專利名稱：多記錄層光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種多記錄層光盤，特別涉及這樣一種多記錄層光盤，即使用簡單結(jié)構(gòu)的光記錄/再現(xiàn)裝置能記錄/再現(xiàn)用高密度記錄的信息。
日前，使用例如LD或CD的信息再現(xiàn)/記錄系統(tǒng)已經(jīng)開發(fā)出來。由于種種原因，包括使CD得更小，以及能記錄高清晰度電視(HDTV)兼容視盤，希望光盤具有更大的數(shù)據(jù)密度。
在光數(shù)據(jù)媒介中用來取得高數(shù)據(jù)密度的一種可考慮的方法是將讀激光聚焦到更精細(xì)的光束直徑，然而聚焦激光的物鏡的數(shù)值孔徑(NA)的最大實(shí)際限制近似為0.6。借助縮短該激光波長也可能得到類似的結(jié)果，然而在目前，一種實(shí)際的半導(dǎo)體激光器的波長是受到限制的。
取得高密度的第二種方法是在該光盤中采用V形紋道(V-groo-ves)，例如在授予Nagashima等的美國專利NO.4,569,038中所公開的(1986年2月4日)。
使用普通技術(shù)在一光盤上可記錄的數(shù)據(jù)的容量是可以確定的。對(duì)于裝在3.5英寸盒內(nèi)的光盤，該盤的直徑大約為86mm，提供半徑為25mm-41mm的數(shù)據(jù)儲(chǔ)存區(qū)。假定使用670nm波長的激光器，具有一0.55NA的物鏡，軌跡間距(track pitch)0.8m，(V形紋道間距(V-groove pitch)1.6μm)，且位長度為0.47μm，則非格式化的單面容量為1.1千兆字節(jié)。使用標(biāo)準(zhǔn)CD格式，能得到單面格式化的550兆字節(jié)，與12μcm的CD相同。
如果在不久將來通常以印刷材料方式提供的信息被提供在一種CD-ROM或其它的光數(shù)據(jù)媒介上，則用戶也應(yīng)可以象目前在紙媒介上那樣能方便地將筆記符號(hào)寫到媒介上而不僅是讀該信息。使這種情況成為可能的一種方法是將該盤分成讀/可寫區(qū)域，其中記錄膜是在該盤的內(nèi)部形成的，而只讀數(shù)據(jù)區(qū)包括在該盤外部上形成的反射金屬膜。然而，該方法減少了只讀數(shù)據(jù)區(qū)，并因此限制了在單個(gè)盤上所分布的信息的總量。
如上所述，需要更小更高容量的光數(shù)據(jù)媒介，包括光盤和光卡。為提高該盤單位面積的信息儲(chǔ)存密度，已經(jīng)開發(fā)了在其兩個(gè)面上有記錄層以及有多個(gè)信息儲(chǔ)存層的雙面光盤。
例如，由Takahara等提出的美國專利NO.4,839,881(1989年6月13日)，提出一種在其兩面具有記錄層的雙面光盤以及使用在具有U形引導(dǎo)裝置的光盤設(shè)備中的讀出傳送裝置，以便借助該U形引導(dǎo)裝置沿該雙面盤的上下表面引導(dǎo)一光學(xué)頭裝置來記錄和/或再現(xiàn)該盤的信息。
然而，該具有U形引導(dǎo)裝置的讀出傳送裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜，因此產(chǎn)品的小型化困難，且產(chǎn)品的價(jià)格增加。
日本專利申請(qǐng)序號(hào)為NO.59-228743的日本公開專利NO.61-107552(1986年5月26日公開)提出一種具有多層磁-光儲(chǔ)存層的磁-光盤。根據(jù)該磁光盤，信息能寫在該各個(gè)磁-光儲(chǔ)存層上并可從它們上讀出。因此該盤單位面積的信息可記錄密度顯著增加。
然而，如上所指出的具有兩個(gè)或多個(gè)儲(chǔ)存層的普通光盤要求具有用于發(fā)射不同波長激光束的光源，以便從各儲(chǔ)存層分別讀出記錄的信息。此外，該普通的系統(tǒng)要求兩個(gè)或多個(gè)適用于由各儲(chǔ)存層反射的不同波長激光束的檢測器，這樣該信息才能夠根據(jù)具有不同波長的反射光束的kerr旋轉(zhuǎn)角的變化來讀出。因此，該普通信息讀出或再現(xiàn)系統(tǒng)在結(jié)構(gòu)上復(fù)雜并且價(jià)格昂貴。
本發(fā)明的目的在于提供一種具有多個(gè)記錄層的光盤，它可借助使用一簡單結(jié)構(gòu)的光記錄/再現(xiàn)裝置將信息以一高密度記錄在該盤上并從該盤再現(xiàn)信息。
