本技術(shù)涉及石英花籃，特別是一種帶插桿的石英花籃。

背景技術(shù)：

1、濕法刻蝕工藝時裝裝載著晶圓片一同在溶液內(nèi)進行工藝的石英裝置，通常情況下叫做“石英花籃”，目前晶圓片在花籃的擺放是垂直于液面的。

2、進行王水濕法腐蝕工藝時，由于王水加熱時是通過對裝有王水溶液的石英缸的底部外壁用電加熱器加熱，這樣會導(dǎo)致石英缸內(nèi)的不同液面的溫度及狀態(tài)會有所差異。王水又極易揮發(fā)，會使不同液面深度的濃度會有微量差異。這樣用垂直放置晶圓片的花籃垂直放置晶圓片后浸泡在腐蝕液中，因濃度及溫度的差異，垂直放置晶圓片工藝后，用顯微鏡觀察發(fā)現(xiàn)液面高度不同腐蝕的效果有微量差異。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請?zhí)峁┮环N帶插桿的石英花籃，通過石英花籃的第一放置槽和第二放置槽水平放置晶圓片，從而改善腐蝕晶圓片，片內(nèi)不均的問題。通過插桿與第一插孔和第二插孔的設(shè)置阻擋在晶圓片邊緣進一步保證了晶圓片不會滑落。

2、本申請?zhí)峁┤缦录夹g(shù)方案，一種帶插桿的石英花籃，包括花籃本體和插桿，所述花籃本體包括底座、兩根第一立柱、兩根第二立柱、頂部連接件和提手，所述底座具有第一插孔；底座連接第一立柱和第二立柱的一端；第一立柱和第二立柱的另一端連接頂部連接件，所述頂部連接件包括第二插孔；所述頂部連接件上連接提手；第一立柱具有若干第一放置槽，第二立柱具有若干第二放置槽，第一放置槽與第二放置槽成組設(shè)置，第一放置槽與第二放置槽的中心連線與底座平面的角度為4-6°，所述插桿插入安裝第一插孔和第二插孔內(nèi)，插桿的橫截面形狀與第一插孔和第二插孔的橫截面形狀相同。

3、進一步地，第一插孔和第二插孔在一條直線上。從而，使得插桿沿一直線插入第一插孔和第二插孔。

4、進一步地，插桿的橫截面形狀為圓形或方形或三角形。在某些實施例中，插桿的橫截面形狀為還可以為其他常見或不常見形狀，包括長方形，橢圓形，梯形，正多邊形等。

5、本申請的石英花籃采用石英制作。

6、本申請的有益效果在于：

7、（1）水平放置晶圓片可以使晶圓片的各點基本上都在一個水平面上，提高了產(chǎn)品的各點的片內(nèi)均勻性，在加工片量少時可以減少腐蝕液體的用量，因為在濕法工藝時腐蝕液體要把晶圓片全部浸泡在其中，晶圓片水平放置比垂直放置，高度會大大降低，這樣水平放晶圓片浸泡時用的腐蝕液體的量會減少很多。腐蝕液減少了，加熱時間也減少了，這樣還可以提高生產(chǎn)效率。

8、（2）通過成組設(shè)置的第一放置槽與第二放置槽，使得晶圓能夠穩(wěn)固地放置于石英花籃，通過第一放置槽與第二放置槽的中心連線的角度為4-6°的設(shè)置，晶圓略微向上抬起，在重力的作用下，產(chǎn)生一個頂住第一放置槽與第二放置槽的力，使得晶圓不易從第一放置槽與第二放置槽中滑出。

9、（3）通過插桿與第一插孔和第二插孔的設(shè)置阻擋在晶圓片邊緣進一步保證了晶圓片不會滑落，同時，插桿與第一插孔和第二插孔的配合安裝穩(wěn)固。

技術(shù)特征：

1.一種帶插桿的石英花籃，其特征在于，包括花籃本體和插桿，所述花籃本體包括底座、兩根第一立柱、兩根第二立柱、頂部連接件和提手，所述底座具有第一插孔；底座連接第一立柱和第二立柱的一端；第一立柱和第二立柱的另一端連接頂部連接件，所述頂部連接件包括第二插孔；所述頂部連接件上連接提手；第一立柱具有若干第一放置槽，第二立柱具有若干第二放置槽，第一放置槽與第二放置槽成組設(shè)置，第一放置槽與第二放置槽的中心連線與底座平面的角度為4-6°，所述插桿插入安裝第一插孔和第二插孔內(nèi)，插桿的橫截面形狀與第一插孔和第二插孔的橫截面形狀相同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英花籃，其特征在于，第一插孔和第二插孔在一條直線上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英花籃，其特征在于，插桿的橫截面形狀為圓形或方形或三角形。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種帶插桿的石英花籃，包括花籃本體和插桿，花籃本體包括底座、兩根第一立柱、兩根第二立柱、頂部連接件和提手，底座具有第一插孔；底座連接第一立柱和第二立柱的一端；第一立柱和第二立柱的另一端連接頂部連接件，頂部連接件包括第二插孔；頂部連接件上連接提手；第一立柱具有若干第一放置槽，第二立柱具有若干第二放置槽，第一放置槽與第二放置槽成組設(shè)置，第一放置槽與第二放置槽的中心連線與底座平面的角度為4?6°。通過石英花籃的第一放置槽和第二放置槽水平放置晶圓片，從而改善腐蝕晶圓片，片內(nèi)不均的問題。通過插桿與第一插孔和第二插孔的設(shè)置阻擋在晶圓片邊緣進一步保證了晶圓片不會滑落。

技術(shù)研發(fā)人員：張占龍,耿已昌,楊爽
受保護的技術(shù)使用者：杭州致善微電子科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240428
技術(shù)公布日：2024/12/26