腔。

8、進一步的，還包括鐵方通機架和四個氣浮彈簧，所述氣浮彈簧連接有調(diào)節(jié)閥，四個所述氣浮彈簧一一對應(yīng)設(shè)置在所述鐵方通機架上端的四個角位處，所述大理石底座安裝于四個所述氣浮彈簧上。

9、進一步的，在所述鐵方通機架上端位于所述氣浮彈簧的旁側(cè)設(shè)有反向腳撐。

10、進一步的，在所述鐵方通機架下端的四個角位處均設(shè)有可調(diào)節(jié)腳撐和滑輪。

11、一種晶圓檢測設(shè)備,包括上述任一項所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺。

12、進一步的，還包括大理石立柱及用于驅(qū)動檢測單元在z軸上移動的z軸直線模組，所述大理石立柱設(shè)置在所述大理石底座上并位于兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌的一側(cè)，所述z軸直線模組包括z軸直線電機、z軸氣浮導(dǎo)軌及z軸滑塊，所述z軸氣浮導(dǎo)軌和所述z軸直線電機安裝于所述大理石立柱上，所述z軸滑塊滑動安裝于所述z軸氣浮導(dǎo)軌上，所述z軸直線電機的動子連接所述z軸滑塊；所述z軸氣浮導(dǎo)軌為大理石導(dǎo)軌，所述z軸滑塊上設(shè)有第四氣隙組件，通過所述第四氣隙組件在所述z軸氣浮導(dǎo)軌和所述z軸滑塊之間形成氣隙結(jié)構(gòu)。

13、本申請的氣浮導(dǎo)軌運動平臺，通過設(shè)置兩第一y軸氣浮導(dǎo)軌和在兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌之間設(shè)置至少一個y軸直線模組，y軸滑塊的兩端一一對應(yīng)滑動安裝于兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌上，并且y軸滑塊滑動安裝于y軸直線模組的第二y軸氣浮導(dǎo)軌上，因此在x軸氣浮導(dǎo)軌較長時能避免y軸滑塊形成懸臂結(jié)構(gòu)，保障運動平臺正常使用。

技術(shù)特征：

1.一種氣浮導(dǎo)軌運動平臺，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺，其特征在于，在所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌上設(shè)有第一氣隙組件，所述第二y軸氣浮導(dǎo)軌為大理石導(dǎo)軌，所述y軸滑塊為大理石滑塊，在所述y軸滑塊上設(shè)有第二氣隙組件，通過所述第一氣隙組件在所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌與所述y軸滑塊的端部之間形成氣隙結(jié)構(gòu)，通過所述第二氣隙組件在所述y軸滑塊與所述第二y軸氣浮導(dǎo)軌之間形成氣隙結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺，其特征在于，兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌對稱設(shè)置在所述大理石底座的上表面上，兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌和所述大理石底座圍成用于容納所述y軸滑塊的容納腔，在所述大理石底座的上表面上向下凹陷形成容置槽，所述y軸直線模組設(shè)置在所述容置槽內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺，其特征在于，所述x軸氣浮導(dǎo)軌為大理石導(dǎo)軌，所述x軸滑塊上設(shè)有第三氣隙組件，通過所述第三氣隙組件在所述x軸氣浮導(dǎo)軌與所述x軸滑塊之間形成氣隙結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺，其特征在于，所述x軸氣浮導(dǎo)軌為中間開槽的凹形導(dǎo)軌，所述x軸直線模組設(shè)置在所述凹形導(dǎo)軌的凹槽內(nèi)，所述x軸滑塊包括上蓋板和在所述上蓋板兩端相對設(shè)置的兩側(cè)板，所述凹形導(dǎo)軌穿過所述上蓋板與兩所述側(cè)板圍成的容納腔。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺，其特征在于，還包括鐵方通機架和四個氣浮彈簧，所述氣浮彈簧連接有調(diào)節(jié)閥，四個所述氣浮彈簧一一對應(yīng)設(shè)置在所述鐵方通機架上端的四個角位處，所述大理石底座安裝于四個所述氣浮彈簧上。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺，其特征在于，在所述鐵方通機架上端位于所述氣浮彈簧的旁側(cè)設(shè)有反向腳撐。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺，其特征在于，在所述鐵方通機架下端的四個角位處均設(shè)有可調(diào)節(jié)腳撐和滑輪。

9.一種晶圓檢測設(shè)備,其特征在于，包括如權(quán)利要求1至8任一項所述的氣浮導(dǎo)軌運動平臺。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種晶圓檢測設(shè)備,其特征在于，還包括大理石立柱及用于驅(qū)動檢測單元在z軸上移動的z軸直線模組，所述大理石立柱設(shè)置在所述大理石底座上并位于兩所述第一y軸氣浮導(dǎo)軌的一側(cè)，所述z軸直線模組包括z軸直線電機、z軸氣浮導(dǎo)軌及z軸滑塊，所述z軸氣浮導(dǎo)軌和所述z軸直線電機安裝于所述大理石立柱上，所述z軸滑塊滑動安裝于所述z軸氣浮導(dǎo)軌上，所述z軸直線電機的動子連接所述z軸滑塊；所述z軸氣浮導(dǎo)軌為大理石導(dǎo)軌，所述z軸滑塊上設(shè)有第四氣隙組件，通過所述第四氣隙組件在所述z軸氣浮導(dǎo)軌和所述z軸滑塊之間形成氣隙結(jié)構(gòu)。

技術(shù)總結(jié)
本申請涉及一種氣浮導(dǎo)軌運動平臺及晶圓檢測設(shè)備，氣浮導(dǎo)軌運動平臺包括：大理石底座；第一Y軸氣浮導(dǎo)軌，在大理石底座上相對設(shè)置有兩第一Y軸氣浮導(dǎo)軌；Y軸滑塊，兩端對應(yīng)滑動安裝于兩第一Y軸氣浮導(dǎo)軌上；Y軸直線模組，在兩第一Y軸氣浮導(dǎo)軌之間設(shè)有至少一個Y軸直線模組，Y軸直線模組包括Y軸直線電機和第二Y軸氣浮導(dǎo)軌，Y軸直線電機的動子連接Y軸滑塊，Y軸滑塊滑動安裝于第二Y軸氣浮導(dǎo)軌；X軸氣浮導(dǎo)軌，設(shè)置在Y軸滑塊上；X軸滑塊，滑動安裝于X軸氣浮導(dǎo)軌；X軸直線模組，設(shè)置在Y軸滑塊上，包括X軸直線電機，X軸直線電機的動子連接X軸滑塊。本申請在X軸氣浮導(dǎo)軌較長時能避免Y軸滑塊形成懸臂結(jié)構(gòu)，保障運動平臺正常使用。

技術(shù)研發(fā)人員：周盈,熊清平,羅勇發(fā),潘權(quán),關(guān)勝敏
受保護的技術(shù)使用者：深圳華中數(shù)控有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240430
技術(shù)公布日：2025/1/6