為達(dá)到上述目的，按本發(fā)明的一種具有多個(gè)記錄層的光盤，其中，在其上記錄信息或從其中再現(xiàn)信息是由從光學(xué)頭(optical pi-ckup)裝置照射的預(yù)定波長的激光束執(zhí)行的，包括按照激光束投射到該盤時(shí)，從頂部開始的順序，一保護(hù)層；一第一記錄層，具有要求的式樣并在該保護(hù)層下形成；一涂層，激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定的反射率反射，而另外的部分透射通過；一介電層；一第二記錄層，具有要求的式樣，在該介電層下面形成；以及一反射層，通過它激光束被全反射，因此，根據(jù)反射到光學(xué)頭裝置的激光束的光量差，多個(gè)記錄層被記錄/再現(xiàn)。
此外，該具有多個(gè)記錄層的光盤重復(fù)包括，按照激光束投射到該盤時(shí)，自上部開始的順序，在第二記錄層和反射層之間，
一涂層，激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定的反射率反射，而另一部分透射通過；一介電層；以及一記錄層，具有要求的式樣，所述記錄層在該介電層之下形成。
同樣，為達(dá)到上述目的，按本發(fā)明的一種具有多個(gè)記錄層的光盤，在其上記錄信息/從其中再現(xiàn)信息通過從一光學(xué)頭裝置照射的具有不同波長的第一和第二激光束執(zhí)行，包括按照第一或第二激光束投射到該盤上時(shí)，自上部開始的順序，一保護(hù)層；一第一記錄層，具有要求的式樣，該第一記錄層在該保護(hù)層之下形成；一第一涂層，第一激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定的反射率反射，而其它部分透射通過，第二激光束全部透射通過；一第一介電層；一第二記錄層，具有要求的式樣，該第二記錄層在該第一介電層之下形成；一第二涂層，第二激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定的反射率反射，其它部分透射通過，而第一激光束全部透射通過；一第二介電層；一第三記錄層，具有要求的式樣，該第三記錄層在該第二介電層之下形成；一第一反射層，該第一激光束全部由它反射，而第二激光束全部透射通過；一第三介電層；
一第四記錄層，具有要求的式樣，該第四記錄層在該第三介電層之下形成；以及一第二反射層，通過它該第二激光束被全部反射。
因此，根據(jù)反射到光學(xué)頭裝置的激光束的光量差，多個(gè)記錄層被記錄/再現(xiàn)。
此外，該具有多個(gè)記錄層的光盤反復(fù)包括，按照第一或第二激光束投射到盤上時(shí)，自上部開始的順序，在第三記錄層和第一反射層之間，一涂層，第一激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定反射率反射，其他部分透射通過，而第二激光束全部透射通過；一介電層；一記錄層，具有要求的式樣；一涂層，第二激光束的一部分被該涂層以預(yù)定的反射率反射，其他部分透射通過，而第一激光束全部透射通過；另一介電層；以及另一記錄層，具有要求的式樣。
如上所述，按本發(fā)明的具有多個(gè)記錄層的光盤在兩記錄層之間有具有預(yù)定的反射率的涂層，因此，從該涂層反射的用于讀出上記錄層信息的激光束的光量比透過該涂層的讀出下記錄層信息的激光束的光量更大。由于兩記錄層光量之間的差在光學(xué)頭裝置的光探測器上檢測的RF信號(hào)的幅度上產(chǎn)生變化，使得有可能根據(jù)該RF信號(hào)分別地記錄和/或再現(xiàn)具有多個(gè)記錄層的光盤的各個(gè)記錄層。
因?yàn)橛涗?再現(xiàn)各個(gè)記錄層是由具有單一波長的單個(gè)激光源執(zhí)行的，該記錄再現(xiàn)根據(jù)相應(yīng)各個(gè)記錄層的光量不相同而實(shí)現(xiàn)，當(dāng)制作盤時(shí)，根據(jù)制造者的要求，各記錄層之間的距離能適當(dāng)?shù)丶右源_定，聚焦伺服只要在聚焦方向移動(dòng)該物鏡即能實(shí)現(xiàn)，因此生產(chǎn)盤是不困難的。
這樣，用按照本發(fā)明的光盤，有可能在仍然使用普通的光記錄/再現(xiàn)裝置的情況下記錄/再現(xiàn)信息，而且有可能記錄/再現(xiàn)高密度信息。
通過參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，本發(fā)明的上述目的和其他優(yōu)點(diǎn)將更加明顯，這些附圖是

圖1是一示意截面圖，用于表示按本發(fā)明第一實(shí)施例的具有多個(gè)記錄層的光盤；圖2是一示意截面圖，用于表示按本發(fā)明第二實(shí)施例的具有多個(gè)記錄層的光盤；圖3是一示意截面圖，用于表示按本發(fā)明第三實(shí)施例的具有多個(gè)記錄層的光盤；圖4是一示意截面圖，用于表示按本發(fā)明第四實(shí)施例的具有多個(gè)記錄層的光盤。
