專利名稱：浮動(dòng)型滑動(dòng)塊、光學(xué)頭裝置以及信息處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及根據(jù)因盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流上浮的滑動(dòng)塊(slider)與設(shè)有該滑動(dòng)塊的光學(xué)頭裝置以及信息處理裝置，具體涉及通過降低流入滑動(dòng)塊和盤式記錄媒體之間的灰塵等的影響，防止出錯(cuò)的防塵措施的技術(shù)。
背景技術(shù)：
作為采用光盤或光磁盤等的光學(xué)式記錄媒體的驅(qū)動(dòng)裝置，公知有一種飛行讀寫頭(flying head)結(jié)構(gòu)的光學(xué)頭，該飛行讀寫頭中采用了根據(jù)因盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流上浮的滑動(dòng)塊(浮動(dòng)型滑動(dòng)塊flying slider)(例如，參照專利文獻(xiàn)特開2001-184704號公報(bào)(段落編號0045、0046，圖3)和專利文獻(xiàn)特開2002-251770號公報(bào)(段落編號0017至0019，
圖1))。
滑動(dòng)塊的底面形狀(從記錄媒體側(cè)看的形狀)分為負(fù)壓型和正壓型兩類。
圖25所示的負(fù)壓型滑動(dòng)塊a的結(jié)構(gòu)中，例如在其底面形成了匚字形的導(dǎo)軌部b，并形成了數(shù)μm至數(shù)十μm左右深的深槽c。而且，在導(dǎo)軌部b中空氣流入側(cè)(上游側(cè))的部分上形成了具有1μm以下深度的淺溝d。深槽c中用“○”表示的符號“S”是表示用物鏡(未作圖示)聚光的光束通路(位置)，在盤式記錄媒體旋轉(zhuǎn)時(shí)，在比該位置稍微靠上游側(cè)的部位(e部)上發(fā)生負(fù)壓(可能導(dǎo)致灰塵滯留在該部分)。
另一方面，圖26所示的正壓型滑動(dòng)塊f具有在兩條平行的導(dǎo)軌部g和導(dǎo)軌部g之間形成深槽h的結(jié)構(gòu)。而且，各導(dǎo)軌部g中，在空氣流入側(cè)(上游側(cè))的部分上分別形成了淺溝i。還有，深槽h的大致中央用“○”表示的符號“S”是表示用物鏡(未作圖示)聚光的光束通路(位置)，深槽h內(nèi)的箭頭表示空氣的流動(dòng)方向。
但是，在傳統(tǒng)技術(shù)中并沒有充分公開滑動(dòng)塊形狀上對塵埃負(fù)面影響的對策。
例如，關(guān)于圖25或圖26所示的滑動(dòng)塊底面形狀，用模擬結(jié)果等對氣流分布(Mass Flow)或氣壓分布進(jìn)行研究時(shí)，清楚了解到灰塵等流入深槽部分的可能性高。
關(guān)于一般環(huán)境的實(shí)際灰塵分布，在以打開盤匣(disk cartridge)的擋板(shutter)的狀態(tài)測定的結(jié)果，可知粒徑越小灰塵就越多，而且還存在粒徑達(dá)到100μm左右的灰塵的情況。
圖27中例示了橫軸取粉末粒徑(單位μm)、縱軸取某一粒徑的粉末量在全粉末量中所占比例(統(tǒng)計(jì)值)時(shí)兩者的關(guān)系?？v軸所示的比例的對數(shù)值大致與粉末粒徑的1～2次方成比例地減少，例如粒徑在10至20μm時(shí)單位面積有1000至1500個(gè)左右；而在粒徑為20至30μm時(shí)單位面積有200至500個(gè)左右。
對形成于滑動(dòng)塊的深槽部分的灰塵的流入將成為故障原因，當(dāng)出錯(cuò)率高時(shí)成為引起記錄再現(xiàn)性能下降的主要原因。
于是，本發(fā)明的課題是通過改良用于信息的光學(xué)讀取方式中的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊的結(jié)構(gòu)，降低塵埃的影響并防止記錄再現(xiàn)性能的下降。
發(fā)明的公開本發(fā)明為解決上述課題而構(gòu)思，在根據(jù)因盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流上浮的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊中，包括如下的結(jié)構(gòu)。
