專利名稱：：光學(xué)頭力矩器及光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思涉及一種光學(xué)頭力矩器(opticalpickupactuator)及光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置，更具體地，涉及一種能夠沿四個(gè)方向驅(qū)動(dòng)物鏡的光學(xué)頭力矩器以及具有該光學(xué)頭力矩器的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置。
背景技術(shù)：
：光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置包括將激光束照射到光學(xué)記錄介質(zhì)(例如壓縮盤(CD，compactdisc)或數(shù)字多功能盤(DVD，digitalversatiledisc))上的光學(xué)頭(opticalpickup)，以將信息記錄到光學(xué)記錄介質(zhì)上或再現(xiàn)來自光學(xué)記錄介質(zhì)的信息。光學(xué)頭需要具有物鏡和光學(xué)頭力矩器的光學(xué)系統(tǒng)，該物鏡將激光束聚焦在光學(xué)記錄介質(zhì)上，該光學(xué)頭力矩器沿聚焦方向和循跡方向(trackingdirection)驅(qū)動(dòng)物鏡。圖1是示意地示出光學(xué)頭力矩器的示例的側(cè)視圖，圖2是示出圖1的光學(xué)頭力矩器在其進(jìn)行切線傾斜驅(qū)動(dòng)后的側(cè)視圖。在圖1中，光學(xué)頭力矩器1包括基底2、安裝在基底2—側(cè)上的接線座(wireholder)3、具有物鏡L的透鏡架(lensholder)4以及多根線5，多根線5將接線座3連接到透鏡架4并支撐透鏡架4。光學(xué)頭力矩器1還包括磁體6和線圈7以向具有物鏡L的透鏡架4提供電磁力。在光學(xué)頭力矩器1中，與驅(qū)動(dòng)物鏡L的電磁力的產(chǎn)生相關(guān)的一組磁體6和線圈7通常被稱為磁路。透鏡架4可以被由磁體6和線圈7之間的相互作用產(chǎn)生的電磁力沿四個(gè)方向驅(qū)動(dòng)。更具體地，透鏡架4可以沿聚焦方向F被驅(qū)動(dòng)以便接近或遠(yuǎn)離盤D;或沿盤D的徑向方向在循跡方向R驅(qū)動(dòng)以橫越盤D上的軌道；或沿徑向傾斜方向RT驅(qū)動(dòng)以便繞平行于軌道的切線方向T的旋轉(zhuǎn)軸傾斜；或沿切線傾斜方向TT驅(qū)動(dòng)以便繞平行于循跡方向R的旋轉(zhuǎn)軸傾斜。能夠沿四個(gè)方向驅(qū)動(dòng)透鏡架4的光學(xué)頭力矩器1通常稱作"四軸驅(qū)動(dòng)光學(xué)頭力矩器"。參照?qǐng)D2，當(dāng)在盤D的保存或使用期間沿循跡方向R形成彎曲(curvature)時(shí)，透鏡架4可以沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)。更具體地，當(dāng)盤D設(shè)置為平行于如圖l所示的物鏡L時(shí)，不需要沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)透鏡架4?；蛘?，當(dāng)盤D繞平行于循跡方向R的軸傾斜時(shí)，光學(xué)頭力矩器1沿切線傾斜方向TT驅(qū)動(dòng)透鏡架4使得透鏡架4變得平行于盤D。沿切線傾斜方向的驅(qū)動(dòng)(也就是，切線傾斜驅(qū)動(dòng))使得可以平穩(wěn)地進(jìn)行物鏡L的聚焦和循跡。然而，如圖2所示，在切線傾斜驅(qū)動(dòng)期間，線圈7與磁體6之間的間隙沿聚焦方向F不規(guī)則地改變。間隙的這種改變會(huì)引起磁體6作用于線圈7的磁通量的變化。此外，用于支撐透鏡架4的多根線5會(huì)彎曲，使得多根線5的支撐透鏡架4的支撐力也會(huì)改變。因此，在切線傾斜驅(qū)動(dòng)期間，線圈7與磁體6之間的間隙的變化和多根線5的彎曲會(huì)導(dǎo)致聚焦驅(qū)動(dòng)、循跡驅(qū)動(dòng)和徑向傾斜驅(qū)動(dòng)的穩(wěn)定性的惡化。換句話說，驅(qū)動(dòng)物鏡L的伺服控制特性會(huì)惡化。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施例能提供一種光學(xué)頭力矩器以及具有該光學(xué)頭力矩器的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置，該光學(xué)頭力矩器能夠在沿四個(gè)方向驅(qū)動(dòng)物鏡時(shí)防止伺服控制特性的惡化。本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的其它實(shí)施例將在以下的描述中部分地闡述，并從該描述而變得部分清楚，或者可以通過本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的實(shí)踐而習(xí)知。本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例可以通過提供一種光學(xué)頭力矩器而實(shí)現(xiàn)，該光學(xué)頭力矩器包括三軸驅(qū)動(dòng)單元，分別沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)物鏡以將激光束聚焦在盤上；以及切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元，沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)三軸驅(qū)動(dòng)單元以沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)物鏡。