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一種頂發(fā)射顯示發(fā)光器件及其制備方法與流程

文檔序號:12612980閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,包括基板、位于基板上的像素電極、位于基板上的輔助電極、以及位于基板上用于分隔像素電極和輔助電極的像素bank,所述像素bank覆蓋像素電極邊緣區(qū)域以及輔助電極邊緣區(qū)域,所述輔助電極邊緣區(qū)域的像素bank形成倒角狀的tape角,所述輔助電極上方依次設(shè)置有功能層和頂電極,所述像素電極上方依次設(shè)置有發(fā)光層、功能層和頂電極,且倒角狀的tape角下端的輔助電極與其上方的頂電極相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,所述像素電極邊緣區(qū)域的像素bank的tape角為30-60°。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,所述輔助電極邊緣區(qū)域的像素bank的tape角大于90°。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,所述發(fā)光層為聚合物發(fā)光層或小分子發(fā)光層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,所述功能層依次包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子阻擋層以及激子阻擋層;或者,所述功能層依次包括電子注入層、電子傳輸層、空穴阻擋層以及激子阻擋層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,所述像素電極包括反射金屬薄薄與位于反射金屬薄膜上方的透明導(dǎo)電薄膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,所述反射金屬薄薄為Al、Ag或其合金。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,所述透明導(dǎo)電薄膜為ITO或IZO。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件,其特征在于,所述基板為剛性基板或柔性基板。

10.一種如權(quán)利要求1所述的頂發(fā)射顯示發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,包括步驟:

A、提供一基板,并在基板上制作圖案化的像素電極以及輔助電極;

B、在基板上制作像素bank,所述像素bank覆蓋像素電極邊緣區(qū)域以及輔助電極邊緣區(qū)域,其中,輔助電極邊緣區(qū)域的像素bank成倒角狀的tape角;

C、在像素電極上沉積發(fā)光層;

D、在顯示區(qū)域蒸鍍功能層;

E、最后采用ALD工藝沉積頂電極,且倒角狀的tape角下端的輔助電極與其上方的頂電極相連。

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