(1)在與盤式記錄媒體相對的面上，沿氣流方向形成有成對的平行的導(dǎo)軌部。
(2)在與氣流方向垂直的兩導(dǎo)軌部的寬度方向的中央，形成按氣流方向延伸且寬度比兩導(dǎo)軌部窄的中間的導(dǎo)軌部或突出部，光束透過該中間的導(dǎo)軌部或突出部。
因此，依據(jù)本發(fā)明，由于光束透過成對的平行的導(dǎo)軌部之間形成的中間導(dǎo)軌部或突出部，即使伴隨氣流在滑動(dòng)塊和盤式記錄媒體之間流入塵埃，也能排除對光束通路的光學(xué)特性的影響。
附圖的簡單說明圖1是表示本發(fā)明的信息處理裝置的基本結(jié)構(gòu)例的簡略圖。
圖2是表示本發(fā)明的光學(xué)頭裝置的結(jié)構(gòu)例的簡略圖。
圖3是表示本發(fā)明的光磁頭裝置的結(jié)構(gòu)例的簡略圖。
圖4A、圖4B是空氣流入口和灰塵尺寸、光束面積的說明圖，與圖5一起說明進(jìn)入滑動(dòng)塊和盤之間的間隙的灰塵的影響。
圖5是例示了在不同表面涂層厚度上灰塵尺寸和出錯(cuò)率的關(guān)系的曲線圖。
圖6是表示滑動(dòng)塊的形狀例的仰視圖。
圖7是說明在滑動(dòng)塊的滾動(dòng)方向的位置上盤半徑方向的位置和上浮高度之間關(guān)系的曲線圖。
圖8是表示具有三個(gè)導(dǎo)軌部的滑動(dòng)塊的形狀例的仰視圖。
圖9是表示一例具有三個(gè)導(dǎo)軌部的滑動(dòng)塊的透視圖。
圖10是表示另一例具有三個(gè)導(dǎo)軌部的滑動(dòng)塊的透視圖。
圖11是表示另一例滑動(dòng)塊的形狀的仰視圖。
圖12是例示了在兩個(gè)上浮用導(dǎo)軌部之間形成突出部的滑動(dòng)塊的仰視圖。
圖13是概略表示從空氣流入方向看的滑動(dòng)塊的俯視圖，與圖14一起表示將中間導(dǎo)軌部或突出部的高度低于上浮用導(dǎo)軌部的高度而產(chǎn)生高低差的結(jié)構(gòu)例。
圖14是概略表示從滾動(dòng)方向看的滑動(dòng)塊的側(cè)視圖。
圖15是另一例在兩個(gè)上浮用導(dǎo)軌部之間形成突出部的滑動(dòng)塊的仰視圖。
圖16是表示在兩個(gè)導(dǎo)軌部中間形成突出部的結(jié)構(gòu)的滑動(dòng)塊的仰視圖，與圖17一起表示在上浮用導(dǎo)軌部之間形成圓柱狀的突出部的滑動(dòng)塊的結(jié)構(gòu)例。
圖17是表示在上浮用導(dǎo)軌部形成凹面的結(jié)構(gòu)的滑動(dòng)塊的仰視圖。
圖18是概念地表示在滑動(dòng)塊的上浮狀態(tài)下透鏡相對于盤面維持平行的姿勢的樣子的側(cè)視圖。
圖19A、圖19B是一例在滑動(dòng)塊底面形成DLC的保護(hù)層的示圖。
圖20是例示了在滑動(dòng)塊底面形成了保護(hù)層時(shí)對透射率的影響的曲線圖。
圖21是表示一例在滑動(dòng)塊底面直接涂上潤滑劑的說明圖。
圖22是表示一例在滑動(dòng)塊底面形成DLC或沉積膜后涂上潤滑劑的說明圖。
圖23是表示一例由沉積膜形成滑動(dòng)塊底面部后涂上潤滑劑的說明圖。
圖24是表示一例由基片形成滑動(dòng)塊的底面部后涂上潤滑劑的說明圖。
圖25是一例負(fù)壓型滑動(dòng)塊的示圖，與圖26一起表示傳統(tǒng)的滑動(dòng)塊的底面形狀。
圖26是一例正壓型滑動(dòng)塊的示圖。
圖27是表示一例灰塵分布的曲線圖。
本發(fā)明的最佳實(shí)施方式本發(fā)明涉及浮動(dòng)型滑動(dòng)塊與使用該滑動(dòng)塊的光學(xué)頭裝置和信息處理裝置，例如可在光盤、光磁盤等的光學(xué)式盤驅(qū)動(dòng)裝置(例如光硬盤驅(qū)動(dòng)或光軟盤驅(qū)動(dòng)等)中適用。還有，在信息處理裝置中使用時(shí)，由于與盤式記錄媒體的信息的再現(xiàn)或記錄的情況無關(guān)，可以采用再現(xiàn)專用裝置、記錄再現(xiàn)裝置、記錄專用裝置中的任一形態(tài)。
圖1是表示一例本發(fā)明的信息處理裝置的基本結(jié)構(gòu)的簡略圖。
