本發(fā)明涉及用于將加工工具相對于工件定位的一種裝置和一種方法。

背景技術(shù)：
在用于制造和/或檢查半導(dǎo)體器件的機(jī)器中經(jīng)常存在將加工工具相對于工件精確定位的要求。因此例如可能需要將晶片形式的工件高精度地定位在工具下方。在圖1中以非常示意性的形式示出了相應(yīng)的裝置。晶片或者說工件WS在此布置在機(jī)器的第一目標(biāo)O1上、即工作臺(tái)上。在第一目標(biāo)O1上還設(shè)置有目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1；其例如可以設(shè)計(jì)為工作臺(tái)中的圓形凹形部或設(shè)計(jì)為平版印刷制成的、在固定在工作臺(tái)上的板上的微結(jié)構(gòu)。在定位在第一目標(biāo)O1上的工件WS、或者晶片上，還布置有例如設(shè)計(jì)為局部受限的微結(jié)構(gòu)的工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2。在機(jī)器中設(shè)置第二目標(biāo)O2、即相應(yīng)的機(jī)器部分，其與第一目標(biāo)O1相比相對地在至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向x上能運(yùn)動(dòng)。例如可以這樣確保在兩個(gè)目標(biāo)O1，O2之間的相對能運(yùn)動(dòng)性，即目標(biāo)O1在工作臺(tái)的當(dāng)前實(shí)例中至少沿著運(yùn)動(dòng)方向x能運(yùn)動(dòng)地布置；第二目標(biāo)O2與此相對地靜止布置。在第二目標(biāo)O2上設(shè)置有加工工具B以及校準(zhǔn)傳感器W。通過加工工具B可以在制造過程期間加工或檢驗(yàn)工件。校準(zhǔn)傳感器W例如設(shè)計(jì)為具有電子圖像傳感器的顯微鏡或攝像機(jī)。通過校準(zhǔn)傳感器W可以探測目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1和工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2。這就是說，在校準(zhǔn)傳感器W的位置沿著運(yùn)動(dòng)方向x與目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1或工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的位置對應(yīng)一致的情況下，通過校準(zhǔn)傳感器W可產(chǎn)生相應(yīng)的校準(zhǔn)信號。校準(zhǔn)信號然后可以為了進(jìn)一步加工而傳輸給布置在后面的-在圖1中未示出的-控制單元。通過附加的、在圖1中未示出的傳感器，在加工工具B的位置沿著運(yùn)動(dòng)方向x與目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1的位置對應(yīng)一致時(shí)，還可產(chǎn)生另一個(gè)校準(zhǔn)信號。這例如可以這樣實(shí)現(xiàn)，即在目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1的方面同樣布置有帶有電子圖像傳感器的顯微鏡或攝像機(jī)。如果加工工具B發(fā)出射束，則相應(yīng)的射束探測器可以用作傳感器，其探測由目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1反射、發(fā)射或散射的射束。相反地，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1也可以發(fā)出射束，射束可以通過加工工具B中的射束探測器來探測。對此可替換地，為了產(chǎn)生這樣的校準(zhǔn)信號也可以通過電接觸電流或適合的力傳感器來探測在加工工具B和目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1之間的機(jī)械接觸。為了確定在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對位置，在第二目標(biāo)O2上設(shè)置了例如可光學(xué)掃描的整體量具S，其沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向x延伸。