磁盤用玻璃基板、磁盤的制作方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及磁盤用玻璃基板、磁盤。
【背景技術】
[0002] 當前，在個人計算機或者DVD (Digital Versatile Disc :數(shù)字多功能光盤）記錄 裝置等中，為了進行數(shù)據(jù)記錄而內置有硬盤裝置（HDD :Hard Disk Drive :硬盤驅動器）。特 別是在筆記本型個人計算機等以可移動性為前提的設備中使用的硬盤裝置中，使用在玻璃 基板上設置有磁性層的磁盤，利用在磁盤的表面上稍微懸浮的磁頭對磁性層記錄或讀取磁 記錄信息。此時的磁盤的轉速例如是5400rpm左右。作為該磁盤的基板，適合采用剛性比 金屬基板（鋁基板）等高且抗沖擊性強的玻璃基板。此外，在例如2. 5英寸的尺寸的磁盤 的情況下，磁盤用玻璃基板的板厚一般是〇. 635mm或者0. 8mm。
[0003] 近年來，對于在網(wǎng)絡服務器裝置等固定型的服務器裝置中使用的磁盤，以訪問時 間或傳送速度的進一步提尚為目標，要求磁盤的尚速旋轉化。在使磁盤以比以往尚的速度 進行旋轉時，即使增加以往的磁盤用鋁基板的板厚，剛性也顯得不足，從而產(chǎn)生抖動。這里， 抖動是指基板由于基板的旋轉而產(chǎn)生振動（不停顫動）的現(xiàn)象。因此，在專利文獻1中，為 了降低高速旋轉時的抖動，公開了如下這樣的磁盤用玻璃基板：使從投影到與主表面平行 的面上的投影像的內周到外周的間隔S的最大值Smax與最小值Smin之差Δ S小于2 μ m。
[0004] 現(xiàn)有技術文獻
[0005] 專利文獻
[0006] 專利文獻1 :日本特開2008-226376號公報

【發(fā)明內容】

[0007] 發(fā)明所要解決的課題
[0008] 在以往的磁盤用玻璃基板中，規(guī)定了從主表面的內周到外周的間隔的最大值與最 小值之差。但是，已確認了存在由于玻璃基板的端面形狀而導致產(chǎn)生高速旋轉時的抖動的 情況。
[0009] 因此，本發(fā)明的目的是提供能夠進一步降低高速旋轉時的抖動的磁盤用玻璃基板 和磁盤。
[0010] 解決問題的手段
[0011] 本申請的發(fā)明人為了進一步降低高速旋轉時的抖動而進行了伸入的研宄，結果發(fā) 現(xiàn)：通過減小玻璃基板的外周端面（包含與主表面垂直的側壁面、和主表面與側壁面之間 的倒角面）在圓周方向上的形狀變化，能夠進一步降低抖動。
[0012] 關于其理由，本申請發(fā)明人如下述這樣進行了考察。S卩，可以認為：當玻璃基板的 周向上的外周端面的形狀在短周期內的變化增大時，與該外周端面接觸的空氣的量大幅變 化，由此，與基板的旋轉相伴隨的外周端面周邊的氣流變得不穩(wěn)定。另外，在近年來的磁盤 驅動裝置中，存在設置有對安裝在主軸上的磁盤的外周進行覆蓋的壁（保護罩）的情況，通 過減小該壁與磁盤的外周端面之間的間隙，能夠使該間隙中的氣流穩(wěn)定。但是，在間隙較小 的狀態(tài)下，如果玻璃基板的周向上的外周端面的形狀變化增大，則該壁與磁盤的外周端面 之間的間隙的變化比例變大，由此可以認為該間隙中的氣流容易紊亂。因此，如果減小玻璃 基板的周向上的外周端面的形狀變化，則能夠使玻璃基板的外周端面周邊的氣流穩(wěn)定，并 且能夠將該壁與磁盤的外周端面之間的間隙保持為大致固定，所以可進一步降低抖動。
[0013] 因此，本發(fā)明的第1觀點是一種磁盤用玻璃基板，其是在中心形成有圓孔且具有 一對主表面和外周端面及內周端面的環(huán)型的磁盤用玻璃基板，所述外周端面及所述內周端 面分別由側壁面和在主表面與側壁面之間形成的倒角面構成，該磁盤用玻璃基板的特征在 于，在外周端面上，以所述玻璃基板的中心為基準沿著周向每隔30度設置測量點，求出所 述側壁面與所述倒角面之間的部分的形狀在所述測量點處的曲率半徑，此時，相鄰的測量 點之間的所述曲率半徑之差在0,01mm以下。
[0014] 在上述磁盤用玻璃基板中優(yōu)選的是，相鄰的測量點之間的所述曲率半徑之差在 0. 005mm 以下。
[0015] 在上述磁盤用玻璃基板中優(yōu)選的是，以所述玻璃基板的中心為基準沿著周向每隔 30度設置測量點，并求出所述主表面與所述倒角面之間的部分的形狀在所述測量點處的曲 率半徑作為第2曲率半徑，此時，相鄰的測量點之間的所述第2曲率半徑之差在0. 004_以 下。