信息處理裝置1中設(shè)有主軸馬達(dá)作為旋轉(zhuǎn)盤式記錄媒體2的旋轉(zhuǎn)部件3。作為盤式記錄媒體(以下，簡單稱為“盤”)2可以舉出讀出專用的ROM(Read Only Memory)媒體、可寫入且可隨機(jī)存取的RAM媒體例如相變型媒體(PC)、有機(jī)色素系媒體等，但本發(fā)明可適用于任何記錄媒體。
光學(xué)頭裝置4用以進(jìn)行盤2的信息記錄或信息再現(xiàn)，它設(shè)有向盤2照射光而設(shè)置的光源5。例如，用激光源(激光二極管)。
本發(fā)明的前提是具有利用因盤2的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流的飛行讀寫頭結(jié)構(gòu)。即，光學(xué)頭裝置4中設(shè)有根據(jù)因盤2的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流上浮的滑動(dòng)塊6。該滑動(dòng)塊6根據(jù)與盤2之間的氣體層(空氣或氮等)上浮，并配置了包含物鏡的光學(xué)系統(tǒng)。還有，采用光磁記錄方式時(shí)，如后述那樣在滑動(dòng)塊上搭載了磁場發(fā)生部件(由虛線表示的H部分)。
來自盤2的回程光在受光部7中被檢出，傳送到信號處理部8。還有，信號處理部8進(jìn)行再現(xiàn)數(shù)據(jù)的解調(diào)處理和記錄數(shù)據(jù)的調(diào)制處理、ECC(誤差校正碼)處理、地址信息的解碼處理等。
控制部9用以進(jìn)行與旋轉(zhuǎn)部件3的驅(qū)動(dòng)控制相關(guān)的主軸伺服控制、盤2的半徑方向的光學(xué)頭裝置4的位置控制以及包含物鏡的光學(xué)系統(tǒng)的聚焦控制等。另外，控制部9中包含有激光源的功率控制電路等。
圖2概略表示設(shè)有飛行讀寫頭結(jié)構(gòu)的光學(xué)頭裝置的結(jié)構(gòu)例10。
采用玻璃等透明材料形成的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊6，根據(jù)因盤2的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流成為某一間隔上浮的狀態(tài)，使與盤面2a相對的面(以下稱該面為“底面”)維持預(yù)定的姿勢。就是說，根據(jù)因盤2的旋轉(zhuǎn)而在滑動(dòng)塊6和盤2之間形成的空氣層11(圖中夸張表示)通過空氣軸承的作用維持滑動(dòng)塊6的上浮狀態(tài)，進(jìn)行聚焦方向(參照圖的箭頭“F”)的讀寫頭控制。
本例中，設(shè)于滑動(dòng)塊6上的光學(xué)系統(tǒng)12為包含透鏡12a與透鏡12b兩個(gè)透鏡的聚光透鏡系統(tǒng)，但并不以此為限，可為在滑動(dòng)塊上僅設(shè)置一個(gè)物鏡的結(jié)構(gòu)形態(tài)。
滑動(dòng)塊6用由金屬等的彈性構(gòu)件形成的支撐構(gòu)件(懸掛系統(tǒng))13支撐。例如，在采用萬向架結(jié)構(gòu)的形態(tài)下，在彼此垂直的各軸周圍使滑動(dòng)塊成為自由回轉(zhuǎn)的狀態(tài)。
在盤2的相反側(cè)上與滑動(dòng)塊6相對而設(shè)置的基部14上，配置了準(zhǔn)直透鏡15和反射鏡16。從光源部(未作圖示)發(fā)射的光束經(jīng)由光纖等的導(dǎo)光構(gòu)件17在反射鏡16上變更光路后透過準(zhǔn)直透鏡15成為平行光。然后，經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)12朝著盤2的記錄層進(jìn)行光照射。另外，來自盤2的回程光沿著逆路徑到達(dá)光檢測部(未作圖示)進(jìn)行光電變換。
滑動(dòng)塊6以相對于旋轉(zhuǎn)的盤2上浮的狀態(tài)向盤半徑方向移動(dòng)。例如，作為讀寫頭部的傳送部件可舉出具有與盤半徑方向平行延伸的導(dǎo)軸以及沿該導(dǎo)軸自由滑動(dòng)地設(shè)置的滑動(dòng)架(carriage)(或者移動(dòng)底座)的機(jī)構(gòu)和采用給予滑動(dòng)架推動(dòng)力的驅(qū)動(dòng)源(音圈馬達(dá)等)的結(jié)構(gòu)。