該整體量具S在此可以例如設(shè)計(jì)為已知的入射光-衍射光柵。在第一目標(biāo)O1方面，為了掃描整體量具S而布置了光學(xué)位置測量裝置的掃描單元E。該掃描單元E例如可以包括光源、多個(gè)光學(xué)元件和探測裝置，以便對此以已知的方式和方法，例如通過干涉的掃描原理，為布置在后面的控制單元產(chǎn)生在第一和第二目標(biāo)O1，O2的相對位置方面的高精度的位置信號。當(dāng)通過加工工具B進(jìn)行工件加工時(shí)，現(xiàn)在需要的是，高精度地相對于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2確定加工工具B的位置。因?yàn)椴荒芟鄬τ诠ぜ?zhǔn)標(biāo)記M2產(chǎn)生用于直接對加工工具B校準(zhǔn)的位置信號，因此必須通過一系列的單獨(dú)的校準(zhǔn)步驟實(shí)現(xiàn)這種確定。因此借助于目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1需要加工工具B相對于第一目標(biāo)O1的定位。此外必須借助于目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1進(jìn)行校準(zhǔn)傳感器W在第一目標(biāo)O1方面的定位。并且最后有必要借助于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2進(jìn)行校準(zhǔn)傳感器W在工件WS方面的定位。在該校準(zhǔn)步驟的各種不同的機(jī)器狀態(tài)中以及在后續(xù)的本來的處理過程期間，光學(xué)位置測量裝置的掃描單元E掃描整體量具S的區(qū)域，這些區(qū)域在圖1中具有參考標(biāo)號RA，RB，RC和RD。如由附圖顯而易見的是，該區(qū)域沿著運(yùn)動(dòng)方向x位于被掃描的整體量具S的相對大幅度分開的部分上。因此例如，區(qū)域RC和RD的距離粗略地相應(yīng)于在加工工具B和校準(zhǔn)傳感器W之間的距離的數(shù)量級，這是因?yàn)楣ぜS的加工在工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的附近利用加工工具B進(jìn)行。但加工工具B與校準(zhǔn)傳感器W的間隔為利用該校準(zhǔn)傳感器可以在上述第三步驟中檢測工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2。在對加工工具B定位時(shí)因此必須計(jì)算測量誤差，其由大約長度的整體量具部段的變形得出。圖2示出了應(yīng)用的整體量具S的現(xiàn)有的長波變形的示例性附圖。此外，類似的偏差也在整體量具S未與加工工具B對中心布置(-誤差)時(shí)通過機(jī)器導(dǎo)向誤差形成。在圖3中示出了根據(jù)上面說明的措施在應(yīng)用這種整體量具S的情況下得出的在各種不同的機(jī)器位置中的定位誤差或測量不安全性△xrel。如由該附圖顯而易見的是，相應(yīng)的測量不安全性△xrel在決定性的位置xrel＝0的周圍環(huán)境中是顯著的；xrel在此表明加工位置與工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的距離。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的因此在于，給出用于對加工工具相對于工件定位的一種裝置和一種方法，通過其確保了對加工工具的高精度的定位并且特別是最小化或避免了測量誤差，該測量誤差由在此應(yīng)用的整體量具的誤差產(chǎn)生。該目的根據(jù)一種裝置來實(shí)現(xiàn)。此外該目的根據(jù)一種方法來實(shí)現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的用于對加工工具相對于工件定位的裝置包括第一目標(biāo)，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件布置在第一目標(biāo)上，其中在工件上布置有工件校準(zhǔn)標(biāo)記。此外，該裝置還包括第二目標(biāo)，其相對于第一目標(biāo)沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向能運(yùn)動(dòng)地布置。在第二目標(biāo)上布置有加工工具，通過加工工具能探測目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記。