以下將詳細(xì)描述按本發(fā)明的一種光讀出裝置。
實(shí)施例1圖1是一示意截面圖，用于表示按本發(fā)明第一實(shí)施例的具有多個(gè)記錄層的光盤。
如圖1所示，一個(gè)按本發(fā)明第一實(shí)施例的光盤10，從盤10的上部開始，為一保護(hù)層101和具有一預(yù)定式樣的第一記錄層110(在保護(hù)層101下面形成)。在第一記錄層110之下形成一涂層112，具有一預(yù)定波長(例如，780-860nm)的激光束通過它以0.5的反射率反射，而另外一半透射通過。一介電層111以及具有一預(yù)定式樣并在介電層111之下形成的第二記錄層120按上述順序在涂層112之下形成。而在第二記錄層120之下，分出一反射層121，通過它，激光束全部被反射。
同時(shí)，在制作盤時(shí)，根據(jù)制造者的要求，第一記錄層110和第二記錄層120之間的距離能任意確定，而再現(xiàn)該各個(gè)記錄層能根據(jù)該距離通過在聚焦方向移動(dòng)物鏡來達(dá)到。第一記錄層110和第二記錄層120的信息通過從該盤反射的激光束的光量來分開。
以下將描述按上述方式構(gòu)成的本實(shí)施例的光盤的操作。
用于記錄和/或再現(xiàn)該盤的一光學(xué)頭裝置(未示出)被配置在圖1的光盤10之上。具有一預(yù)定波長λ1(一般為780-860nm)激光束由該光學(xué)頭裝置中的激光器向該盤10的上部照射。
該激光束透射穿過保護(hù)層101和第一記錄層110。然后，當(dāng)該激光束以0.5反射率穿過涂層112時(shí)，其一半透過，而另一半由它反射。
該反射的一半激光束返回到光學(xué)頭裝置，同時(shí)，該光學(xué)頭裝置從該激光束檢測和再現(xiàn)RF信號(hào)(3T-11T的數(shù)字信號(hào))作為數(shù)據(jù)、循跡以及聚焦信號(hào)。這個(gè)在光學(xué)頭裝置的光探測器上檢測的信號(hào)通過RF放大器正常地再現(xiàn)成1V±0.2V的電壓。
同時(shí)，當(dāng)透過的那一半激光繼續(xù)透射穿過介電層111和第二記錄層120，從在第二記錄層120之下的反射層121反射。在返回透射通過第二記錄層120和介電層111之后，該激光投射到涂層112上，然后該光束的一半透射通過，而其另一半被它所反射。
由此，1/2×1/2，即初始照射激光束的1/4被返回到該光學(xué)頭裝置，如果再現(xiàn)上層(即記錄層110)的信號(hào)產(chǎn)生1V的RP信號(hào)，則再現(xiàn)下層(即第二記錄層120)的信號(hào)的輸出信號(hào)電壓將降到1/2。
這樣，根據(jù)RF信號(hào)的幅度，有可能記錄/再現(xiàn)第一記錄層或第二記錄層的信息。
實(shí)施例2圖2是一示意截面圖，用于表示按本發(fā)明第二實(shí)施例的具有多個(gè)記錄層的光盤。
按本發(fā)明第二實(shí)施例的光盤20，如圖2所示，從盤20的上部開始，具有一保護(hù)層201以及具有一預(yù)定式樣并在保護(hù)層201之下形成的第一記錄層210。在第一記錄層210之下形成一第一涂層212，具有一預(yù)定波長(例如780-860nm)的激光的一半被它以例如0.5的反射率所反射，而另一半透射穿過該涂層。一第一介電層211和具有一預(yù)定式樣并在第一介電層211之下形成的第二記錄層220按上述順序在第一涂層212之下形成。在第二記錄層220之下形成第二涂層222，通過它激光束的一半被以例如0.5的反射率反射，而另一半透射穿過該涂層。一第二介電層221和具有一預(yù)定式樣并在第二介電層221之下形成的第三記錄層230按以上順序在第二涂層222之下形成。在第三記錄層230之下，分出一反射層231，通過它激光束全部被反射。
同時(shí)，當(dāng)制作盤時(shí)，根據(jù)制造者的需要，第一、第二和第三記錄層210、220和230之間的距離能任意確定，而再現(xiàn)該各記錄層能根據(jù)該距離通過在聚焦方向移動(dòng)物鏡來邊到。第一、第二和第三記錄層210、220和230的信息通過從該盤反射的激光束的光量來分開。
以下將描述按上述方式構(gòu)成的本實(shí)施例的光盤的操作。
用于記錄和/或再現(xiàn)該盤的一光學(xué)頭裝置(未示出)設(shè)置在圖2所示的光盤20之上。具有一預(yù)定波長λ1(一般為780-860nm)的激光束從該光學(xué)頭裝置中的一激光器向盤20的上部照射。
該激光束透射穿過保護(hù)層201和第一記錄層210。接著，當(dāng)該激光束通過反射率為0.5的涂層212時(shí)，該激光束的一半透射穿過該涂層，而另一半被它反射。