還有，在本例中公開了盤2的各面上分別形成了記錄層的兩面記錄或再現(xiàn)型的記錄媒體，但并不以此為限，可適用于采用盤的一面上形成了記錄層的單面型的記錄媒體的形態(tài)。
圖3概略表示對作為盤2采用光磁(MOMagneto Optical)盤時(shí)的讀寫頭裝置的結(jié)構(gòu)例18。
在對磁場調(diào)制方式等的應(yīng)用中，滑動(dòng)塊19中設(shè)有物鏡20與磁場發(fā)生部21。例如，如圖3所示，構(gòu)成磁場發(fā)生部21的磁場調(diào)制線圈21a以與盤面2a相對的狀態(tài)搭載于滑動(dòng)塊19上。還有，對磁場調(diào)制線圈21a的供給電流由驅(qū)動(dòng)電路(未作圖示)控制。
在滑動(dòng)塊19的支撐構(gòu)件(懸掛系統(tǒng))22上使用金屬等的彈性材料，在該支撐構(gòu)件的前端部上安裝了滑動(dòng)塊19。
在盤2的相反側(cè)上與滑動(dòng)塊19的物鏡20相對地設(shè)置的準(zhǔn)直透鏡23設(shè)于由透明材料形成的構(gòu)件24上，該準(zhǔn)直透鏡23用驅(qū)動(dòng)部件25在箭頭F所示的聚焦方向上被位置控制。還有，驅(qū)動(dòng)部件25采用電磁式或壓電式的傳動(dòng)裝置(actuator)，通過準(zhǔn)直透鏡23的位置控制來校正聚焦方向。
在收發(fā)光部26中例如采用LD(激光二極管)耦合器等的集成型光學(xué)元件，具有其內(nèi)部容納發(fā)光部和受光部的結(jié)構(gòu)。從收發(fā)光部26內(nèi)的發(fā)光部(激光二極管)發(fā)射的光束透過準(zhǔn)直透鏡23成為平行光，并經(jīng)由物鏡20朝著盤2的記錄層進(jìn)行光照射。另外，來自盤2的回程光沿逆路徑到達(dá)收發(fā)光部26內(nèi)的光檢測部(光檢測器)后光電變換。
在說明本發(fā)明的滑動(dòng)塊的結(jié)構(gòu)之前，借助圖4和圖5就進(jìn)入到浮動(dòng)型滑動(dòng)塊和盤之間的間隙的灰塵的影響進(jìn)行說明。
圖4中，圖4A概念地表示用物鏡聚光的光束的面積和灰塵尺寸，圖4B概略表示在盤2和滑動(dòng)塊27之間形成的空氣流入口和灰塵尺寸的關(guān)系。
圖4A所示的“S”表示光束形狀(圓形)及其面積(對盤面投影的光束面積)，灰塵則用邊長為“G”的正方形模型化后加以表示(即，灰塵的形狀雖然各種各樣，但在考慮盤面上的光束點(diǎn)的影響時(shí)，給予影響的不是灰塵的體積而是從盤面看的灰塵的面積，因此，假想具有與該面積相等的面積的正方形作為等效的灰塵形狀)。
如圖4A箭頭所示，若在浮動(dòng)型滑動(dòng)塊和盤之間的間隙上混進(jìn)灰塵并橫切光束，則光學(xué)特性上產(chǎn)生壞影響，成為故障原因。
圖4B所示的“Gin”表示在盤2和滑動(dòng)塊27之間形成的空氣流入口的尺寸(間隙長)，例如在0.5至1μm左右。另外，“t”表示盤2的表面涂層厚度(例如設(shè)成10～20μm左右)，表示從記錄層2b到盤面2a的厚度。
如上所述，用邊長為“G”的正方形模型化的灰塵，在間隙長小于“Gin”時(shí)(G＜Gin)通過滑動(dòng)塊和盤表面之間，根據(jù)灰塵尺寸影響光束。
如箭頭A所示，作為不發(fā)生因從空氣流入口進(jìn)入灰塵的影響而產(chǎn)生的誤差的條件，能夠從下式計(jì)算出表面涂層厚度“t”的下限值。
(式1)t≥GK·π·(tan(sin-1(NAn)))]]>還有，上式中的“NA”表示包含物鏡的光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑；“n”表示表面涂層的折射率；“Sin”的上標(biāo)“-1”表示逆正弦函數(shù)；“tan”表示正切函數(shù)。另外，“K”表示光束面積和灰塵面積之比(其最大面積比是表示盤驅(qū)動(dòng)裝置的檢測能力的指標(biāo))。就是說，如下式所示，K定義為將上述G的平方(灰塵面積)除以光束面積S的量。
(式2)K=G2S]]>S=π·(t·tan(sin-1(NAn)))2]]>這里省略與式1的導(dǎo)出過程相關(guān)的詳細(xì)說明，但是從“NA”和對表面涂層與記錄層的光束入射角的關(guān)系式求得的光束半徑和式2的變形式“G2＝K·S”以及防止出錯(cuò)的條件式“Gin G”(即，灰塵尺寸為間隙長以上)，得到與表面涂層厚度“t”相關(guān)的不等式。
