專利名稱：長形條及晶圓的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁盤驅(qū)動器中的磁頭領(lǐng)域，尤其涉及一種具有多個磁頭的長形條以及具有多個長形條的晶圓。
背景技術(shù)：
包含多個旋轉(zhuǎn)磁盤的硬盤驅(qū)動器被普遍用來將數(shù)據(jù)存儲在其磁盤表面的磁性媒介上，而記錄磁頭則用作在旋轉(zhuǎn)磁盤表面上進行磁性記錄信息。通常，若干個磁頭形成晶圓，而該晶圓將被切成單獨的長形條。每一長形條上包括多個獨立的記錄磁頭。這些長形條上最終會被鋸成單一的磁頭元件，這些磁頭元件則被安裝于硬盤驅(qū)動器的磁頭折片組合上。一種常見的長形條100如圖1所示，其包括多個并列設(shè)置的磁頭形成區(qū)101以及形成在兩個相鄰的磁頭形成區(qū)101之間的磁頭切割區(qū)103。沿著這些磁頭切割區(qū)103，該磁頭形成區(qū)101最終被切割成單一的磁頭102。如圖2a所示，該磁頭102包括前邊111、尾邊 113以及形成于兩者之間的磁頭體112。該尾邊113上具有多個連接觸點118，例如4個，以與磁頭折片組合的懸臂件(圖未示)連接。而一個具有讀寫元件(圖未示)的極尖117被嵌入至尾邊113的中部，用以實現(xiàn)讀寫操作。該磁頭體112面向外部磁盤(圖未示)的一個表面被稱作空氣承載面(air bearing surface，ABS) 114，該空氣承載面114具有一個通過真空蝕刻技術(shù)而形成具有適當深度的凹腔115，以及未被蝕刻的高于凹腔115的空氣承載面圖案(air bearing surface pattern,ABS pattern) 116。當磁盤驅(qū)動單元運行時，磁頭102的空氣承載面114與高速旋轉(zhuǎn)的磁盤之間形成空氣動力學接觸，使得磁頭102動態(tài)地懸浮于磁盤上方，進而實現(xiàn)數(shù)據(jù)的讀寫操作。請參考圖2a，該ABS圖案116為規(guī)則的對稱的圖案。長形條在被鋸成單一元件之前都要進行測試以確保磁頭符合制造規(guī)格。例如，在制造過程中，磁頭極尖的位置對光掩膜和長形條之間的對準十分重要。在一個光掩膜中，極尖與ABS圖案的邊緣的距離是預(yù)定好的，該距離是制造規(guī)格的標準。人們往往渴望在制造后，該距離能與標準值相同或在允許的誤差范圍之內(nèi)。因此，在切割長形條之前，極尖和ABS 圖案的邊緣之間的距離須進行測量。一般情況下，帶筆直邊緣的規(guī)則的ABS圖案，如圖2a_2b中的ABS圖案116的測量是很容易操作的，只需在該圖案上挑選一條筆直的邊緣131作為參照系，繼而用特定的測量機器測量極尖117和該筆直的邊緣131之間的距離。然而，不規(guī)則的ABS圖案的測量則顯得困難。請參考圖2c，其展示了一種不規(guī)則的ABS圖案216，該不對稱的圖案上沒有筆直的邊緣或直線段，從而難以挑選參照系進行測量。在實際操作中，操作員憑經(jīng)驗或隨意挑選一條線211作為參照系來測量其位置與極尖217位置之間的距離。因此，在測量過程中，無可避免甚至經(jīng)常發(fā)生誤差。另外，該誤差值會受不同操作員的不同經(jīng)驗影響。因此，此種測量方法將大大降低測量精度，進而削弱磁頭的性能。因此，亟待一種改進的、易于進行測量動作的長形條和晶圓以克服上述缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的在于提供一種具有帶直線段的規(guī)則測量圖案的長形條，該規(guī)則測量圖案作為測量參照系，以便于測量極尖和ABS圖案的位置，從而提高測量精度，進而改善磁頭的性能。