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一種MoS2薄膜晶體管的制作方法與工藝

文檔序號:12013584閱讀:來源:國知局
一種MoS2薄膜晶體管的制作方法與工藝

技術(shù)特征:
1.一種MoS2薄膜晶體管,由SiO2層作為下層基底層、MoS2薄膜作為中間的溝道層和HfO2層作為上層?xùn)沤橘|(zhì)層而構(gòu)成,SiO2層的折射率為n′,HfO2層的折射率n″,其特征是SiO2層厚度d1=lλ/(2×n′),HfO2層的厚度d2=mλ/2n″,其中λ為透射光的波長,l和m為正整數(shù);所述λ取紅光波長、綠光波長或藍(lán)光波長;采用單層石墨烯做MoS2薄膜晶體管的電極。
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