切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元可以包括樞軸支撐物(pivotsu卯ort)，支撐三軸驅(qū)動(dòng)單元繞平行于循跡方向的軸樞軸旋轉(zhuǎn)；以及切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路，提供能夠使三軸驅(qū)動(dòng)單元繞平行于循跡方向的軸樞軸旋轉(zhuǎn)的電磁力。三軸驅(qū)動(dòng)單元可以包括基底(base);第一接線座和第二接線座，在基底上沿切線方向彼此分隔開；透鏡架，設(shè)置在第一接線座與第二接線座之間并以預(yù)定距離與基底間隔開，該透鏡架具有物鏡；多根線，其第一端連接到第一接線座和第二接線座之一而第二端連接到透鏡架，以支撐透鏡架；以及三軸驅(qū)動(dòng)磁路，沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向驅(qū)動(dòng)透鏡架。切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路可以包括一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈，裝設(shè)到第一接線座；一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈，裝設(shè)到第二接線座；一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體，設(shè)置為面對(duì)一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈；以及一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體，設(shè)置為面對(duì)一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈。由一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈和一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體產(chǎn)生的電磁力可以沿與由一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈和一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體產(chǎn)生的電磁力相反的方向流動(dòng)。切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路還可以包括第一切線傾斜軛(firsttangential-tiltyoke)和第二切線傾斜軛，一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體和一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體分別裝設(shè)到其上?！獋€(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈和一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈可以成對(duì)地設(shè)置并沿循跡方向裝設(shè)到第一接線座的相對(duì)側(cè)和第二接線座的相對(duì)側(cè)。一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體和一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體可以成對(duì)地設(shè)置。切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路還可以包括一對(duì)第一切線傾斜軛和一對(duì)第二切線傾斜軛，一對(duì)第一切線傾斜磁體裝設(shè)到該對(duì)第一切線傾斜軛，一對(duì)第二切線傾斜磁體裝設(shè)到該對(duì)第二切線傾斜軛。樞軸支撐物可以包括一對(duì)板彈簧(leafspring)，該對(duì)板彈簧設(shè)置為沿循跡方向彼此面對(duì)以支撐基底的下側(cè)。切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元還可以包括支撐構(gòu)件，以支撐第一切線傾斜軛和第二切線傾斜軛以及該對(duì)板彈簧。支撐構(gòu)件可以與第一切線傾斜軛和第二切線傾斜軛整體地形成。本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施例還可以通過提供一種光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置來實(shí)現(xiàn)，該光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置包括光學(xué)頭，將信息記錄在盤上/再現(xiàn)來自盤的信息；驅(qū)動(dòng)單元，驅(qū)動(dòng)光學(xué)頭；以及控制單元，控制驅(qū)動(dòng)單元。