由第一涂層212反射的這一半激光束返回到光學(xué)頭裝置，并同第一實(shí)施例那樣，該光學(xué)頭裝置從該激光束檢測和再現(xiàn)RP信號(hào)(3T-11T的數(shù)字信號(hào))作為第一記錄層的數(shù)據(jù)、循跡以及聚焦信號(hào)。
同時(shí)，透射穿過第一涂層212的那一半激光束繼續(xù)穿過介電層211和第二記錄層220。接著，當(dāng)該激光束通過反射率為0.5的第二涂層222時(shí)，該激光束的一半透過，而另一半被它反射。
這樣，1/4×1/2，即初始照射激光束的1/8被返回到光讀出裝置。因此，如果再現(xiàn)最上層(即第一記錄層210)的再現(xiàn)信號(hào)產(chǎn)生1V的RP信號(hào)，這樣再現(xiàn)最下層(即第三記錄層230)的再現(xiàn)信號(hào)的輸出信號(hào)電壓將降到1/4。
另一方面，透射穿過第二涂層222的一半激光束，即初始激光束的1/4繼續(xù)穿過第二介電層221和第三記錄層。接著，透射的激光束全部地由在第三記錄層230之下的全反射層231所反射，該反射的光束反向透射通過第三記錄層230和第二介電層221。接著，當(dāng)該激光束通過反射率為0.5的第二涂層222時(shí)，僅有一半的激光束透射通過。即，只有初始照射激光束的1/8(＝1/4×1/2)被透射。在1/8的激光束繼續(xù)穿過第二記錄層220和第一介電層211之后，激光束通過反射率為0.5的第一涂層212，僅該激光束的一半通過。即，只有初始照射激光束的1/16＝(1/8×1/2)被傳送并返回到光學(xué)頭裝置。因此，如果再現(xiàn)最上層(即第一記錄層210)的信號(hào)時(shí)能控制RF放大器產(chǎn)生1V的RP信號(hào)，這樣再現(xiàn)最下層(即第三記錄層230)的信號(hào)的輸出信號(hào)電壓將降到約1/8V。
因此，根據(jù)RP信號(hào)的各個(gè)幅度，有可能記錄/再現(xiàn)第一記錄層、第二記錄層或第三記錄層的信息。
實(shí)施例3圖3是一示意截面圖，用于表示按本發(fā)明第三實(shí)施例的具有多個(gè)記錄層的光盤。
如圖3所示，根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的一種光盤30，從盤30上部開始，具有一保護(hù)層301和具有一預(yù)定式樣并在保護(hù)層301之下的第一記錄層310。在第一記錄層310之下形成第一涂層312，具有一預(yù)定波長(例如780-860nm)的第一激光束λ1的一半被它以例如0.5的反射率反射，而另一半透射穿過該涂層，第二激光束λ2則完全透射穿過。一第一介電層311和具有一預(yù)定式樣并在第一介電層311之下形成的第二記錄層320按以上順序在第一涂層312之下形成。在第二記錄層320之下形成第二涂層322，第二激光束λ2的一半被它以例如0.5的反射率反射，另一半則透射而第一激光束λ1完全透射。一第二介電層321和具有一預(yù)定式樣并在第二介電層321之下形成的第三記錄層330按以上順序在第二涂層322之下形成。在第三記錄層330之下，分出第一反射層332，第一激光束λ1被它全部反射，而第二激光束λ2則全部透射穿過。一第三介電層331和具有一預(yù)定式樣并在第三介電層331之下形成的第四記錄層340按以上順序在第一反射層332之下形成。在第四記錄層340之下，分出第二反射層341，第二激光束λ2全部被它反射。
這樣來確定第一記錄層310和第二記錄層之間的距離，即第一和第二激光束可各自通過光學(xué)頭裝置的物鏡按各自聚焦距離聚焦在第一記錄層310和第二記錄層320上，其中，各自的聚焦距離(1/f＝(n1－1)(1/R1－1/R2))由于軸向色像差現(xiàn)象依賴于波長而不相同。第三記錄層330和第四記錄層340之間的距離也取決于軸向色像差現(xiàn)象。
同時(shí)，當(dāng)制作盤時(shí)，根據(jù)制造者的要求，第一記錄層310和第三記錄層330之間的距離可任意確定，并且再現(xiàn)各記錄層能根據(jù)距離通過在聚焦方向移動(dòng)物鏡來達(dá)到。第一和第三記錄層(310，330)的信息通過由盤反射的激光束的光量來分開。第二記錄層320和第四記錄層340之間的距離能夠像第一記錄層310和第三記錄層330之間的距離那樣加以確定。
以下將描述按上述方式構(gòu)成的本實(shí)施例的光盤的操作。
如圖1中那樣，用于記錄和/或再現(xiàn)該盤的一種光學(xué)頭裝置(未示出)配置在圖3所示的光盤之上。該光學(xué)頭裝置具有產(chǎn)生不同波長λ1和λ2的第一和第二激光器。