圖5是例示了灰塵尺寸和出錯(cuò)之間的關(guān)系的曲線圖，橫軸為粉末尺寸(單位μm)，縱軸表示誤差傳播(單位μm)。還有，“誤差傳播”(Error Propagation)表示信號中誤差持續(xù)發(fā)生的范圍的物理長度，在將再現(xiàn)RF(Radio Frequency)信號的電平和對于K值已經(jīng)預(yù)先確定的閾值(Error threshold)進(jìn)行比較時(shí)，定義信號電平為在該閾值以下的范圍的長度。
圖5中，例示了由t＝t1、t2、t3表示的3種不同表面涂層厚度，其中t1＜t2＜t3。
由圖5可知在表面涂層厚度t薄時(shí)很小的灰塵也產(chǎn)生影響。例如，t1時(shí)，20μm以下的灰塵也成為導(dǎo)致發(fā)生誤差原因。還有，t＝10～20(μm)時(shí)，不發(fā)生誤差的G的臨界值為2至6μm左右(t值越大臨界值就越大)。
關(guān)于進(jìn)入圖25和圖26所示的滑動(dòng)塊底面的導(dǎo)軌部之間的槽內(nèi)的灰塵的影響，在表面涂層厚度“t”薄時(shí)，很小的灰塵也容易導(dǎo)致誤差發(fā)生。
于是，本發(fā)明采用這樣的結(jié)構(gòu)在滑動(dòng)塊的底面形成的平行的導(dǎo)軌部之間，形成別的導(dǎo)軌部或突出部，使光束透過該部分。例如，可采用在滑動(dòng)塊底面設(shè)置三個(gè)平行的導(dǎo)軌部的形態(tài)和在滑動(dòng)塊底面形成的兩個(gè)導(dǎo)軌部之間設(shè)置突出部的形態(tài)。
圖6是表示滑動(dòng)塊的形狀例的仰視圖，表示形成了三個(gè)導(dǎo)軌部的結(jié)構(gòu)例。還有，以箭頭A表示的空氣流入方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，在滑動(dòng)塊的節(jié)距(pitch)方向設(shè)定X軸，滾動(dòng)方向(roll direction)上設(shè)定Y軸。Z軸設(shè)定在滑動(dòng)塊的厚度(高度)方向，坐標(biāo)軸的原點(diǎn)設(shè)定在滑動(dòng)塊的左下角。另外，盤的外周圓方向與內(nèi)周圓方向用粗箭頭分別表示。
在玻璃等的透明材料形成的滑動(dòng)塊28中，與盤相對的面(底面)上，形成了成對的平行的第一導(dǎo)軌部28A與第二導(dǎo)軌部28B，從而獲得滑動(dòng)塊28的上浮力。然后，在兩導(dǎo)軌部的中間形成第三導(dǎo)軌部29。還有，圖中“y1”表示Y軸方向的導(dǎo)軌部28A、28B的寬度，例如為0.6～0.7mm左右。本例中，導(dǎo)軌部28A、28B在滾動(dòng)方向具有相同寬度，但各導(dǎo)軌部的寬度可以采用不同的形態(tài)。
“w1”表示滑動(dòng)塊28的Y軸方向?qū)挾龋皐2”表示位于靠近盤外周圓的導(dǎo)軌部28A的側(cè)面(外周圓側(cè))和位于靠近盤內(nèi)周圓的導(dǎo)軌部28B的側(cè)面(內(nèi)周圓側(cè))之間的距離。
導(dǎo)軌部(中心導(dǎo)軌)29在導(dǎo)軌部28A、28B的寬度方向的中央沿氣流方向延伸，寬度比兩導(dǎo)軌部窄。就是說，Y軸方向的寬度“y2”(例如，0.2mm左右)比導(dǎo)軌部28A、28B的Y軸方向的寬度“y1”窄，由導(dǎo)軌部29一分為二的氣流在導(dǎo)軌部29和各導(dǎo)軌部28A、28B之間順利形成。還有，“y3”表示在導(dǎo)軌部29和28A和28B之間形成的槽30、30的Y軸方向的寬度(0.2～0.4mm左右)“x1”表示滑動(dòng)塊28的X軸方向的長度，“x2”表示各導(dǎo)軌部的X軸方向的長度，本例中導(dǎo)軌部28A、28B、29的X軸方向的長度相等，例如為2.6～2.8mm左右。