光學(xué)頭可以包括光學(xué)系統(tǒng)，檢測(cè)從盤反射的激光束，該光學(xué)系統(tǒng)具有物鏡以將激光束聚焦在盤上；以及光學(xué)頭力矩器，驅(qū)動(dòng)物鏡。光學(xué)頭力矩器可以包括三軸驅(qū)動(dòng)單元，分別沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)物鏡；以及切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元，沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)三軸驅(qū)動(dòng)單元以沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)物鏡。對(duì)于本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的光學(xué)頭力矩器以及光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置，可以防止由物鏡的切線傾斜驅(qū)動(dòng)引起的物鏡的聚焦驅(qū)動(dòng)、循跡驅(qū)動(dòng)和徑向傾斜驅(qū)動(dòng)的不穩(wěn)定性。與相關(guān)技術(shù)相比，還可以提高物鏡的伺服控制特性。從以下結(jié)合附圖的對(duì)實(shí)施例的描述，本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的這些和/或其它的實(shí)施例將變得明顯并更易于理解，附圖中圖1是示意地示出光學(xué)頭力矩器的示例的側(cè)視圖；圖2是示出圖1的光學(xué)頭力矩器在執(zhí)行切線傾斜驅(qū)動(dòng)后的側(cè)視圖；圖3是示出根據(jù)本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的示意圖；圖4是示出根據(jù)本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的光學(xué)頭力矩器的示意性透視圖；圖5是示出圖4的光學(xué)頭力矩器的平面圖；圖6是示出圖4的光學(xué)頭力矩器的部分分解透視圖；圖7是示出當(dāng)透鏡架已經(jīng)從光學(xué)頭力矩器移除后在圖6中示出的三軸驅(qū)動(dòng)單元的元件的示意圖；以及圖8是示出圖4的光學(xué)頭力矩器在執(zhí)行切線傾斜驅(qū)動(dòng)之后的側(cè)視圖。具體實(shí)施例方式現(xiàn)在將詳細(xì)地說明本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例，本發(fā)明實(shí)施例的示例在附圖中被示出，在附圖中相似的附圖標(biāo)記始終指代相似的元件。實(shí)施例在下面被描述從而通過參照附圖解釋本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思。圖3是示出根據(jù)本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置的示意圖。在圖3中，光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置可以包括主軸馬達(dá)IO，用于使盤D旋轉(zhuǎn)；光學(xué)頭(opticalpickup)20，將信息記錄在盤D上/再現(xiàn)來自盤D的信息；驅(qū)動(dòng)單元30，驅(qū)動(dòng)主軸馬達(dá)10和光學(xué)頭20;以及控制單元40，控制驅(qū)動(dòng)單元30以驅(qū)動(dòng)光學(xué)頭20。這里，附圖標(biāo)記50表示盤D安置在其上的轉(zhuǎn)盤(turntable)，附圖標(biāo)記60表示卡住或夾住盤D的夾具(clamp)。光學(xué)頭20可以包括光學(xué)系統(tǒng)，包括物鏡L以將激光束聚焦在盤D上；以及光學(xué)頭力矩器100(見圖4)，相對(duì)于盤D來移動(dòng)物鏡L。以下將更詳細(xì)地描述光學(xué)頭力矩器100。光學(xué)頭20可以檢測(cè)從盤D反射的激光束，可以將所檢測(cè)的激光束轉(zhuǎn)換成電信號(hào)，并可以將該電信號(hào)傳輸?shù)津?qū)動(dòng)單元30。驅(qū)動(dòng)單元30可以響應(yīng)由控制單元40提供的控制信號(hào)來驅(qū)動(dòng)主軸馬達(dá)10和光學(xué)頭20，并可以將有關(guān)主軸馬達(dá)10的速度的數(shù)據(jù)以及從光學(xué)頭20接收的信號(hào)發(fā)送到控制單元40?？刂茊卧?0可以基于關(guān)于主軸馬達(dá)10的速度的數(shù)據(jù)向驅(qū)動(dòng)單元30提供控制主軸馬達(dá)10的控制信號(hào)并可以基于從光學(xué)頭20接收的信號(hào)向驅(qū)動(dòng)單元30提供控制光學(xué)頭20的控制信號(hào)。圖4是示出根據(jù)本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的光學(xué)頭力矩器100的示意性透視圖；圖5是示出圖4的光學(xué)頭力矩器100的平面圖；圖6是示出圖4的光學(xué)頭力矩器100的部分分解透視圖；圖7是示出當(dāng)透鏡架240已經(jīng)從光學(xué)頭力矩器100移除后在圖6中示出的三軸驅(qū)動(dòng)單元200的元件的示意圖；以及圖8是示出圖4的光學(xué)頭力矩器100執(zhí)行切線傾斜驅(qū)動(dòng)之后圖4的光學(xué)頭力矩器100的側(cè)視圖。