當(dāng)具有確定波長λ1(一般為780-860nm)的第一激光向盤30的上部照射時(shí)，該第一激光束透射穿過保護(hù)層301和第一記錄層310。接著，當(dāng)?shù)谝患す馐干浯┻^第一涂層312(它對(duì)第一激光束λ1具有0.5的反射率，而對(duì)第二激光束λ2完全透射)時(shí)，第一激光束的一半被它反射，而其另一半透射通過。
該第一涂層312反射的第一激光束返回到光學(xué)頭裝置，并和第一實(shí)施例那樣，光學(xué)頭裝置從該激光束檢測和再現(xiàn)RF信號(hào)(3T-11T的數(shù)字信號(hào))作為第一記錄層的數(shù)據(jù)、循跡以及聚焦信號(hào)。
同時(shí)，透過第一涂層312的第一激光束的一半繼續(xù)透射穿過第一介電層311和第二記錄層320。接著，當(dāng)通過在第二記錄層320之下的第二涂層322(它對(duì)第一激光束λ1完全透射通過，對(duì)第二激光束λ2具有0.5的反射率)時(shí)，第一激光束通過。之后，該第一激光束繼續(xù)通過第二介電層321和在其下面的第三記錄層。接著，當(dāng)經(jīng)過在第三記錄層330之下的第一反射層332(對(duì)第一激光束λ1全反射，而對(duì)第二激光束λ2全透射通過)時(shí)，第一激光束全反射。該全反射的第一激光束按以下順序反向通過第三記錄層330，第二介電層321，第二涂層322，第二記錄層320，以及第一介電層311。當(dāng)該透射的第一激光束通過第一涂層312時(shí)，該光束只有一半通過。即，僅1/4的初始照射激光束返回到光學(xué)頭裝置。這樣，如果RF放大器被進(jìn)行控制，使得再現(xiàn)該上層(即第一記錄層310)的信號(hào)產(chǎn)生1V的RP信號(hào)，則再現(xiàn)較低層(即第三記錄層330)的再現(xiàn)信號(hào)的輸出電壓將降到約1/2。
另一方面，當(dāng)具有另一預(yù)定波長λ2(780-860nm)的第二激光束向盤30的上部照射時(shí)，該第二激光束順序通過保護(hù)層301，第一記錄層310，第一涂層312(對(duì)第一激光束λ1具有0.5的反射率，而對(duì)第二激光束λ2全部透射通過)，第一介電層311，以及第二記錄層320。之后，當(dāng)該第二激光束通過第二涂層322(對(duì)第二激光束λ2具有0.5反射率，而對(duì)第一激光束λ1全部透射通過)時(shí)，第二激光束的一半被它反射，而其另一半透射穿過。
從第二涂層322反射的第二激光束的一半返回到光學(xué)頭裝置，而該光學(xué)頭裝置從該第二激光束檢測并再現(xiàn)信號(hào)(3T-11T的數(shù)字信號(hào))作為第二記錄層320的數(shù)據(jù)、循跡和聚焦信號(hào)。
同時(shí)，透射穿過第二涂層322的第二激光束按順序繼續(xù)通過第二介電層321和第三記錄層330、第一反射層332(對(duì)第一激光束λx全反射，而對(duì)第二激光束λ2全透射通過)、第三介電層331和第四記錄層340。在被第二反射層341(全反射第二激光束λ2)全反射后，透射的第二激光束順序透射通過記錄層340，第三介電層331，第一反射層332，第三記錄層330，以及第二介電層321。當(dāng)該第二激光束通過第二涂層322(對(duì)第二激光束λ2具有0.5反射率，而對(duì)第一激光束λ1全透射通過)時(shí)，僅其一半透射通過。即僅有1/4的初始照射激光束返回到光學(xué)頭裝置。
這樣，如果RP放大器被控制，以使得再現(xiàn)上層(即第二記錄層320)的信號(hào)時(shí)，由該第二激光束產(chǎn)生1V的RF信號(hào)，則再現(xiàn)低層(即第四記錄層340)的信號(hào)的輸出信號(hào)的電壓降到約1/2。
這樣，根據(jù)在光學(xué)頭裝置的光探測器上所檢測到的各RF信號(hào)的幅度，可以記錄/再現(xiàn)第一記錄層第二記錄層上的信息。
實(shí)施例4圖4是一示意截面圖，用于表示按本發(fā)明第四實(shí)施例的具有多個(gè)記錄層的光盤。