此外在其上還布置有校準(zhǔn)傳感器，通過校準(zhǔn)傳感器能探測目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件校準(zhǔn)標(biāo)記。此外在第二目標(biāo)上布置有能掃描的整體量具，其沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向延伸。在第一目標(biāo)上布置有至少兩個(gè)用于對整體量具進(jìn)行掃描的掃描單元，以便這樣沿著運(yùn)動(dòng)方向確定在第一和第二目標(biāo)之間的相對位置，其中，兩個(gè)掃描單元具有定義的偏差。在此可能的是，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差選擇為與在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離近似相同。此外，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差可以選擇為與在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離相同。有利的是，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差滿足條件或條件其中，＝在兩個(gè)掃描單元之間的偏差，在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離。可以提出，為了確定沿著運(yùn)動(dòng)方向在第一和第二目標(biāo)之間的相對位置，掃描單元設(shè)計(jì)為能選擇性激活的。目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和/或工件校準(zhǔn)標(biāo)記可以設(shè)計(jì)為微結(jié)構(gòu)?？赡艿氖?，整體量具設(shè)計(jì)為線柵距(Linearteilung)或角柵距(Winkelteilung)或二維的交叉柵距(Kreuzgitterteilung)。在根據(jù)本發(fā)明的、用于將加工工具相對于工件定位的方法的范疇中提出，在第一目標(biāo)上布置有目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件，并且在工件上布置有工件校準(zhǔn)標(biāo)記。第二目標(biāo)相對于第一目標(biāo)沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向能運(yùn)動(dòng)地布置。在第二目標(biāo)上布置有加工工具，通過加工工具探測目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記。此外在其上布置有校準(zhǔn)傳感器，通過其能探測目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件校準(zhǔn)標(biāo)記。此外在第二目標(biāo)上布置有能掃描的整體量具，整體量具沿著至少一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向延伸。在第一目標(biāo)上布置有至少兩個(gè)用于對整體量具掃描的掃描單元，通過掃描單元沿著運(yùn)動(dòng)方向確定在第一和第二目標(biāo)之間的相對位置，并且其中，兩個(gè)掃描單元具有定義的偏差。在此可能的是，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差選擇為與在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離近似相同。此外可以提出，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差選擇為與在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離相同。在一個(gè)有利的實(shí)施方式中，在兩個(gè)掃描單元之間的偏差根據(jù)條件或根據(jù)條件來選擇，其中，＝在兩個(gè)掃描單元之間的偏差，在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的距離。可以提出，為了確定在第一和第二目標(biāo)之間的相對位置，可選地將兩個(gè)掃描單元中的僅僅一個(gè)激活。