參照?qǐng)D4到圖6，光學(xué)頭力矩器100可以包括三軸驅(qū)動(dòng)單元200和切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元300，如圖6所示。三軸驅(qū)動(dòng)單元200可以分別沿聚焦方向F、循跡方向R和徑向傾斜方向RT單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)物鏡L。換句話說，三軸驅(qū)動(dòng)單元200可以單獨(dú)地執(zhí)行物鏡L的聚焦驅(qū)動(dòng)、循跡驅(qū)動(dòng)和徑向傾斜驅(qū)動(dòng)。如圖4-6所示，三軸驅(qū)動(dòng)單元200可以包括基底210、第一接線座220、第二接線座230、透鏡架240、多根線250以及三軸驅(qū)動(dòng)磁路，該三軸驅(qū)動(dòng)磁路沿聚焦方向F、循跡方向R和徑向傾斜方向RT驅(qū)動(dòng)具有物鏡L的透鏡架240。以下將參照?qǐng)D7更詳細(xì)地描述三軸驅(qū)動(dòng)磁路。參照?qǐng)D4-6，基底210可以采取在中心具有孔的板的形式，并可以提供三軸驅(qū)動(dòng)單元200的除基底210之外的元件可安裝在其中的空間，然而本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思不限于此。此外，一對(duì)臂211和212可以從基底210的相對(duì)側(cè)沿循跡方向R延伸以使三軸驅(qū)動(dòng)單元200能夠易于被后面將描述的切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元300支撐。第一接線座220和第二接線座230可以具有基本矩形的形狀，并可以沿切線方向T安裝在基底210的相對(duì)側(cè)，然而本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思不限于第一接線座和第二接線座的任何特定形狀。如圖4所示，第一接線座220可以設(shè)置在基底210的左側(cè)，第二接線座230可以設(shè)置在基底210的右側(cè)。透鏡架240可以基本設(shè)置在基底210的在第一接線座220與第二接線座230之間的中心上。透鏡座240可以包括具有敞開的上端和下端的內(nèi)中空部，并可以具有基本長(zhǎng)方體的形狀，但本發(fā)明不限于此。物鏡L安裝在其上的透鏡安裝部件241可以形成在透鏡架240的上中心部上，一對(duì)線連接構(gòu)件242和243可以沿循跡方向R形成在透鏡座240的相對(duì)側(cè)，多根線250中的每根裝設(shè)到該對(duì)線連接構(gòu)件242和243。多根線250通常稱作懸線(suspension)。多根線250的第一端可以固定到第一接線座220或第二接線座230，多根線250的第二端可以通過焊接裝設(shè)到線連接構(gòu)件242或243。因此，多根線250可以支撐透鏡架240，使得透鏡架240可以與基底210間隔開預(yù)定距離。此外，多根線250可以向包括在三軸驅(qū)動(dòng)單元200的三軸驅(qū)動(dòng)磁路中的線圈供應(yīng)電流。如圖7所示，三軸驅(qū)動(dòng)磁路可以設(shè)置為沿聚焦方向F、循跡方向R和徑向傾斜方向RT驅(qū)動(dòng)具有物鏡L的透鏡架240。參照?qǐng)D7，三軸驅(qū)動(dòng)磁路可以包括第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261、第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262、第一循跡線圈271、第二循跡線圈272、第一聚焦/徑向傾斜線圈273、第二聚焦/徑向傾斜線圈274、一對(duì)外軛281以及兩對(duì)內(nèi)軛282、283。第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262可以沿切線方向T分隔并彼此面對(duì)，透鏡架240(見圖5)插設(shè)在兩者之間。第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262可以產(chǎn)生磁通量以沿聚焦方向F、循跡方向R和/或徑向傾斜方向RT驅(qū)動(dòng)透鏡架240。如圖7所示，第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262中的每個(gè)可以構(gòu)造為一組兩個(gè)磁體的形式，也就是極性磁體(polarmagnet)，然而本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思不限于此。換句話說，第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261可以包括N極指向透鏡架240的第一部分261a和S極指向透鏡架240的第二部分261b。此外，第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262可以包括N極指向透鏡架240的第一部分262a和S極指向透鏡架240的第二部分262b。第一循跡線圈271和第二循跡線圈272可以沿切線方向裝設(shè)到透鏡架240的相對(duì)側(cè)，并可以以矩形形狀重復(fù)地纏繞，如圖7所示。