如圖4所示，按本發(fā)明第四實(shí)施例的光盤40，從其上部開始，具有一保護(hù)層401和具有一預(yù)定式樣并在保護(hù)層401之下形成的第一記錄層410。在第一記錄層410之下形成第一涂層412，具有一預(yù)定波長(例如780-860nm)的第一激光束λ1，被該涂層以例如0.5的反射率反射，其另一半透射穿過，而具有另一預(yù)定波長(780-860nm)的第二激光束λ2全部透射通過。一第一介電層411和具有預(yù)定式樣并在第一介電層411之下形成的第二記錄層420按以上順序在第一涂層412之下形成，在第二記錄層420之下形成第二涂層422。該第二激光束λ2的一半被該涂層以例如0.5的反射率反射，而另一半透射穿過，而第一激光束λ1全部透射。一第二介電層421以及具有預(yù)定式樣并在第二介電層421之下形成的一第三記錄層430按以上順序在第二涂層422之下形成。在第三記錄層430之下，形成第三涂層432，通過它第一激光束λ1的一半被反射(例如，反射率為0.5)，另一半透射穿過，而第二激光束λ2全部透射。一第三介電層431和具有預(yù)定式樣并在第三介電層431之下形成的第四記錄層440按以上順序在第三涂層432之下形成。在第四記錄層440之下形成第四涂層442。第二激光束λ2的一半被該涂層反射(例如以0.5的反射率)，該第二激光束λ2的另一半透射穿過，而第一激光束λ1全部透射。一第四介電層441和具有預(yù)定式樣并在第四介電層441之下形成的一第五記錄層450按以上順序在第四涂層442之下形成。在第五記錄層450之下形成第一反射層452，通過它第一激光束λ1被全反射，而第二激光束λ2完全透射。一第五介電層451和具有預(yù)定式樣并在第五介電層451之下形成的第六記錄層460按以上順序在第一反射層452之下形成。在第六記錄層460之下形成第二反射層461，第二激光束λ2被它全部反射。
這樣來確定第一記錄層410和第二記錄層420之間的距離，使得第一和第二激光束能按各自的聚焦距離通過光學(xué)頭裝置的物鏡分別聚焦在第一記錄層410和第二記錄層420上，其中，各自的聚焦距離(1/f＝(n1－1)(1/R1－1/R2))由于軸向色像差現(xiàn)象而不相同。在第三、第四、第五以及第六記錄層430、440、450和460之間的距離也由軸向色像差現(xiàn)象確定。
同時(shí)，當(dāng)制作盤時(shí)，根據(jù)生產(chǎn)者的要求，第一記錄層410、第三記錄層430以及第五記錄層450之間的距離能任意確定，而再現(xiàn)各記錄層能根據(jù)距離通過在聚焦方向上移動(dòng)物鏡來得到。第一、第三和第五記錄層410、430和450的信息通過從該盤反射的激光束的光量來分開。第二記錄層420、第四記錄層440以及第六記錄層460之間的距離能夠象確定第一記錄層410、第三記錄層430以及第五記錄層450之間的距離那樣加以確定。
以下將描述按上述方式構(gòu)成的本實(shí)施例的光盤的操作。
如圖1中那樣，一用于記錄和/或再現(xiàn)光盤的光學(xué)頭裝置(未示出)被配置在圖4所示的光盤40上。該光學(xué)頭裝置具有產(chǎn)生不同波長λ1和λ2的第一和第二激光器。
當(dāng)具有一預(yù)定波長λ1(一般為780-860nm)的第一激光束向盤40的上部照射時(shí)，該第一激光束透射通過保護(hù)層401和第一記錄層410。接著，當(dāng)該第一激光束通過第一涂層412(對(duì)第一激光束λ1具有0.5的反射率)時(shí)，第一激光束的一半被反射，而第一激光束的另一半透射通過。
從第一涂層412反射的那一半第一激光束返回到光學(xué)頭裝置，而如第一實(shí)施例那樣，該光學(xué)頭裝置從該激光束檢測并再現(xiàn)RF信號(hào)(3T-11T的數(shù)字信號(hào))作為第一記錄層410的數(shù)據(jù)、循跡以及聚焦信號(hào)。
同時(shí)，透射過第一涂層412的第一激光束的一半繼續(xù)透射過第一介電層411和第二記錄層420。接著，當(dāng)穿過在第二記錄層420之下的第二涂層422(該涂層對(duì)第一激光束λ1能完全透射，而對(duì)第二激光束有0.5的反射率)時(shí)，第一激光束透射過該涂層。之后，該第一激光束繼續(xù)透射過第二介電層421和在其下的第三記錄層430。
接著，當(dāng)透射的那一半第一激光束通過第三涂層432(對(duì)第一激光束λ1具有0.5的反射率，而對(duì)第二激光束能完全透射)時(shí)，該光束的一半被反射，而其另一半透射通過。
由第三涂層432反射的該第一激光束，即初始照射的第一激光束的1/4按順序反向透射穿過第三記錄層430、第二介電層421、第二涂層422、第二記錄層420以及第一介電層411。之后，當(dāng)通過第一涂層412時(shí)，僅其一半被透射過并返回到光學(xué)頭裝置。即，僅有初始照射的第一激光束的1/8＝(1/4×1/2)返回到該光學(xué)頭裝置。該光學(xué)頭裝置從該激光束檢測并再現(xiàn)RF信號(hào)(3T-11T的數(shù)字信號(hào))作為第三記錄層430的數(shù)據(jù)、循跡和聚焦信號(hào)。