在根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)變體中，在一個(gè)方法步驟中，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記隨加工工具移動(dòng)，并且在此借助于第一掃描單元檢測的、在第一和第二目標(biāo)之間的相對位置被記錄。在另一個(gè)方法步驟中，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記隨校準(zhǔn)傳感器移動(dòng)，并且在此借助于第二掃描單元檢測的、在第一和第二目標(biāo)之間的相對位置被記錄；在另一個(gè)方法步驟中，工件校準(zhǔn)標(biāo)記隨校準(zhǔn)傳感器移動(dòng)，并且在此借助于第二掃描單元檢測的、在第一和第二目標(biāo)之間的相對位置被記錄。三個(gè)不同的方法步驟的順序能任意選擇。在根據(jù)本發(fā)明的方法的該變體中，因此基于前述三個(gè)方法步驟的測量，在利用加工工具加工工件期間，在工件校準(zhǔn)標(biāo)記的周圍環(huán)境中進(jìn)行對第一目標(biāo)相對于第二目標(biāo)的定位。作為根據(jù)本發(fā)明的解決方法的特別的優(yōu)點(diǎn)提出，現(xiàn)在為了精確地對加工工具相對于工件定位而無需再掃描為了確定位置而使用的整體量具的相對較大的范圍。與此相對地，通過根據(jù)本發(fā)明的至少兩個(gè)掃描單元的掃描限制在整體量具的較小的、空間上狹窄受限的區(qū)域上。因此僅僅整體量具在該空間受限的區(qū)域中的不準(zhǔn)確性對于位置確定的精確度來說是重要的。該區(qū)域的擴(kuò)展因此基本取決于被加工的工件面。總體上說，在確定位置時(shí)以及基于此的、加工工具和工件的相對定位時(shí)，因此得出明顯較小的誤差。因此根據(jù)精確度要求可以省去對使用的整體量具的耗費(fèi)成本的校準(zhǔn)。此外，各個(gè)機(jī)器的熱穩(wěn)定性可以簡單地設(shè)計(jì)，這是因?yàn)橥ㄟ^熱膨脹引起的測量誤差在整體量具的被掃描的區(qū)域的較小尺寸的內(nèi)部可以被忽略。在被掃描的區(qū)域之間的熱膨脹基于根據(jù)本發(fā)明的對至少兩個(gè)間隔開的掃描單元的使用，在不同的方法步驟中不再重要。附圖說明本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)以及細(xì)節(jié)由以下根據(jù)附圖對實(shí)施例的說明得出。在此示出：圖1是用于說明現(xiàn)有技術(shù)的第一個(gè)示意圖；圖2是整體量具的存在的長波變形的示例性附圖；圖3是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的措施在不同的位置上得出的定位誤差的附圖；圖4-7是在應(yīng)用根據(jù)本發(fā)明的裝置的情況下的各個(gè)方法步驟；圖8是在應(yīng)用根據(jù)本發(fā)明的裝置的情況下在采取措施時(shí)在不同的位置上得出的定位誤差的附圖。具體實(shí)施方式在圖4-6中示出了在開頭所述的不同的校準(zhǔn)-或定位步驟中的根據(jù)本發(fā)明的裝置，其在真正的加工階段之前為了校準(zhǔn)目的被執(zhí)行。圖7示出了其中實(shí)現(xiàn)真正的工件加工的階段。只要未在下面明確地提及不同參考標(biāo)號的其它含義，則其就相應(yīng)于開頭說明的圖1的參考標(biāo)號。根據(jù)圖4-7以下說明根據(jù)本發(fā)明的裝置的以及根據(jù)本發(fā)明的方法的實(shí)施例。本發(fā)明的基本觀點(diǎn)在于，不同于開頭討論的現(xiàn)有技術(shù)，現(xiàn)在在第一目標(biāo)O1上布置至少兩個(gè)用于對整體量具S進(jìn)行掃描的掃描單元E1，E2，以便這樣高精度地確定沿著運(yùn)動(dòng)方向x在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對位置。在示出的實(shí)施例中提出對整體量具S進(jìn)行高分辨率的光學(xué)掃描，例如通過干涉的掃描原理。兩個(gè)掃描單元E1，E2在此具有定義選擇的偏差這如由圖4-7的圖示中表明的那樣；在示出的實(shí)施例中，偏差沿著運(yùn)動(dòng)方向x延伸。在兩個(gè)掃描單元E1，E2之間的偏差根據(jù)本發(fā)明選擇為與在加工工具B和校準(zhǔn)傳感器W之間的距離近似相同；在一個(gè)可能的實(shí)施方式中甚至是完全相同的。