導(dǎo)軌部28A、28B、29和除此以外的部分之間的高度差(Z軸方向的差)在考慮進(jìn)表面涂層厚度等的情況下設(shè)成20μm左右。本例中，各導(dǎo)軌部的高度大致相同(準(zhǔn)確地說，對導(dǎo)軌部28A、28B的底面實(shí)施了球面研磨，在盤面?zhèn)刃纬缮晕⑼怀龅那蛎?，但并不以此為限，可以采用這樣的結(jié)構(gòu)形態(tài)以在導(dǎo)軌部28A、28B之間形成的槽為基準(zhǔn)，使中間導(dǎo)軌部29的高度低于導(dǎo)軌部28A、28B的高度，從而，在中間導(dǎo)軌部29和導(dǎo)軌部28A、28B之間形成高低差(中間導(dǎo)軌部不易受灰塵影響而損傷)。
用物鏡聚光的光束透過導(dǎo)軌部29照射到盤，本例中，考慮到在氣流的下游側(cè)的位置上容易得到節(jié)距方向的穩(wěn)定姿勢，使光束的透過位置靠近氣流的下游側(cè)(圖中右方)而不是X軸方向的導(dǎo)軌部29的中央(顯然，并不以此為限，只要在導(dǎo)軌部29上，就能夠選擇X軸上的任意位置)。
圖7是用以說明在滑動(dòng)塊28的滾動(dòng)方向(Y軸方向)的中心部分使由物鏡聚光的光束通過的理由的曲線圖，是橫軸取盤的半徑方向的位置(單位mm)、縱軸取滑動(dòng)塊的上浮高度(Flying Height單位nm)而例示的模擬結(jié)果(為容易了解而表示高度變動(dòng)大的場合)。還有，模擬測點(diǎn)取如圖6所示的X坐標(biāo)相等的P1(導(dǎo)軌部28B上的點(diǎn))、P2(導(dǎo)軌部29上的光束通過點(diǎn))、P3(導(dǎo)軌部28A上的點(diǎn))等3點(diǎn)(曲線f1表示P1、f2表示P2、f3表示P3的場合)。
由曲線f2可知滑動(dòng)塊28的寬度方向的中央部的位置(上浮高度)的變動(dòng)最少。這就是使聚光的光束通過導(dǎo)軌部29的理由。還有，滑動(dòng)塊位于盤內(nèi)周圓的場合和位于盤外周圓的狀態(tài)下，滾動(dòng)姿勢不同。
另外，對于圖6所示的滑動(dòng)塊的底面形狀，在研究氣流或氣壓分布的模擬結(jié)果時(shí)，對各導(dǎo)軌部間形成的深槽部分有可能流入灰塵等。因此，作為防塵措施使由物鏡聚光的光束通過導(dǎo)軌部29很有效果。
圖8是表示具有三個(gè)導(dǎo)軌部的滑動(dòng)塊的形狀例的仰視圖，表示以導(dǎo)軌部的高度為零基準(zhǔn)形成2級槽(淺溝和深槽)的例子。
在平行的三個(gè)導(dǎo)軌部中，以空氣流入方向A為基準(zhǔn)，在靠近滑動(dòng)塊31的寬度方向的端部的位置上兩個(gè)導(dǎo)軌部32A、32B具有大致相同的寬度與長度，在兩導(dǎo)軌部上以各導(dǎo)軌部的平坦面(空白范圍)為基準(zhǔn)(0μm)分別形成深度為0.5μm左右的淺溝(以疏點(diǎn)圖案表示的范圍)。就是說，各導(dǎo)軌部中，在空氣流入側(cè)(上游側(cè))的部分上考慮了因氣流產(chǎn)生的上浮力等而形成淺溝33、33。然后，在各導(dǎo)軌部中，靠近兩側(cè)緣部分的高度稍低，形成淺溝34、34、...。
以空氣流入方向A為基準(zhǔn)，在滑動(dòng)決31的寬度方向的中央形成的導(dǎo)軌部35，即位于導(dǎo)軌部32A、32B之間的中間且寬度比這些導(dǎo)軌部窄的導(dǎo)軌部上，以該導(dǎo)軌部的平坦面為基準(zhǔn)(0μm)，在靠近空氣流入的部位形成深度為0.5μm左右的淺溝36(以疏點(diǎn)圖案表示的范圍)。然后，在導(dǎo)軌部35的長度方向，在其中央示出的圓形框37表示用物鏡聚光的光束的通路(夸張表示了光束直徑)。
在各導(dǎo)軌部的外圍部分或?qū)к壊恐g，以各導(dǎo)軌部的平坦面為基準(zhǔn)(0μm)，例如形成深度為20～30μm的深槽38、38，并以箭頭表示流入分別形成于導(dǎo)軌部32A和導(dǎo)軌部35之間以及在導(dǎo)軌部32B和導(dǎo)軌部35之間的深槽的氣流。
依據(jù)本結(jié)構(gòu)可以設(shè)計(jì)成滑動(dòng)塊31的上浮高度例如為1μm左右，即使灰塵進(jìn)入到滑動(dòng)塊底面和盤面之間，也不會(huì)因此而發(fā)生誤差。
圖9與圖10是表示具有三個(gè)導(dǎo)軌部且設(shè)置了透鏡(單片透鏡)的滑動(dòng)塊的形狀例的透視圖，均用玻璃材料。
圖9所示的實(shí)施例中示出這樣的結(jié)構(gòu)例在滑動(dòng)塊39底面形成的三個(gè)導(dǎo)軌部40A、40B、41中，透鏡42設(shè)于中央的導(dǎo)軌部41上的結(jié)構(gòu)。