另一方面，透射過第三涂層432的該激光束，即初始照射激光的1/4繼續(xù)透射過第三介電層431、第四記錄層440、第四涂層442(第一激光完全透射)、第四介電層441和第五記錄層450。接著，該激光由在第五記錄層450之下的第一反射層451全反射。該全反射的第一激光束返回來經(jīng)過第三涂層432，僅其一半通過。接著，該透射的激光經(jīng)過第一涂層412，僅其一半透射過并返回到該光讀出裝置。即，僅初始照射的第一激光束的1/16(＝1/4×1/2×1/2)返回到該光學(xué)頭裝置。
這樣，如果控制RF放大器，使得能在再現(xiàn)上層(即第一記錄層410)的信號(hào)時(shí)，由該第一激光束產(chǎn)生1V的RF信號(hào)，則再現(xiàn)最下層(即第一記錄層450)的信號(hào)的輸出信號(hào)的電壓將降到約1/8V。
另一方面，當(dāng)具有另一預(yù)定波長λ2(一般780-860nm)的第二激光射向盤40的上部，該第二激光束透射通過保護(hù)層401、第一記錄層410、第一涂層412(對(duì)第一激光束λ1具有0.5的反射率，而對(duì)第二激光束λ2能完全透射)、第一介電層411以及第二記錄層420。接著，當(dāng)該透射的第二激光束通過第二涂層422(對(duì)第二激光束λ2具有0.5的反射率，而對(duì)第一激光束λ1能完全透射)時(shí)，該第二激光束的一半被反射，而其另一半透射通過。
從第二涂層422反射的第二激光束的一半返回到光學(xué)頭裝置，而該光學(xué)頭裝置從該第二激光束檢測并再現(xiàn)RF信號(hào)(3T-11T的數(shù)字信號(hào))作為第二記錄層420的數(shù)據(jù)、循跡以及聚焦信號(hào)。
同時(shí)，透射通過第二涂層422的第二激光束的一半繼續(xù)透射過第二介電層421和第三記錄層430。接著，當(dāng)通過在第三記錄層430之下的第三涂層432(對(duì)第二激光束λ2能完全透射，而對(duì)第一激光束λ1具有0.5的反射率)時(shí)，第二激光束透射通過。之后，該第二激光束繼續(xù)透射通過第三介電層431和在其下的第四記錄層440。接著，當(dāng)被透射的該第二激光束的一半通過第四記錄層440之下的第四涂層442(對(duì)第二激光束λ2具有0.5的反射率，而對(duì)第一激光束λ1能完全透射)時(shí)，該光束的一半被反射，而其另一半透射穿過。
從第四涂層442反射的第二激光束，即初始照射的第二激光束的1/4向回透射通過第二涂層422，但僅其一半透射通過并返回到光學(xué)頭裝置。即僅初始照射的第二激光束的1/8(＝1/4×1/2)返回到該光學(xué)頭裝置。該光學(xué)頭裝置從該激光束檢測并再現(xiàn)RF信號(hào)(3T-11T的數(shù)字信號(hào))作為第四記錄層440的數(shù)據(jù)、循跡以及聚焦信號(hào)。
另一方面，透射通過第四涂層442的該激光，即初始照射激光束的1/4按順序繼續(xù)透射通過第四介電層441、第五記錄層450、第一反射層452(第一激光束被全反射，而第二激光束完全透射)、第五介電層451以及第六記錄層460。接著，該第二激光束被第二反射層461全反射。該全反射的第二激光束返回穿過第四涂層442，僅其一半透射通過。接著，該透射通過的光束穿過第二涂層422，而僅其一半透射通過并返回到光讀出裝置。即，僅初始照射的第二激光束的1/16(＝1/4×1/2×1/2)被返回到該光學(xué)頭裝置。
這樣，在再現(xiàn)上層(即第二記錄層420)的信號(hào)時(shí)，如果控制RF放大器使得能由該第二激光束產(chǎn)生1V的RF信號(hào)，則再現(xiàn)最下層(即第六記錄層460)的再現(xiàn)信號(hào)的輸出電壓將降到約1/8V。
這樣，有可能根據(jù)在光學(xué)頭裝置的光探測器上檢測的各RF信號(hào)的幅度記錄/再現(xiàn)第二、第四和第六記錄層的信息。
如上所述，按本發(fā)明的具有多個(gè)記錄層的光盤在兩記錄層之間具有一預(yù)定反射率的涂層，因此，從該涂層反射的用于讀出上記錄層信息的激光束光量大于透射過涂層后用于讀出下記錄層的所得激光束的光量。由于該兩記錄層光量之間的差造成在光學(xué)頭裝置的光探測器上檢測的RF信號(hào)的幅度的變化，使得根據(jù)該RF信號(hào)的幅度分開記錄和/或再現(xiàn)具有多個(gè)記錄層的光盤的各記錄層成為可能。