[0016] 在上述磁盤用玻璃基板中優(yōu)選的是，所述玻璃基板的板厚是0. 635mm以下。
[0017] 本發(fā)明的第2觀點是一種磁盤，其中，對于上述的磁盤用玻璃基板至少形成有磁 性層。
[0018] 發(fā)明效果
[0019] 根據(jù)本發(fā)明的磁盤用玻璃基板、磁盤，能夠進一步降低高速旋轉時的抖動。
【附圖說明】
[0020] 圖IA是實施方式的磁盤用玻璃基板的俯視圖。
[0021] 圖IB是示出沿圖IA中的X-X箭頭觀察的放大截面的圖。
[0022] 圖IC是將圖IB的一部分進一步放大并示出的圖。
[0023] 圖2是圖IB的重要部位放大圖。
[0024] 圖3A是說明實施方式中的玻璃基板的研磨方法的圖。
[0025] 圖3B是說明實施方式中的玻璃基板的研磨方法的圖。
[0026] 圖3C是說明實施方式中的玻璃基板的研磨方法的圖。
[0027] 圖4是說明本實施方式中的玻璃基板的研磨方法的圖。
【具體實施方式】
[0028] 以下，詳細說明本實施方式的磁盤用玻璃基板以及磁盤。
[0029] [磁盤用玻璃基板]
[0030] 作為本實施方式中的磁盤用玻璃基板的材料，可以使用鋁硅酸鹽玻璃、堿石灰玻 璃、硼硅酸鹽玻璃等。尤其是從可以實施化學強化并且可以制作主表面平坦度和基板強度 優(yōu)異的磁盤用玻璃基板這些方面考慮，可以優(yōu)選使用鋁硅酸鹽玻璃。若為無定形的鋁硅酸 鹽玻璃則進一步優(yōu)選。
[0031] 對本實施方式的磁盤用玻璃基板的組成不作限定，但本實施方式的玻璃基板優(yōu)選 為由如下組成構成的無定形的鋁硅酸鹽玻璃（以下，作為玻璃組成（1)):換算成氧化物基 準，以摩爾％表示，含有50%?75%的Si0 2;l%?15%的Al 203;合計為5%?35%的選自 Li20、Na2(^P K2O中的至少1種成分；合計為0%?20%的選自MgO、CaO、SrO、Ba(^PZnO* 的至少1種成分；以及合計為0%?10%的選自Zr0 2、Ti02、La203、Y20 3、Ta205、Nb2O5和HfO 2 中的至少1種成分。
[0032] 例如如日本特開2009-99239號公報所公開的那樣，本實施方式的玻璃基板也 可以優(yōu)選是由如下組成構成的無定形的鋁硅酸鹽玻璃：以質量％表示，含有57?75%的 SiO2;5?20%的Al 203(但是，SiOdP Al 203的總量在74%以上）；合計超過0%且在6%以 下的21〇2、!1?) 2、恥205、了3205、1^ 203、￥203以及1102;超過1%且在9%以下的1^20 ;5?18% 的Na2O(但是，質量比Li2CVNa2O在0· 5以下）；0?6%的K2O ;0?4%的MgO ;超過0%且 在5%以下的CaO(但是，MgO與CaO的總量在5%以下，而且CaO的含有量多于MgO的含有 量）；以及〇?3%的SrO+BaO。
[0033] 例如如日本專利4815002號所公開的那樣，本實施方式的玻璃基板也可以是具有 如下特征的結晶化玻璃：以氧化物基準的質量％表示，含有45. 60?60%的Si02、7?20% Al2O3U. 00?不足8%的Β203、0· 50?7%的P205、1?15%的TiO2以及總量為5?35%的 R〇(其中，R是Zn以及Mg)的各成分，CaO的含有量是3. 00%以下，BaO的含有量是4%以 下，不含有PbO成分、As2O3成分、Sb 203成分以及Cl \N(T、S02\ F成分，作為主結晶相，含有 從RAl204、R2Ti0 4(其中，R是從Zn、Mg中選擇的1種以上）中選出的一種以上，主結晶相的 結晶粒徑是〇· 5nm?20nm的范圍，結晶度是15%以下，比重是2. 95以下。
[0034] 對于本實施方式的磁盤用玻璃基板的組成，可以是：包含從Si02、Li20、Na 20、 以及由MgO、CaO、SrO及BaO構成的組中選出的一種以上的堿土類金屬氧化物來作為 必須成分，CaO的含有量相對于MgO、CaO、SrO以及BaO的合計含有量的摩爾比（CaO/ (Mg0+Ca0+Sr0+Ba0))在0. 20以下，玻璃態(tài)轉變溫度在650°C以上。這樣的組成的磁盤用玻 璃基板適用于在能量輔助磁記錄用磁盤中使