本發(fā)明的另一個目的在于提供一種具有帶直線段的規(guī)則測量圖案的晶圓，該規(guī)則測量圖案作為測量參照系，以便于測量極尖和ABS圖案的位置，從而提高測量精度，進而改善磁頭的性能。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的長形條包括多個排列的磁頭形成區(qū)以及分別形成在每兩個相鄰的所述磁頭形成區(qū)之間的磁頭切割區(qū)，所述磁頭形成區(qū)沿著所述磁頭切割區(qū)最終被切割成單個磁頭，每一所述磁頭具有內(nèi)嵌的極尖以及形成在面向磁盤的空氣承載面上的空氣承載面圖案。其中，至少一個所述磁頭切割區(qū)上設(shè)有一帶直線段的規(guī)則測量圖案，以用作測量所述極尖與所述空氣承載面圖案位置的參照系。在一個優(yōu)選實施例中，所述規(guī)則測量圖案為T形圖案，所述T形圖案具有相互垂直的水平部與垂直部。較佳地，所述水平部的寬度在5um至200um之間，所述垂直部的長度在IOum至 IOOOum 之間。在另一個實施例中，所述規(guī)則測量圖案為十字形圖案或L形圖案。較佳地，所述長形條還包括形成于所述規(guī)則測量圖案下方的覆蓋圖案。較佳地，所述長形條還包括形成于所述磁頭切割區(qū)的標記，用以標識磁頭相對磁盤的不同位置。在一個實施例中，所述標記形成于所述規(guī)則測量圖案上。較佳地，所述標記為T形標記，用以標識位于磁盤上側(cè)的磁頭。較佳地，所述標記為L形標記，用以標識位于磁盤下側(cè)的磁頭。本發(fā)明的晶圓，所述晶圓上搭載至少一長形條，所述長形條包括多個排列的磁頭形成區(qū)以及分別形成在每兩個相鄰的所述磁頭形成區(qū)之間的磁頭切割區(qū)，所述磁頭形成區(qū)沿著所述磁頭切割區(qū)最終被切割成單個磁頭，每一所述磁頭具有內(nèi)嵌的極尖以及形成在面向磁盤的空氣承載面上的空氣承載面圖案，其中，至少一個所述磁頭切割區(qū)上設(shè)有一帶直線段的規(guī)則測量圖案，以用作測量所述極尖與所述空氣承載面圖案位置的參照系。在一個優(yōu)選實施例中，所述規(guī)則測量圖案為T形圖案，所述T形圖案具有相互垂直的水平部與垂直部。較佳地，所述水平部的寬度在5um至200um之間，所述垂直部的長度在IOum至 IOOOum 之間。在另一個實施例中，所述規(guī)則測量圖案為十字形圖案或L形圖案。較佳地，所述長形條還包括形成于所述規(guī)則測量圖案下方的覆蓋圖案。較佳地，所述長形條還包括形成于所述磁頭切割區(qū)的標記，用以標識磁頭相對磁盤的不同位置。在一個實施例中，所述標記形成于所述規(guī)則測量圖案上。較佳地，所述標記為T形標記，用以標識位于磁盤上側(cè)的磁頭。
較佳地，所述標記為L形標記，用以標識位于磁盤下側(cè)的磁頭。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的長形條在其磁頭切割區(qū)上形成有帶直線段的規(guī)則測量圖案，該規(guī)則測量圖案用作測量極尖和ABS圖案的位置的參照系。當測量該長形條時，操作員只需測量直線段和極尖之間的距離，從而測出極尖的位置和ABS圖案的位置是否符合制造規(guī)格?；谠摲N設(shè)置，測量過程被簡化，同時易于操作。而且，測量精度大大提高，誤差率明顯下降，進而提高磁頭的性能。通過以下的描述并結(jié)合附圖，本發(fā)明將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本發(fā)明的實施例。