原則上，對于在兩個(gè)掃描單元E1，E2之間的沿著運(yùn)動(dòng)方向x的偏差證明為有利的是，根據(jù)條件來選擇該偏差，其中，＝在兩個(gè)掃描單元之間的沿著運(yùn)動(dòng)方向的偏差，＝在加工工具和校準(zhǔn)傳感器之間的沿著運(yùn)動(dòng)方向的距離。在一個(gè)有利的實(shí)施方式中例如選擇由于應(yīng)用了在第一目標(biāo)O1上具有定義的偏差的至少兩個(gè)掃描單元E1，E2，如以下根據(jù)對圖4-8的說明詳細(xì)描述的那樣，因此可以在位置確定時(shí)顯著減小開頭所述的測量誤差，該測量誤差是由于被掃描的整體量具S的可能存在的變形而產(chǎn)生的。第一校準(zhǔn)步驟V1在真實(shí)的工件加工之前借助于根據(jù)本發(fā)明的裝置在圖4中示出。在此，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1隨加工工具B移動(dòng)，借助于第一掃描單元E1檢測在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對位置，并且由-未示出的控制單元-記錄。如在圖4中通過在第一掃描單元E1和整體量具S之間的虛線連接說明了，在該步驟中為了確定位置，通過第一掃描單元E1對整體量具S的以R1表示的第一區(qū)域進(jìn)行掃描。在圖5中示出了另一個(gè)校準(zhǔn)步驟V2。在此，目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記M1隨校準(zhǔn)傳感器W移動(dòng)，借助于第二掃描單元E2檢測在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對位置，并且由控制單元記錄。第二掃描單元E2在該階段中如顯而易見的那樣在整體量具S上同樣掃描以R1表示的第一區(qū)域、即和前面校準(zhǔn)步驟中一樣的區(qū)域。借助于根據(jù)本發(fā)明的裝置的第三校準(zhǔn)步驟V3在圖6中示出?，F(xiàn)在，工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2隨校準(zhǔn)傳感器W移動(dòng)，借助于第二掃描單元E2檢測在第一目標(biāo)O1和第二目標(biāo)O2之間的相對位置，并且由控制單元記錄。如由圖6顯而易見的，通過第二掃描單元E2在該方法步驟中實(shí)現(xiàn)了在整體量具S上對第二區(qū)域R2的掃描。在此處需要指出的是，這三個(gè)用于校準(zhǔn)目的的方法步驟V1-V3無需在真實(shí)的工件加工之前強(qiáng)制性地以所述的順序進(jìn)行；更確切地說，這些方法步驟也可以采用另一種順序。在圖7中最后說明了在校準(zhǔn)步驟V1-V3之后的工件加工。在此通過加工工具B對工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2附近的工件WS進(jìn)行加工。在該階段中如圖中示出的借助于第一掃描單元E1實(shí)現(xiàn)了位置確定，該第一掃描單元現(xiàn)在掃描了在整體量具S上的第二區(qū)域R2。在該實(shí)施例的不同方法步驟中分別將兩個(gè)掃描單元E1，E2中的僅僅一個(gè)用于位置確定。這就是說，由上一級的控制單元分別激活兩個(gè)掃描單元E1，E2中的僅僅一個(gè)。因此兩個(gè)掃描單元E1，E2設(shè)計(jì)為能選擇性激活的。如由借助于根據(jù)本發(fā)明的裝置的不同的方法步驟所說明的那樣，利用兩個(gè)掃描單元E1，E2對使用的整體量具S的掃描在校準(zhǔn)過程期間和真實(shí)的工件加工期間限于在整體量具S上的僅僅兩個(gè)區(qū)域R1，R2。這兩個(gè)區(qū)域R1，R2此外分別具有僅僅一個(gè)在整體量具S的接合面(Teilungs-Ebene)中相對較小的平坦的、帶有直徑的擴(kuò)展部，這個(gè)擴(kuò)展部比例如上述的距離小了大約一些數(shù)量級。因?yàn)橐虼嗽谖恢么_定中在根據(jù)圖7的加工過程期間僅僅進(jìn)行相對的位置測量，其源自于對具有較小擴(kuò)展部的兩個(gè)區(qū)域R1，R2的掃描，因此可以明顯減小開頭所說的、通過整體量具S的可能的長波誤差引起的誤差?；诟鶕?jù)本發(fā)明的措施得出在加工過程中的優(yōu)化的位置確定。以下參照圖4-7說明為什么基于根據(jù)本發(fā)明的措施得出這樣的誤差最小化狀態(tài)。