另外，圖10中示出采用2層結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)例。就是說，在構(gòu)成滑動(dòng)塊43的下層部分44L的底面，形成了三個(gè)導(dǎo)軌部45A、45B、46。然后，在構(gòu)成滑動(dòng)塊43的上層部分44U上設(shè)有透鏡47，結(jié)合上層部分44U和下層部分44L構(gòu)成滑動(dòng)塊。
還有，上述滑動(dòng)塊39或43的基材是由考慮了光束的透射性的透明材料形成，在考慮其成本等時(shí)最好用玻璃系材料，但為了降低灰塵或損傷等的影響，從硬度等方面考慮最好用藍(lán)寶石、石英、氟化鎂等。另外，透鏡是通過在基材上形成凹部，并在該凹部上填充具有與用于該基材的透明材料不同折射率的透明材料來形成，從而能夠制作球面透鏡或非球面透鏡。
圖11是表示滑動(dòng)塊的形狀例48的仰視圖，示出形成了三個(gè)導(dǎo)軌部的結(jié)構(gòu)例。還有，箭頭A或X軸、Y軸的設(shè)定與圖6的說明相同。
與圖6所示的結(jié)構(gòu)的不同點(diǎn)在于導(dǎo)軌部49在X軸方向(節(jié)距方向)的長度變短(因此，本例中，對與圖6所示的部分相同的部分上，采用相應(yīng)的符號，其說明省略)。
根據(jù)位于導(dǎo)軌部28A和28B之間的導(dǎo)軌部49形成槽50、50，該導(dǎo)軌部49在氣流上游側(cè)與下游側(cè)的位置上短于導(dǎo)軌部28A、28B。即，導(dǎo)軌部49的上游側(cè)端部相對于導(dǎo)軌部28A、28B的端部更伸入到下游側(cè)，對氣流導(dǎo)入或上浮力等的影響少，具有上浮時(shí)穩(wěn)定性(stability)高的優(yōu)點(diǎn)。
還有，本例中在導(dǎo)軌部28A、28B的底面實(shí)施了球面研磨，另外，在導(dǎo)軌部49上光束的通路位于后尾(下游側(cè)的位置，參照點(diǎn)P2)。
上述結(jié)構(gòu)例采用了在滑動(dòng)塊底面設(shè)置三個(gè)導(dǎo)軌部的形態(tài)，在空氣流入方向，將長度短于第一與第二導(dǎo)軌部(上浮用導(dǎo)軌部)的導(dǎo)軌部形成于滑動(dòng)塊上，但并不以此為限，例如可以采用下述的在第一與第二導(dǎo)軌部的中間形成突出部的結(jié)構(gòu)形態(tài)。
·在第一與第二導(dǎo)軌部之間設(shè)置了楔形或流線形狀的突出部的形態(tài)(參照圖12、圖15)·在第一與第二導(dǎo)軌部之間設(shè)置了圓柱形突出部的形態(tài)(參照圖16、圖17)。
例如，圖12所示的滑動(dòng)塊51具有下述的特征。
·在成對的上浮用導(dǎo)軌部52A、52B的底面實(shí)施了球面研磨(曲率半徑5m左右)。
·流入導(dǎo)軌部52A、52B之間的氣流被突出部53一分為二。
·突出部53上游側(cè)的前端成為銳角部。
本例中，以較窄寬度形成的突出部53設(shè)于滑動(dòng)塊底面的下游側(cè)的位置上，其上游側(cè)的前端部54從盤表面垂直的方向看時(shí)形成為三角形狀(其頂角為銳角)，其它部分形成為矩形。
還有，在以導(dǎo)軌部52A、52B的高度為基準(zhǔn)時(shí)，在兩導(dǎo)軌部之間形成的槽的深度例如為20μm左右。
另外，在以導(dǎo)軌部52A、52B的高度為基準(zhǔn)時(shí)，突出部53的高度降低0.3～數(shù)μm左右。就是說，本例中突出部53的高度低于導(dǎo)軌部52A、52B的高度，從而在突出部53和導(dǎo)軌部52A、52B之間形成高低差，提高上浮時(shí)的滑動(dòng)塊51的穩(wěn)定性，得到突出部53不易受到對光束通路的灰塵或損傷等的影響的效果。
如此，無需使滑動(dòng)塊底面的導(dǎo)軌部和突出部的高度相同，可以使中間的導(dǎo)軌部或突出部低于上浮用導(dǎo)軌部。
圖13是從氣流方向看的滑動(dòng)塊55的俯視圖；圖14是概略表示從滑動(dòng)塊55的滾動(dòng)方向看的側(cè)視圖。
在上浮用導(dǎo)軌部56A、56B之間，形成了導(dǎo)軌部或突出部57，并設(shè)有透鏡58。