圖1為具有多個磁頭的傳統(tǒng)長形條結(jié)構(gòu)圖。圖加為圖1所示長形條上的單一磁頭的立體圖。圖2b為圖2所示具有規(guī)則ABS圖案的磁頭的平面圖。圖2c為具有不規(guī)則ABS圖案的磁頭的結(jié)構(gòu)圖。圖3為本發(fā)明的長形條的第一實施例的結(jié)構(gòu)圖。圖4為圖3所示的長形條的局部視圖。圖5為圖4所示的長形條的規(guī)則測量圖案的第一實施例的詳細結(jié)構(gòu)圖。圖6a為本發(fā)明長形條的測量規(guī)則圖案的第二實施例的結(jié)構(gòu)圖。圖6b為本發(fā)明長形條的測量規(guī)則圖案的第三實施例的結(jié)構(gòu)圖。圖7a為本發(fā)明的長形條的第二實施例的結(jié)構(gòu)圖。圖7b為圖7a所示長形條的局部視圖。圖為ABS圖案在第一次光刻中的第一光掩膜的結(jié)構(gòu)圖。圖8b為ABS圖案在第二次光刻中的第二光掩膜的結(jié)構(gòu)圖。圖8c為ABS圖案在第三次光刻中的第三光掩膜的結(jié)構(gòu)圖。圖9a為本發(fā)明的長形條的第三實施例的結(jié)構(gòu)圖。
圖9b為圖9a所示的標記的不同放置方向的變化實施例。圖IOa為本發(fā)明的長形條的第四實施例的結(jié)構(gòu)圖。圖IOb為圖IOa所示的標記的不同放置方向的變化實施例。圖11為本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)的測量誤差的對比框圖。圖12為本發(fā)明的具有多個長形條的晶圓的一個實施例。
具體實施例方式下面將參考附圖闡述本發(fā)明幾個不同的最佳實施例，其中不同圖中相同的標號代表相同的部件。如上所述，本發(fā)明的實質(zhì)在于提供一種長形條，其包括多個排列的磁頭形成區(qū)以及分別形成在每兩個相鄰的所述磁頭形成區(qū)之間的磁頭切割區(qū)，所述磁頭形成區(qū)沿著所述磁頭切割區(qū)最終被切割成單個磁頭，每一所述磁頭具有內(nèi)嵌的極尖以及形成在面向磁盤的空氣承載面上的空氣承載面圖案，其中，至少一個所述磁頭切割區(qū)上設(shè)有一帶直線段的規(guī)則測量圖案，以用作測量所述極尖與所述空氣承載面圖案位置的參照系。本發(fā)明的長形條能提高測量精度、降低測量誤差，從而改善磁頭性能。
圖3展示了本發(fā)明的長形條300的一個實施例的結(jié)構(gòu)，圖4為圖3的長形條300 的局部放大圖。如圖3、4所示，該長形條300包括并列設(shè)置的多個磁頭形成區(qū)301以及形成在每一磁頭形成區(qū)301旁的磁頭切割區(qū)310。具體地，該磁頭切割區(qū)310形成于每兩個相鄰的磁頭形成區(qū)301之間。在磁頭的制造過程中，該磁頭形成區(qū)301最終會沿該磁頭切割區(qū)310被分別切割成單個的磁頭303。如圖所示，每一磁頭303在內(nèi)嵌有極尖305，在其空氣承載面上形成有ABS圖案307。具體地，該極尖305形成在磁頭303靠近其尾邊的中部。 該ABS圖案為不規(guī)則的、不對稱的、沒有筆直邊緣或直線段的圖案。如圖4所示，該磁頭切割區(qū)310上設(shè)有一規(guī)則測量圖案，其為T形圖案320。優(yōu)選地，該T形圖案320設(shè)置在磁頭切割區(qū)310的上部，在極尖305的一旁。需要注意的是，該 T形圖案320可設(shè)置在磁頭切割區(qū)310上的任意位置，并不限于其上部。