第一循跡線圈271可以設(shè)置為磁通量通過其從第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261的第一部分261a流動(dòng)到第二部分261b，因此如果電流流經(jīng)第一循跡線圈271，根據(jù)弗萊明(Fleming)左手定則，第一循跡線圈271會(huì)受到作用在循跡方向R的電磁力。類似地，當(dāng)電流流經(jīng)第二循跡線圈272時(shí)，通過與第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262的磁通量相互作用，第二循跡線圈272會(huì)受到作用在循跡方向R的電磁力。因此，通過控制流經(jīng)第一循跡線圈271和第二循跡線圈272的電流的方向和電流量，可以驅(qū)動(dòng)透鏡架240，第一循跡線圈271和第二循跡線圈272沿循跡方向R裝設(shè)到透鏡架240。第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274可以裝設(shè)到透鏡架240的內(nèi)部，并可以沿平行于基底210的方向重復(fù)地纏繞。第一聚焦/徑向傾斜線圈273能夠被由第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261的第一部分26la和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262的第一部分262a產(chǎn)生的磁通量影響。所產(chǎn)生的磁通量可以流經(jīng)第一聚焦/徑向傾斜線圈273的沿切線方向彼此面對(duì)的兩個(gè)部分273a、273b。因此，當(dāng)電流流經(jīng)第一聚焦/徑向傾斜線圈273時(shí)，第一聚焦/徑向傾斜線圈273會(huì)根據(jù)弗萊明左手定則受到作用在聚焦方向F的電磁力。類似地，當(dāng)電流流經(jīng)第二聚焦/徑向傾斜線圈274時(shí)，由第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261的第二部分261b和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262的第二部分262b所產(chǎn)生的磁通量可以引起作用在聚焦方向F的電磁力，該電磁力產(chǎn)生在第二聚焦/徑向傾斜線圈274的沿切線方向彼此面對(duì)的兩個(gè)部分274a、274b中。因此，通過控制流經(jīng)第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274的電流的方向和電流的量，可以沿聚焦方向F或徑向傾斜方向RT驅(qū)動(dòng)透鏡架240，第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274裝設(shè)到透鏡架240。例如，為了沿聚焦方向F驅(qū)動(dòng)透鏡架240，流經(jīng)第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274的電流的方向可以被控制為作用在相同方向的電磁力可以施加到第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274。此外，為了沿徑向傾斜方向RT驅(qū)動(dòng)透鏡座240，流經(jīng)第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274的電流的方向可以被控制為作用在相反方向的電磁力可以施加到第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274。—對(duì)外軛281可以設(shè)置為與基底210垂直，透鏡架240插設(shè)在該對(duì)外軛281之間。在本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例中，一對(duì)外軛281可以與基底210整體地形成。該對(duì)外軛281可以支撐第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262，并可以引導(dǎo)由第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262產(chǎn)生的磁通量，使得磁通量可以集中地流向透鏡座240。兩對(duì)內(nèi)軛282、283可以分別設(shè)置在第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274內(nèi)。在本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例中，兩對(duì)內(nèi)軛282、283可以與基底210整體地形成。兩對(duì)內(nèi)軛282、283可以引導(dǎo)由第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262產(chǎn)生的磁通量，使得磁通量可以流向第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274。如上所述，三軸驅(qū)動(dòng)單元200可以包括三軸驅(qū)動(dòng)磁路，該三軸驅(qū)動(dòng)磁路包括第一三軸驅(qū)動(dòng)磁體261和第二三軸驅(qū)動(dòng)磁體262、第一循跡線圈271和第二循跡線圈272、第一聚焦/徑向傾斜線圈273和第二聚焦/徑向傾斜線圈274以及軛281、282、283。因此，三軸驅(qū)動(dòng)單元200可以采用三軸驅(qū)動(dòng)磁路沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向驅(qū)動(dòng)物鏡L。