由于根據(jù)相應(yīng)各記錄層的光量的不同可以只用一個(gè)具有單一波長的激光源實(shí)現(xiàn)對(duì)各記錄層的記錄/再現(xiàn)，當(dāng)制作盤時(shí)，按照制造者的要求，各記錄層之間的距離能適當(dāng)?shù)丶右源_定，而聚焦伺服只要在聚焦方向移動(dòng)物鏡就能完成，因此生產(chǎn)光盤不存在困難。
這樣，用按本發(fā)明的光盤，使得有可能在仍舊使用普通的簡單光記錄/再現(xiàn)設(shè)備的情況下仍能記錄/再現(xiàn)信息，而且還使得用高密度記錄/再現(xiàn)信息成為可能。
盡管參照具體實(shí)施例展示并描述了本發(fā)明，專業(yè)技術(shù)人員將能理解，在形式和細(xì)節(jié)方面的各種變化是能夠?qū)嵤┑?，但不脫離本發(fā)明由附后的權(quán)利要求限定的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種具有多個(gè)記錄層的光盤，其中由一光學(xué)頭裝置照射的一具有預(yù)定波長的激光束來執(zhí)行在/從該盤記錄/再現(xiàn)信息，包括當(dāng)所述激光束投射到所述盤上時(shí)，按其從上部開始的順序；一保護(hù)層；一第一記錄層，具有所要求的式樣，在所述保護(hù)層之下形成；一涂層，所述激光束被該涂層以一預(yù)定反射率部分反射，而另一部分透射通過；一介電層；一第二記錄層，具有所要求的式樣，在所述介電層之下形成；以及一反射層，所述激光束被該反射層全反射，借此根據(jù)反射到所述光學(xué)頭裝置的激光束光量差進(jìn)行多個(gè)記錄層的記錄/再現(xiàn)。
2.如權(quán)利要求1所述的具有多個(gè)記錄層的光盤，重復(fù)包括當(dāng)所述激光束投射到所述盤上時(shí)，按其從上部開始的順序，在所述第二記錄層和所述反射層之間，一涂層，所述激光束以一預(yù)定反射率被該涂層部分反射，激光束另一部分透射；一介電層；以及一記錄層，具有所要求的式樣，在所述介電層之下形成。
3.一種具有多個(gè)記錄層的光盤，其中在/從該盤記錄/再現(xiàn)信息是由從一光學(xué)頭裝置照射的具有不同波長的第一和第二激光束執(zhí)行的，包括當(dāng)所述第一或第二激光束投射到所述盤上時(shí)，按其從上部開始的順序，一保護(hù)層；一第一記錄層，具有所要求的式樣，在所述保護(hù)層之下形成；一第一涂層，所述第一激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定反射率反射，另一部分透射通過，而所述第二激光束全部透射通過；一第一介電層；一第二記錄層，具有所要求的式樣，在所述第一介電層之下形成；一第二涂層，所說第二激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定反射率反射，另一部分透射通過，而所述第一激光束完全透射通過；一第二介電層；一第三記錄層，具有所要求的式樣，在所述第二介電層之下形成；一第一反射層，所述第一激光束被該反射層全反射，而所述第二激光束全部透射通過；一第三介電層；一第四記錄層，具有所要求的式樣，在所述第三介電層之下形成；以及一第二反射層，所述第二激光束被該反射層全反射，借此根據(jù)反射到所述光學(xué)頭裝置的光量差進(jìn)行多個(gè)記錄層的記錄/再現(xiàn)。
4.如權(quán)利要求3所述的具有多個(gè)記錄層的光盤，重復(fù)包括當(dāng)所述第一或第二激光束投射到所說盤上時(shí)，按其從上部開始的順序；在所述第三記錄層和所述第一反射層之間；一涂層，所述第一激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定反射率反射，另一部分透射通過，而所述第二激光束全部透射通過；一介電層；一記錄層，具有所要求的式樣；另一涂層，所述第二激光束的一部分被該涂層以一預(yù)定反射率反射，另一部分透射通過，而所述第一激光束全部透射通過；另一介電層；以及另一記錄層，具有所要求的式樣。
全文摘要
一多記錄層光盤，包括一保護(hù)層；第一記錄層；一涂層，以預(yù)定反射率反射激光束的一部分，而另一部分透射通過；一介電層；一第二記錄層，在介電層之下形成；以及一反射層，激光束被其全部反射。由于涂層具有預(yù)定反射率，從該涂層反射的用于讀出第一記錄層信息的激光束光量大于透過該涂層讀出第二記錄層信息的激光束光量，因此光學(xué)頭裝置的RF信號(hào)幅度出現(xiàn)變化，使分開記錄和/或再現(xiàn)光盤的各記錄層成為可能。
文檔編號(hào)G11B7/24GK1151071SQ9511990
公開日1997年6月4日 申請(qǐng)日期1995年10月31日 優(yōu)先權(quán)日1994年10月31日
發(fā)明者崔良吾 申請(qǐng)人:大宇電子株式會(huì)社