圖5展示了圖4中的長形條300的規(guī)則測量圖案的詳細結(jié)構(gòu)。如圖所示，該T形圖案320具有相互垂直的水平部321和垂直部322。具體地，該水平部321的長度A在IOum 至IOOOum之間，而垂直部322的寬度B在5um至200um之間。優(yōu)選地，水平部321的長度A 為500um，而垂直部322的寬度B為50um。在本實施例中，該具有直線段的T形圖案320被用作測量極尖305和ABS圖案307邊緣的距離的參照系。例如，請參考圖4，直線段323和直線段234被選作參照系。當對長形條300進行測量時，操作員只需測量直線段323和極尖305之間的距離X，或測量直線段3 和極尖之間的距離Y，從而測出極尖位置和ABS圖案位置是否符合制造規(guī)格。如圖6a及6b所示，本發(fā)明的規(guī)則測量圖案為L形圖案330或十字形圖案340，其皆具有相互垂直的水平部和垂直部，這些具有直線段的水平部和垂直部皆作為參照系。需要注意的是，本發(fā)明的規(guī)則測量圖案并不限于上述實施例，其他帶直線段的規(guī)則形狀均可。圖7a展示了本發(fā)明的長形條的另一實施例，圖7b展示了該長形條的詳細結(jié)構(gòu)。與以上實施例中的長形條300相類似，本實施例的長形條400包括多個沿長形條400的長度方向排列的磁頭形成區(qū)401以及形成于磁頭形成區(qū)401旁的磁頭切割區(qū)410。具體地，該磁頭切割區(qū)410形成于每兩個相鄰的磁頭形成區(qū)401之間。在磁頭的制造過程中，該磁頭形成區(qū)401最終會沿該磁頭切割區(qū)410被分別切割成單個的磁頭403。如圖所示，每一磁頭403在內(nèi)嵌有極尖405，在其空氣承載面上形成有ABS圖案407。具體地，該極尖405形成在磁頭403靠近其尾邊的中部。該ABS圖案為不規(guī)則的、不對稱的、沒有筆直邊緣或直線段的圖案。和圖5所示的長形條300類似，在磁頭切割區(qū)410上形成有T形圖案420，該圖案位于磁頭403的極尖405 —旁。本實施不同于上述實施例的地方在于該磁頭切割區(qū)410 還包括形成在T形圖案420之下的覆蓋圖案430，該覆蓋圖案430和T形圖案420之間形成有間隙。以下是詳細說明。典型地，一些ABS圖案是比較復(fù)雜的，具有多層結(jié)構(gòu)，即，ABS圖案可能具有兩層或三層，甚至更多層。例如，本實施例的ABS圖案407具有三層。因此，此種ABS圖案407的制造比只有一層的ABS圖案更為復(fù)雜。一種為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的制造技術(shù)是光刻技術(shù)。一般地，光刻包括上光刻膠、曝光、烘焙、顯影、蝕刻及去光刻膠等步驟。因此，對于三層的ABS圖案407，需要進行三次光刻，同時需要三種不同的光掩膜。具體地，對于上述ABS圖案407的制造，首先，借助涂膠機將光刻膠涂到長形條的用于形成空氣承載面的表面上；然后將適當曝光光源，如紫外線或激光穿過光掩膜的空心圖案而照射到光刻膠上，使得光刻膠被選擇性地曝光，從而在光刻膠上形成被曝光的區(qū)域； 其次，對光刻膠進行烘焙，使光刻膠牢牢貼在長形條的表面；接著，將光刻膠顯影，用顯影液將被曝光的區(qū)域去掉，從而使長形條的部分表面暴露出來；然后，蝕刻暴露于被曝光區(qū)域的長形條表面，從而在該表面上形成特定的幾何結(jié)構(gòu)；最后，將長形條表面剩余的光刻膠去掉，從而完成ABS圖案的第一層的光刻。請注意，圖所示為第一光掩膜1的圖案。