目標(biāo)O1、即工作臺(tái)的位置以來標(biāo)記，在該位置中加工工具B位于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2上。因此在這三個(gè)校準(zhǔn)方法步驟V1-V3中以及在加工方法步驟V4中的目標(biāo)位置如下：在此，是待求數(shù)值，即在工作臺(tái)位置中進(jìn)行加工期間，加工工具B相對于工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的偏移。為了簡明起見，以下關(guān)注由整體量具S和掃描單元E1，E2組成的系統(tǒng)，利用該系統(tǒng)僅僅可以沿著測量方向確定一個(gè)唯一的分量在實(shí)踐中可以通過將由掃描單元E1，E2和整體量具S組成的系統(tǒng)進(jìn)行相互組合來確定多個(gè)分量這些系統(tǒng)具有不同的測量方向。掃描單元E1在讀取確定位置上的整體量具S時(shí)得出的測量值mE1被描述為函數(shù)其中，是緩慢隨改變的誤差項(xiàng)，其由非均勻的或變形的整體量具S引起。由掃描單元E2檢測的測量值相應(yīng)地作為函數(shù)示出。在四個(gè)機(jī)器位置中獲取的測量值m1-m4然后如下得出：除了未知的誤差項(xiàng)us之外，由測量值m1至m4的適合的線性組合獲得待求量其中，引入了現(xiàn)在假設(shè)，和相對于移動(dòng)的數(shù)量級較小，由該數(shù)量級開始可以期待的重要改變。在此假設(shè)下分別在公式2.12的第二和第三行中主要?jiǎng)h去誤差項(xiàng)，這是因?yàn)檎w量具誤差以不同的符號形成在整體量具S的分別近似相同的位置上。這與測量方向無關(guān)并且因此對于兩個(gè)目標(biāo)O1，O2的相對運(yùn)動(dòng)的所有待測量的自由度是有效的。如由該關(guān)注點(diǎn)明顯示出的，整體量具S的不準(zhǔn)確性基于根據(jù)本發(fā)明的措施最終僅僅仍在相對較小的、空間上受限的區(qū)域R1，R2內(nèi)部產(chǎn)生影響。這些區(qū)域R1，R2的大小基本上通過待加工的、圍繞工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的工件面積給出。如果現(xiàn)在如所述那樣根據(jù)本發(fā)明應(yīng)用至少兩個(gè)掃描單元，則在設(shè)定根據(jù)圖2的整體量具的當(dāng)前變形的情況下，當(dāng)現(xiàn)在根據(jù)本發(fā)明如所說明地應(yīng)用了至少兩個(gè)掃描單元時(shí)，圖8類似于圖3的附圖示出了在不同機(jī)器位置中的得出的定位誤差或測量不安全性△xrel。如由圖8顯而易見的，現(xiàn)在由整體量具變形得出的測量精確度△xrel在時(shí)回到零。加工工具B的定位在工件校準(zhǔn)標(biāo)記M2的周圍環(huán)境中現(xiàn)在可能具有較高的精確度。除了根據(jù)本發(fā)明的裝置和根據(jù)本發(fā)明的方法的所說明的實(shí)施例之外，自然也可以在本發(fā)明的范疇中還存在其它的設(shè)計(jì)可能性。因此代替線性整體量具也可以提出，應(yīng)用二維的整體量具，其設(shè)計(jì)為交叉柵距。此外可能的是，在目標(biāo)彼此可旋轉(zhuǎn)的情況下，整體量具設(shè)計(jì)為角柵距，其然后被兩個(gè)間隔開的掃描單元掃描。根據(jù)本發(fā)明，在此情況下，兩個(gè)掃描單元的角距離必須例如相應(yīng)于在目標(biāo)校準(zhǔn)標(biāo)記和工件校準(zhǔn)標(biāo)記之間的角距離。代替對整體量具的光學(xué)掃描，此外也可以利用整體量具和掃描單元的相應(yīng)設(shè)計(jì)提出磁性的、電容式的或電感式的掃描。此外也可以在根據(jù)本發(fā)明的裝置中存在多個(gè)加工工具和/或校準(zhǔn)傳感器。在此情況下也可能相應(yīng)地需要多個(gè)掃描單元。對于各個(gè)單獨(dú)的方法步驟然后分別類似于上述方式選擇適合的掃描單元。此外在根據(jù)本發(fā)明的方法的變體或改進(jìn)方案中還可能的是，在上述校準(zhǔn)步驟之前沿著測量區(qū)域利用兩個(gè)激活的掃描單元執(zhí)行附加的測量過程；兩個(gè)掃描單元的、由此產(chǎn)生的測量值在此彼此不同。在后續(xù)的、上面說明的方法步驟中，在此產(chǎn)生的測量值可以與在前述測量過程中獲得的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)一起計(jì)算。