切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元300可以沿切線傾斜方向TT驅(qū)動(dòng)三軸驅(qū)動(dòng)單元200，使得安裝在透鏡架240中的物鏡L也可以沿切線傾斜方向TT驅(qū)動(dòng)。參照?qǐng)D4到圖6，切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元300可以包括支撐構(gòu)件310、樞軸支撐物320和切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路。支撐構(gòu)件310可以具有矩形板的形狀，并可以提供能夠安裝切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元300的除支撐構(gòu)件310之外的元件的空間，然而本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思不限于此。樞軸支撐物320可以包括一對(duì)板彈簧(leafspring)321、322，該對(duì)板彈簧321、322可以沿循跡方向R安裝在支撐構(gòu)件310的相對(duì)的端部以彼此面對(duì)。該對(duì)板彈簧321、322可以與從三軸驅(qū)動(dòng)單元200的基底210延伸的一對(duì)臂211、212的下表面接觸，以支撐三軸驅(qū)動(dòng)單元200可繞平行于循跡方向R的軸樞軸旋轉(zhuǎn)。盡管如圖6所示在本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例中一對(duì)板彈簧321、322可以設(shè)置為支撐三軸驅(qū)動(dòng)單元200，但是對(duì)該板彈簧的形狀或者尺寸沒有限制。因此，本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思還可以應(yīng)用到能夠支撐三軸驅(qū)動(dòng)單元200的任何元件，使得三軸驅(qū)動(dòng)單元200能夠繞平行于循跡方向R的軸樞軸旋轉(zhuǎn)。參照?qǐng)D6，切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路可以包括一對(duì)第一切線傾斜線圈331、一對(duì)第二切線傾斜線圈332、一對(duì)第一切線傾斜磁體341、一對(duì)第二切線傾斜磁體342、一對(duì)第一切線傾斜軛351和一對(duì)第二切線傾斜軛352。成對(duì)的第一切線傾斜線圈331和第二切線傾斜線圈332可以以矩形的形狀重復(fù)地纏繞。成對(duì)的第一切線傾斜線圈331可以分別沿循跡方向R裝設(shè)到第一接線座220的相對(duì)側(cè)。成對(duì)的第二切線傾斜線圈332可以分別沿循跡方向R裝設(shè)到第二接線座230的相對(duì)側(cè)。第一切線傾斜磁體341和第二切線傾斜磁體342可以成對(duì)地設(shè)置。成對(duì)的第一切線傾斜磁體341可以設(shè)置在支撐構(gòu)件310的左前側(cè)和左后側(cè)，以面對(duì)成對(duì)的第一切線傾斜線圈331。此外，成對(duì)的第二切線傾斜磁體342可以設(shè)置在支撐構(gòu)件310的右前側(cè)和右后側(cè)，以面對(duì)成對(duì)的第二切線傾斜線圈332。四個(gè)切線傾斜磁體341和342可以構(gòu)造為其上部為N極而下部為S極的條形磁體。而且，由四個(gè)切線傾斜磁體341、342產(chǎn)生的磁通量可以流經(jīng)切線傾斜線圈331、332。第一切線傾斜軛351和第二切線傾斜軛352可以成對(duì)地以矩形條的形式設(shè)置。成對(duì)的第一切線傾斜軛351可以彼此面對(duì)且在支撐構(gòu)件310的左前側(cè)和左后側(cè)，成對(duì)的第一9切線傾斜磁體341可以每個(gè)附著到成對(duì)的第一切線傾斜軛351的內(nèi)壁以支撐成對(duì)的第一切線傾斜軛351。此外，成對(duì)的第二切線傾斜軛352可以彼此面對(duì)且在支撐構(gòu)件310的右前側(cè)和右后側(cè)，成對(duì)的第二切線傾斜磁體342可以每個(gè)附著到成對(duì)的第二切線傾斜軛352的內(nèi)壁以支撐成對(duì)的第二切線傾斜軛352。四個(gè)切線傾斜軛351、352可以支撐四個(gè)切線傾斜磁體341、342，使得由四個(gè)切線傾斜磁體341、342產(chǎn)生的磁通量可以聚焦在面對(duì)四個(gè)切線傾斜磁體341、342的四個(gè)切線傾斜線圈331、332上。參照?qǐng)D6到圖8，切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路可以沿切線傾斜方向TT驅(qū)動(dòng)三軸驅(qū)動(dòng)單元200，切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路包括四個(gè)切線傾斜線圈331、332、四個(gè)切線傾斜磁體341、342和四個(gè)切線傾斜軛351、352。換句話說，切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路可以允許三軸驅(qū)動(dòng)單元200繞平行于循跡方向R的中心軸傾斜，如圖6-8所示。例如，參照?qǐng)D6，在切線傾斜驅(qū)動(dòng)期間，電流可以施加到四個(gè)切線傾斜線圈331、332中的每個(gè)。