如圖所示，除了 ABS圖案407的第一層441之外，第一覆蓋圖案431形成在第一 T形圖案421的下方。該第一覆蓋圖案431為一矩形，其長度在IOum至IOOOum之間，寬度在5um至200um之間。優(yōu)選地，該長度為500um， 寬度為lOOum。而該第一 T形圖案421的水平部的長度為lOOum，垂直部的寬度為50um。在該第一 T行圖案421和第一覆蓋圖案431之間形成有間隙。在上述光刻的蝕刻工藝后，該第一 T形圖案421和第一覆蓋圖案431的所在區(qū)域未被蝕刻，因此，在下一次的光刻中，此未被蝕刻的新鮮區(qū)域可被利用。易知，在第一次光刻后獲得的圖案和該第一光掩膜1的圖案一致。在第二次光刻中，如圖8b所示，具有第二種圖案的第二光掩膜2被使用。該第二光掩膜2包括ABS圖案407的第二層442、第二 T形圖案422和第二覆蓋圖案432。請參考圖8a-8b，該第二 T形圖案422的長度長于第一 T形圖案421的長度，如，其水平部的長度為300um，垂直部的寬度為50um。而第二覆蓋圖案432的長度則設(shè)為短于第一覆蓋圖案431 的長度，如300um。另外，同樣地，第二 T形圖案422與第二覆蓋圖案432之間的間隙和第一光掩膜1中的間隙一樣。更具體地，第二 T形圖案422、第二覆蓋圖案432和兩者之間的間隙，三者的總長度和第一光掩膜1中的一樣。在第二次光刻的蝕刻工藝中，該第二 T形圖案422的垂直部延伸至第一次光刻保留下來的第一覆蓋圖案431的區(qū)域內(nèi)，以在新鮮的區(qū)域內(nèi)被蝕刻。在第二次光刻之后，所得圖案和第二光掩膜2的圖案一致?；诖嗽O(shè)置，當進行第二次光刻時，第二 T形圖案422被均勻、整齊地形成在上次蝕刻工序中未被蝕刻的新鮮區(qū)域上。因此，第二 T形圖案422的位置和線條仍然很清晰。 即，該第二 T形圖案422的直線段沒有發(fā)生偏移，或與第一 T形圖案421的直線段部分重疊形成雙線，以對測量造成影響。因此，準確的參照系被保持和保護下來。同樣地，如圖8c所示，具有第三種圖案的第三光掩膜3在第三次光刻中用到。其包括ABS圖案407的第三層和第三T形圖案423。在該工藝中，第三T形圖案423的水平部的長度長于第二 T形圖案422，如500um，以使該第三T形圖案423的垂直部能延伸至在第二次光刻保留下來的第二覆蓋圖案432中。在第三次光刻之后，制造出ABS圖案407的第三層。即，完成整個光刻工藝，從而獲得如圖7a或7b所示的ABS圖案407?；诘诙蔚墓饪?，保留了一個未被蝕刻的新鮮區(qū)域，即第二覆蓋圖案432的區(qū)域。這使得第三T形圖案423的直線段不會偏移，或與上一次光刻的形狀重疊以形成雙線， 以對測量造成影響。因此，一個準確、清晰的的參照系被保持和保護下來。更具體地，直線段451、452很清晰，被用作測量極尖和ABS圖案的位置的參照系。換句話說，基于此種設(shè)置， 可大大提高測量的精度。如上所述，覆蓋圖案保證了 T形圖案不被破壞。因為受破壞的圖案會對操作員在選取直線段作為測量參照系時造成擾亂。因此，此種設(shè)置，大大提高測量精度以及測量速
