技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種蝕刻電極裝置，包括至少一個電極本體，電極本體的內(nèi)部設(shè)有冷卻通道，冷卻通道包括入水口和出水口；支撐框體，電極本體設(shè)于支撐框體內(nèi)，支撐框體設(shè)有至少一個第一安裝孔和至少一個第二安裝孔；輸液機(jī)構(gòu)，輸液機(jī)構(gòu)包括第一輸液組件和第二輸液組件，第一輸液組件穿設(shè)于第一安裝孔、并與入水口連通，第二輸液組件穿設(shè)于第二安裝孔、并與出水口連通；及冷卻液供給裝置，冷卻液供給裝置與第一輸液組件、第二輸液組件管路連接。因而通過冷卻液在電極本體內(nèi)部的冷卻通道內(nèi)循環(huán)流動，可以有效降低氣體電離撞擊電極而產(chǎn)生的熱量，進(jìn)而確保產(chǎn)品蝕刻均勻性好，蝕刻速度高，保證產(chǎn)品較佳的加工質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：趙公魄;趙芝強(qiáng);丁雪苗
受保護(hù)的技術(shù)使用者：珠海寶豐堂電子科技有限公司
文檔號碼：201710012092
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.06
技術(shù)公布日：2017.05.17