專利名稱：晶圓移轉緩沖裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型關于一種晶圓移轉緩沖裝置，尤其是一種可避免當晶圓承載裝置因故 而無法容置晶圓時，可緩沖容置晶圓的裝置
背景技術：
目前常見的晶圓承載裝置主要有兩種不同設計，一種為晶圓片匣(cassette)，具 有頂部、底部及左右側壁，并且在兩側壁上形成有多凸緣，而晶圓則從上述頂部、底部及左 右側壁所共同圍繞出的側向出入口進出，而另一種晶圓承載裝置為晶圓片盒(magazine)， 是一種上方形成有一個頂端汲放口的承載裝置；由于兩種晶圓承載裝置所移載晶圓的方式有很大差異，故是屬于兩種不同系統(tǒng)所 使用的承載裝置，但在實際使用者的設廠過程，往往會取其所需而自行組合運用，因此兩種 晶圓承載裝置之間的移動變換也是頻繁出現(xiàn)的，因此為了在自動化作業(yè)的移載晶圓過程 中，要求晶圓片匣與晶圓片盒間能夠順利轉換承載傳送，并且不會對晶圓造成破壞或損毀， 無疑成為業(yè)界關注的焦點。因此，若能提供一種自動化緩沖容置晶圓裝置，在晶圓承載裝置無法承載晶圓時， 具有暫時容置晶圓的功能，以保持自動化測試機臺的檢測作業(yè)流程能夠以一貫化的方式進 行，同時能降低晶圓損毀率，應為最佳解決方案。
發(fā)明內容本實用新型的目的即在于提供一種晶圓移轉緩沖裝置，其能使得晶圓在晶圓承載 裝置之間移轉容置時，避免晶圓承載裝置無法容置晶圓時，發(fā)生持續(xù)運送的晶圓相互碰撞 而導致晶圓毀損情況發(fā)生，且晶圓在晶圓承載裝置的間移轉容置時，可緩沖容置。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型公開了一種晶圓移轉緩沖裝置，設置于兩個晶圓承 載裝置的輸送帶間，其特征在于該晶圓移轉緩沖裝置包含一緩沖容置架，其中包含有一組容置架，該組容置架跨設于輸送帶兩側，該組容置 架的相對壁面上形成有多個用以提供晶圓置放的至少一容置晶圓空間的凹槽；以及一設置于緩沖容置架下方以調整高度使輸送帶通過緩沖容置架不同高度位置的 驅動機構。其中，該緩沖容置架的該組容置架設置于一底座上。其中，緩沖容置架的該組容置架設置于一驅動機構上。其中，該容置晶圓空間與底座之間形成一提供晶圓輸送裝置通過的通道。其中，該晶圓承載裝置為晶圓片匣或晶圓片盒。其中，該驅動機構為油壓式升降臺或液壓式升降臺。通過上述結構，本實用新型實現(xiàn)了以下技術效果1.通過設置驅動機構、空間和通道，使晶圓在晶圓承載裝置的間移轉容置時，避 免晶圓承載裝置無法容置晶圓時，發(fā)生持續(xù)運送的晶圓相互碰撞而導致晶圓的毀損情況發(fā)生。2.其還可應用于各種晶圓承載裝置進行移轉容置時，可使各種晶圓承載裝置能夠 順利轉換承載傳送，并降低晶圓碰撞所產生的損失。3.可將容置架直接設置于晶圓輸送裝置之上，方便使用者可以自行組合運用。有關于本實用新型的前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式的 較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現(xiàn)。

圖IA為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的立體結構圖；圖IB為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的側視圖；圖IC為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的另一結構側視圖；圖2為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的正常情況示意圖；圖3A為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的實施例圖；圖3B為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的實施例圖；圖3C為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的實施例圖；圖3D為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的實施例圖；圖3E為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的實施例圖；以及圖3F為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的實施例圖。
具體實施方式