一般地，當硬盤驅(qū)動器運行時，有兩組磁頭分別在旋轉(zhuǎn)磁盤的上下兩側(cè)同時飛行。 而在磁盤兩側(cè)的磁頭在內(nèi)外部稍有區(qū)別，而這些區(qū)別很小，難于用視覺進行區(qū)分。因此，本發(fā)明在長形條的ABS上形成標記，以區(qū)分上側(cè)磁頭和下側(cè)磁頭。圖9a展示了本發(fā)明具有標記的長形條的一個實施例。該長形條500的結(jié)構(gòu)和第一個實施例大致相同，區(qū)別僅在于該長形條500的磁頭切割區(qū)502上形成有一標記。具體地，該標記形成在T形圖案320上。更具體地，該標記為T形標記501，用以標識位于磁盤上側(cè)的磁頭。至于T形標記501的放置方向，可人為進行更改。例如，如圖9b所示，T形標記 501有多種不同的放置方向用以標示不同類型的長形條。圖IOa展示了本發(fā)明具有標記的長形條的另一實施例。該長形條600的結(jié)構(gòu)和第一個實施例大致相同，區(qū)別僅在于該長形條600的磁頭切割區(qū)602上形成有一標記。具體地，該標記形成在T形圖案320上。更具體地，該標記為L形標記601，用以標識位于磁盤下側(cè)的磁頭。至于T形標記601的放置方向，可人為進行更改。例如，如圖IOb所示，L形標記601有多種不同的放置方向。如上所述，T形標記和L形標記分別形成在長形條的磁頭切割區(qū)域，以使操作員在視覺上對磁盤的上側(cè)和下側(cè)的磁頭輕易進行區(qū)分。這些標記簡單，且易于記憶。因此，長形條上的磁頭不會被混淆或弄錯，從而降低了誤差率。綜上所述，相較現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的長形條的磁頭切割區(qū)上設(shè)有帶直線段的規(guī)則測量圖案，其用作測量極尖和ABS圖案位置的參照系。當對長形條進行測量，操作者只需測量直線段和極尖之間的距離，從而測出極尖的位置和ABS圖案的位置是否符合制造規(guī)格。 基于該種設(shè)置，測量過程被簡化，同時易于操作。而且，測量精度大大提高，誤差率明顯下降，進而提高磁頭的性能。本發(fā)明和現(xiàn)有技術(shù)的測量誤差的對比框圖如圖11所示，其中，帶斜線陰影的矩形框代表現(xiàn)有技術(shù)，帶方格陰影的矩形框則代表本發(fā)明。圖中兩項數(shù)據(jù)分別展示了圖4中的距離X和Y。相比之下，可知，本發(fā)明的測量誤差遠遠小于現(xiàn)有技術(shù)。圖12展示了本發(fā)明具有多個長形條300的晶圓的一個實施例。如圖所示，該晶圓 700在其上搭載了多個長形條300。由于長形條300的詳細結(jié)構(gòu)已在上述實施例描述，因此在此省略其描述。需要注意的是，上述實施例的長形條均適用于此，晶圓700的長形條的等同變形均涵蓋在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。以上所揭露的僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，當然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，因此依本發(fā)明申請專利范圍所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
1.一種長形條，包括多個排列的磁頭形成區(qū)以及分別形成在每兩個相鄰的所述磁頭形成區(qū)之間的磁頭切割區(qū)，所述磁頭形成區(qū)沿著所述磁頭切割區(qū)最終被切割成單個磁頭，每一所述磁頭具有內(nèi)嵌的極尖以及形成在面向磁盤的空氣承載面上的空氣承載面圖案，其特征在于至少一個所述磁頭切割區(qū)上設(shè)有一帶直線段的規(guī)則測量圖案，以用作測量所述極尖與所述空氣承載面圖案位置的參照系。
2.如權(quán)利要求1所述的長形條，其特征在于所述規(guī)則測量圖案為T形圖案，所述T形圖案具有相互垂直的水平部與垂直部。