成對(duì)的第一切線傾斜線圈331能夠通過與成對(duì)的第一切線傾斜磁體341相互作用而受到沿聚焦方向產(chǎn)生的電磁力。類似地，成對(duì)的第二切線傾斜線圈332能夠通過與成對(duì)的第二切線傾斜磁體342相互作用而受到沿聚焦方向產(chǎn)生的電磁力。在此情況下，施加到成對(duì)的第一切線傾斜線圈331的電流L能夠沿與施加到成對(duì)的第二切線傾斜線圈332的電流12相反的方向流動(dòng)，如圖6所示。例如，如果電流L順時(shí)針流動(dòng)，電路12可以逆時(shí)針流動(dòng)，或者備選地，如果電流L逆時(shí)針流動(dòng)，電流12可以順時(shí)針流動(dòng)。如圖8所示，施加到成對(duì)的第一切線傾斜線圈331的電磁力Pl可以向上作用，而施加到成對(duì)的第二切線傾斜線圈332的電磁力P2可以向下作用。備選地，當(dāng)電磁力P1向下作用時(shí)，電磁力P2可以向上作用。因此，三軸驅(qū)動(dòng)單元200(見圖6)可以通過電磁力Pl、P2而繞平行于循跡方向R的中心軸旋轉(zhuǎn)預(yù)定角度，從而可以沿切線傾斜方向TT驅(qū)動(dòng)物鏡L，如圖8所示。因此，即使當(dāng)物鏡L沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)，也可以均勻地保持透鏡架240與三軸驅(qū)動(dòng)磁體261、262之間的間隙，從而透鏡架240中的線圈271到274與三軸驅(qū)動(dòng)磁體261、262之間的距離也可以保持恒定，如圖8所示。因此，可以防止支撐透鏡架240的多根線250的彎曲。因此，對(duì)于本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的光學(xué)頭力矩器100，可以防止由于物鏡L的切線傾斜驅(qū)動(dòng)引起的聚焦驅(qū)動(dòng)、循跡驅(qū)動(dòng)和徑向傾斜驅(qū)動(dòng)的不穩(wěn)定性。還可以提供具有物鏡L的改善的伺服控制特性的四軸驅(qū)動(dòng)光學(xué)頭力矩器。盡管已經(jīng)示出并描述了本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的幾個(gè)實(shí)施例，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在這些實(shí)施例中可以進(jìn)行變化而不背離本發(fā)明總的發(fā)明構(gòu)思的精神和范圍，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求書及其等同物限定。本申請(qǐng)要求于2008年12月15日提交到韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的韓國(guó)專利申請(qǐng)No.10-2008-0127366的優(yōu)先權(quán)，其全部?jī)?nèi)容在此引入以做參考。權(quán)利要求一種光學(xué)頭力矩器，包括三軸驅(qū)動(dòng)單元，分別沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)物鏡以將激光束聚焦在盤上；以及切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元，沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述三軸驅(qū)動(dòng)單元以沿所述切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述物鏡。2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元包括樞軸支撐物，支撐所述三軸驅(qū)動(dòng)單元繞平行于所述循跡方向的軸樞軸旋轉(zhuǎn)；以及切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路，提供能夠使所述三軸驅(qū)動(dòng)單元繞平行于所述循跡方向的軸樞軸旋轉(zhuǎn)的電磁力。3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述三軸驅(qū)動(dòng)單元包括基底；第一接線座和第二接線座，在所述基底上沿切線方向彼此分隔開；具有所述物鏡的透鏡架，設(shè)置在所述第一接線座與所述第二接線座之間并以預(yù)定距離與所述基底間隔開；多根線，具有連接到所述第一接線座和所述第二接線座之一的第一端和連接到所述透鏡架的第二端以支撐所述透鏡架；以及三軸驅(qū)動(dòng)磁路，沿所述聚焦方向、所述循跡方向和所述徑向傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述透鏡架。