請參閱圖1A、圖1B、圖IC及圖2為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置1的立體結構 圖、結構側視圖、另一結構側視圖及正常情況示意圖，而該晶圓移轉緩沖裝置1設置于兩個 晶圓承載裝置的晶圓輸送裝置上，由圖IA中可知，該晶圓移轉緩沖裝置1主要包括一緩沖容置架11，設置于驅動機構12上方，其中包含有一底座111、一組左右容置 架112，113，而該左右容置架112，113設置于底座111上，該左右容置架112，113跨設于輸 送道2兩側，且該左右容置架112，113之間所形成的空間可允許輸送帶2通過，另外該左右 容置架112，113的相對壁面上設置了多個凹槽1131，而左右容置架112，113的相對凹槽間 則會形成一容置晶圓空間114，而該容置晶圓空間與底座111之間會形成一通道115，以利 于晶圓移轉緩沖裝置1于晶圓31，32正常運作情況下，該輸送帶2可以通過該通道115 (請 參考圖IB及圖2)；一驅動機構12，設置于緩沖容置架11下方，該驅動機構12可依據(jù)高度需求帶動調 整升降，進而帶動緩沖裝置容置架11垂直位移，使輸送帶2與容置晶圓空間114位置相對 變化，因此當晶圓承載裝置(晶圓片匣、晶圓片盒等等可以承載晶圓的容器)因故而無法容 置晶圓時，該驅動機構12會上升、下降使輸送帶2移載的晶圓31，32可陸續(xù)暫存于緩沖容 置架的容置晶圓空間114中，以避免因晶圓相互碰撞而導致晶圓的毀損；而該驅動機構12 的驅動方式可為油壓式升降臺、液壓式升降臺等升降裝置；值得一提的是，另一種緩沖容置架11的左右容置架112，113亦可直接設置于一驅 動機構上，直接帶動調整高度，進而帶動緩沖裝置容置架11垂直位移(請參考圖1C)。請參閱圖3A至圖3F，為本實用新型晶圓移轉緩沖裝置的緩沖容置實施例圖，由圖中可知，該晶圓移轉緩沖裝置的其中一實施運作方式為1.當前方晶圓承載裝置因故而無法容置晶圓時，該驅動機構12會自動調整(下 降)使輸送帶2可通過緩沖容置架11的容置晶圓空間(請參考圖3A)；2.輸送帶2移載的晶圓31已開始與左右容置架112，113的相對凹槽接觸(請參 考圖3B)；3.當輸送帶2移載的晶圓31完全置放于左右容置架112，113的相對凹槽中時，緩 沖容置架11下方的驅動機構12則會將上升一格的距離，以便下一格相對凹槽可容置次一 片的晶圓32 (請參考圖3C)4.原本在輸送帶上的晶圓32亦完全置放于左右容置架112，113的相對凹槽中， 同時因為故障排除的緣故，會將輸送帶2停止運作，而該驅動機構12則會將一并停止運作 (請參考圖3D)5.當晶圓承載裝置問題已排除，該輸送帶2開始運作，并藉由驅動機構12自動調 整(下降)使將置放于相對凹槽中的晶圓32向前運送(請參考圖3E)；6.當輸送帶2移載的晶圓32完全離開左右容置架112，113的相對凹槽時，該驅 動機構12開始下降一格，以便晶圓31可離開左右容置架112，113的相對凹槽(請參考圖 3F)。值得一提的是，當輸送帶2位置高于容置晶圓空間時(輸送帶2于緩沖容置架11 上方運作)，可采用另一種開始作動方式與前一實施例相反，因此當前方晶圓承載裝置因故 而無法容置晶圓時，該驅動機構12會調整(上升)使輸送帶2可通過緩沖容置架11的容 置晶圓空間(請參考圖3A)，而后則以相同前一實施例的程序繼續(xù)進行。本實用新型所提供的晶圓移轉緩沖裝置，與其他習用技術相互比較時，更具備下 列優(yōu)點1.本實用新型的晶圓移轉緩沖裝置，可使晶圓在晶圓承載裝置的間移轉容置時， 避免晶圓承載裝置無法容置晶圓時，發(fā)生持續(xù)運送的晶圓相互碰撞而導致晶圓的毀損情況 發(fā)生。2.本實用新型的晶圓移轉緩沖裝置，為一種可應用于各種晶圓承載裝置進行移轉 容置時，可使各種晶圓承載裝置能夠順利轉換承載傳送，并降低晶圓碰撞所產生的損失。3.本實用新型的晶圓移轉緩沖裝置，可直接設置于晶圓輸送裝置之上，方便使用 者可以自行組合運用。藉由以上較佳具體實施例的詳述，希望能更加清楚描述本實用新型的特征與精 神，而并非以上述所揭露的較佳具體實施例來對本實用新型的范疇加以限制。相反地，其目 的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排于本實用新型所欲申請的專利范圍的范疇內。
權利要求一種晶圓移轉緩沖裝置，設置于兩個晶圓承載裝置的輸送帶間，其特征在于該晶圓移轉緩沖裝置包含一緩沖容置架，其中包含有一組容置架，該組容置架跨設于輸送帶兩側，該組容置架的相對壁面上形成有多個用以提供晶圓置放的至少一容置晶圓空間的凹槽；以及一設置于緩沖容置架下方以調整高度使輸送帶通過緩沖容置架不同高度位置的驅動機構。
2.如權利要求1所述的晶圓移轉緩沖裝置，其特征在于，該緩沖容置架的該組容置架 設置于一底座上。
3.如權利要求1所述的晶圓移轉緩沖裝置，其特征在于，緩沖容置架的該組容置架設 置于一驅動機構上。
4.如權利要求1所述的晶圓移轉緩沖裝置，其特征在于，該容置晶圓空間與底座之間 形成一提供晶圓輸送裝置通過的通道。
5.如權利要求1所述的晶圓移轉緩沖裝置，其特征在于，該晶圓承載裝置為晶圓片匣 或晶圓片盒。
6.如權利要求1所述的晶圓移轉緩沖裝置，其特征在于，該驅動機構為油壓式升降臺 或液壓式升降臺。
專利摘要一種晶圓移轉緩沖裝置，由一緩沖容置架及一驅動機構所組成，其中該緩沖容置架設置于驅動機構上方，而該晶圓移轉緩沖裝置則設置于兩個晶圓承載裝置的輸送帶間，為一可緩沖容置晶圓的裝置，因此當晶圓承載裝置因故而無法容置晶圓時，可由驅動機構進行升降控制，使在輸送帶中移載的晶圓陸續(xù)暫存于緩沖容置架的容置空間中，以避免因晶圓相互碰撞而導致晶圓的毀損。
文檔編號H01L21/673GK201732775SQ20102019040
公開日2011年2月2日 申請日期2010年5月14日 優(yōu)先權日2010年5月14日
發(fā)明者黃祥豪 申請人:致茂電子(蘇州)有限公司