3.如權(quán)利要求2所述的長形條，其特征在于所述水平部的寬度在5um至200um之間， 所述垂直部的長度在IOum至IOOOum之間。
4.如權(quán)利要求1所述的長形條，其特征在于所述規(guī)則測量圖案為十字形圖案或L形圖案。
5.如權(quán)利要求1所述的長形條，其特征在于所述長形條還包括形成于所述規(guī)則測量圖案下方的覆蓋圖案。
6.如權(quán)利要求1所述的長形條，其特征在于所述長形條還包括形成于所述磁頭切割區(qū)的標記，用以標識磁頭相對磁盤的不同位置。
7.如權(quán)利要求6所述的長形條，其特征在于所述標記形成于所述規(guī)則測量圖案上。
8.如權(quán)利要求6所述的長形條，其特征在于所述標記為T形標記，用以標識位于磁盤上側(cè)的磁頭。
9.如權(quán)利要求6所述的長形條，其特征在于所述標記為L形標記，用以標識位于磁盤下側(cè)的磁頭。
10.一種晶圓，所述晶圓上搭載至少一長形條，所述長形條包括多個排列的磁頭形成區(qū)以及分別形成在每兩個相鄰的所述磁頭形成區(qū)之間的磁頭切割區(qū)，所述磁頭形成區(qū)沿著所述磁頭切割區(qū)最終被切割成單個磁頭，每一所述磁頭具有內(nèi)嵌的極尖以及形成在面向磁盤的空氣承載面上的空氣承載面圖案，其特征在于至少一個所述磁頭切割區(qū)上設(shè)有一帶直線段的規(guī)則測量圖案，以用作測量所述極尖與所述空氣承載面圖案位置的參照系。
11.如權(quán)利要求10所述的晶圓，其特征在于所述規(guī)則測量圖案為T形圖案，所述T形圖案具有相互垂直的水平部與垂直部。
12.如權(quán)利要求11所述的晶圓，其特征在于所述水平部的寬度在5um至200um之間， 所述垂直部的長度在IOum至IOOOum之間。
13.如權(quán)利要求10所述的晶圓，其特征在于所述規(guī)則測量圖案為十字形圖案或L形圖案。
14.如權(quán)利要求10所述的晶圓，其特征在于所述長形條還包括形成于所述規(guī)則測量圖案下方的覆蓋圖案。
15.如權(quán)利要求10所述的晶圓，其特征在于所述長形條還包括形成于所述磁頭切割區(qū)的標記，用以標識磁頭相對磁盤的不同位置。
16.如權(quán)利要求15所述的晶圓，其特征在于所述標記形成于所述規(guī)則測量圖案上。
17.如權(quán)利要求15所述的晶圓，其特征在于所述標記為T形標記，用以標識位于磁盤上側(cè)的磁頭。
18.如權(quán)利要求15所述的晶圓，其特征在于所述標記為L形標記，用以標識位于磁盤下側(cè)的磁頭。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種長形條，包括多個排列的磁頭形成區(qū)以及分別形成在每兩個相鄰的所述磁頭形成區(qū)之間的磁頭切割區(qū)，所述磁頭形成區(qū)沿著所述磁頭切割區(qū)最終被切割成單個磁頭，每一所述磁頭具有內(nèi)嵌的極尖以及形成在面向磁盤的空氣承載面上的空氣承載面圖案，其中，至少一個所述磁頭切割區(qū)上設(shè)有一帶直線段的規(guī)則測量圖案，以用作測量所述極尖與所述空氣承載面圖案位置的參照系。本發(fā)明的長形條能提高測量精度、降低測量誤差，從而改善磁頭性能。
文檔編號G11B5/127GK102270457SQ20101020104
公開日2011年12月7日 申請日期2010年6月3日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月3日
發(fā)明者尹輝, 李濟波, 梁響華, 金則清 申請人:新科實業(yè)有限公司