4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路包括裝設(shè)到所述第一接線座的一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈和裝設(shè)到所述第二接線座的一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈；設(shè)置為面對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈的一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體，以及設(shè)置為面對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈的一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體，其中由所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈和所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體產(chǎn)生的電磁力沿與由所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈和所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體產(chǎn)生的電磁力相反的方向流動(dòng)。5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路還包括第一切線傾斜軛和第二切線傾斜軛，所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體和所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體分別附著到所述第一切線傾斜軛和所述第二切線傾斜軛。6.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈和所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈成對(duì)地設(shè)置并沿所述循跡方向裝設(shè)到所述第一接線座的相對(duì)側(cè)和所述第二接線座的相對(duì)側(cè)，并且所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體和所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體成對(duì)地設(shè)置。7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路還包括一對(duì)第一切線傾斜軛，一對(duì)第一切線傾斜磁體裝設(shè)到該對(duì)第一切線傾斜軛，以及一對(duì)第二切線傾斜軛，一對(duì)第二切線傾斜磁體裝設(shè)到該對(duì)第二切線傾斜軛。8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述樞軸支撐物包括一對(duì)板彈簧，該對(duì)板彈簧設(shè)置為沿所述循跡方向彼此面對(duì)以支撐所述基底的下側(cè)。9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元還包括支撐構(gòu)件，支撐所述第一切線傾斜軛和所述第二切線傾斜軛以及該對(duì)板彈簧。10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述支撐構(gòu)件與所述第一切線傾斜軛和所述第二切線傾斜軛整體地形成。11.一種光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置，該光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置包括光學(xué)頭、驅(qū)動(dòng)所述光學(xué)頭的驅(qū)動(dòng)單元以及控制所述驅(qū)動(dòng)單元的控制單元，所述光學(xué)頭將信息記錄在盤上和/或再現(xiàn)來自所述盤的信息，其中所述光學(xué)頭包括光學(xué)系統(tǒng)，檢測(cè)從所述盤反射的激光束，所述光學(xué)系統(tǒng)具有物鏡以將激光束聚焦在所述盤上；以及光學(xué)頭力矩器，驅(qū)動(dòng)所述物鏡，其中所述光學(xué)頭力矩器包括三軸驅(qū)動(dòng)單元，分別沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)所述物鏡；以及切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元，沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述三軸驅(qū)動(dòng)單元以沿所述切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述物鏡。全文摘要本發(fā)明提供了一種光學(xué)頭力矩器及光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置。該光學(xué)頭力矩器可以包括三軸驅(qū)動(dòng)單元，分別沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)物鏡以將激光束聚焦在盤上；以及切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元，沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)三軸驅(qū)動(dòng)單元以沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)物鏡。文檔編號(hào)G11B21/02GK101751947SQ20091020485公開日2010年6月23日申請(qǐng)日期2009年10月15日優(yōu)先權(quán)日2008年12月15日發(fā)明者樸世濬,金石中申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社