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頂發(fā)光器件及其制備方法與流程

文檔序號:12613025閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種頂發(fā)光器件,包括陰極層及位于陰極層上的耦合輸出層,其特征在于,所述耦合輸出層包括由第一材料構成的第一耦合輸出層和由第二材料構成的第二耦合輸出層,所述陰極層、第一耦合輸出層以及第二耦合輸出層依次層疊,且所述第一材料的折射率大于所述第二材料的折射率。

2.根據(jù)權利要求1所述的頂發(fā)光器件,其特征在于,所述頂發(fā)光器件還包括依次層疊的基板、陽極層、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、空穴阻擋層以及電子傳輸層,所述陰極層位于所述電子傳輸層上。

3.根據(jù)權利要求1所述的頂發(fā)光器件,其特征在于,所述第一材料的折射率為1.7-2.0,所述第二材料的折射率為1.2-1.5。

4.根據(jù)權利要求3所述的頂發(fā)光器件,其特征在于,所述第一材料和所述第二材料具有不相容性。

5.根據(jù)權利要求4所述的頂發(fā)光器件,其特征在于,所述第一材料包括金屬螯合物,所述第二材料選自聚丙烯酸類、聚苯乙烯類、聚酯類、N,N-雙(α-萘基-苯基)-4,4-聯(lián)苯二胺及N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)-1,1'-聯(lián)苯-4,4'-二胺中的至少一種。

6.一種頂發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,包括步驟:

將第一材料和第二材料在溶劑中溶解,形成溶液,其中,所述第一材料和所述第二材料不相容,在所述溶液中,所述第一材料的濃度達到所述第一材料的飽和濃度,所述第二材料的濃度低于所述第二材料的飽和濃度,且所述第一材料的折射率大于所述第二材料的折射率;

采用噴墨打印的方式將所述溶液噴在陰極層的表面,在所述陰極層表面上依次形成由所述第一材料構成第一耦合輸出層和由所述第二材料構成的第二耦合輸出層。

7.根據(jù)權利要求6所述的頂發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,所述第二材料在所述溶劑中的溶解度大于所述第一材料在所述溶劑中的溶解度。

8.根據(jù)權利要求6所述的頂發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,所述溶劑為沸點在100℃以上的有機溶劑。

9.根據(jù)權利要求6所述的頂發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,所述溶劑 為第一溶劑與第二溶劑的混合物,所述第一溶劑的沸點在100℃以上,所述第二溶劑的沸點為60-100℃,所述第一溶劑與所述第二溶劑的體積比1:9-1:6。

10.根據(jù)權利要求6所述的頂發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,所述溶劑為第三溶劑、第四溶劑及第五溶劑的混合物,所述第三溶劑的沸點在100℃以上,所述第四溶劑的沸點為60-100℃,所述第五溶劑為丙酮、氯乙烷或N-甲基吡咯烷酮,按照體積百分數(shù),所述第三溶劑、所述第四溶劑以及所述第五溶劑的含量分別為60%-70%、20%-30%以及0-10%。

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