導(dǎo)軌部56A、56B的高度相同，圖中所示的“γ”表示兩導(dǎo)軌部和導(dǎo)軌部或突出部57之間分別形成的槽的深度。
另外，導(dǎo)軌部或突出部57的高度稍微低于導(dǎo)軌部56A、56B的高度，圖中所示的“δ”表示導(dǎo)軌部56A、56B和導(dǎo)軌部或突出部57之間形成的高低差。
由于該高低差導(dǎo)致進(jìn)入到滑動(dòng)塊和盤之間的灰塵大小增大，但在灰塵的粒徑和誤差傳播之間的關(guān)系中，例如已知盤的表面涂層厚度為20μm左右時(shí)對粒徑5μm以下的灰塵不發(fā)生誤差的情形。因此，最好考慮表面涂層厚度求出不發(fā)生誤差的粒徑的臨界值，進(jìn)行上述高低差值的設(shè)計(jì)。
還有，如本例那樣采用導(dǎo)軌部或突出部57的高度低于上浮用導(dǎo)軌部56A、56B的形態(tài)時(shí)，不僅不影響防塵措施的效果，還能降低因滑動(dòng)塊的上浮高度變動(dòng)而對聚光光束產(chǎn)生的影響(功率衰減等)。另外，滑動(dòng)塊的上浮高度由導(dǎo)軌部56A、56B和盤表面之間的間隔確定，因此，在進(jìn)一步增大導(dǎo)軌部或突出部57的底面和盤表面之間的間隙時(shí)，產(chǎn)生與之相應(yīng)的寬敞的空間(能夠不因灰塵等使導(dǎo)軌部或突出部損傷地進(jìn)行保護(hù))。
另外，如上述滑動(dòng)塊51那樣采用上浮用導(dǎo)軌部的底面為向盤側(cè)凸出的曲面的結(jié)構(gòu)時(shí)，例如具有如下優(yōu)點(diǎn)不易發(fā)生因在實(shí)施了球面研磨的類型的滑動(dòng)塊上支撐該滑動(dòng)塊的懸掛系統(tǒng)的安裝偏差(滾動(dòng)方向或節(jié)距方向、上浮高度方向)導(dǎo)致的轉(zhuǎn)矩，以及防止因懸掛系統(tǒng)固有的滾動(dòng)方向、節(jié)距方向的轉(zhuǎn)矩使上浮高度(Flying Height)的最低值降低。這是因?yàn)閷?dǎo)軌部的底面為向盤側(cè)凸出的球面，即使轉(zhuǎn)矩加到滑動(dòng)塊上該球面的一點(diǎn)也常時(shí)成為最下點(diǎn)。
接著，就導(dǎo)軌部具有平坦面的滑動(dòng)塊進(jìn)行說明。
圖15所示的滑動(dòng)塊59具有如下特征。
·成對的上浮用導(dǎo)軌部60A、60B的底面其大半部分為平坦面，在氣流上游側(cè)的位置上分別形成了淺溝61、61。
·流過導(dǎo)軌部60A、60B之間的氣流因突出部62一分為二。
·突出部62從垂直于滑動(dòng)塊底面的方向看時(shí)具有流線形狀。
本例中，流線形的突出部62設(shè)于滑動(dòng)塊底面的下游側(cè)的位置上，其結(jié)構(gòu)使對氣流的阻力小。
另外，以導(dǎo)軌部60A、60B的高度為基準(zhǔn)時(shí)，突出部62的高度低0.3～數(shù)μm左右，在突出部62和導(dǎo)軌部60A、60B之間形成高低差(具有如下效果提高上浮時(shí)的滑動(dòng)塊的穩(wěn)定性，使得突出部不易受到對光束通路的灰塵或損傷等的影響)。
還有，在以導(dǎo)軌部60A、60B的高度為基準(zhǔn)時(shí)，在兩導(dǎo)軌部和突出部62之間形成的槽的深度例如為20μm左右。
另外，在導(dǎo)軌部60A、60B上游側(cè)的前端部上，考慮進(jìn)上浮力分別形成0.5μm左右的淺溝61、62。
另外，在導(dǎo)軌部60A的長度方向(節(jié)距方向)的側(cè)緣部上形成0.5μm左右的淺溝63、63，同樣地，在導(dǎo)軌部60B的長度方向的側(cè)緣部上形成0.5μm左右的淺溝64、64。通過形成這些淺溝，使盤半徑方向的導(dǎo)軌部60A的寬度和導(dǎo)軌部60B的寬度彼此不同。就是說，考慮了與各導(dǎo)軌部對應(yīng)的盤上位置的線速度差，均等地得到上浮量，實(shí)現(xiàn)滾動(dòng)姿勢的穩(wěn)定化(由于盤外周圓側(cè)的線速度大，為減少上浮量在滾動(dòng)方向上減少外周圓側(cè)的導(dǎo)軌部的相對寬度(除淺溝以外的寬度))。
如同本例在導(dǎo)軌部底面形成了平坦面的平面(flat)型的滑動(dòng)塊，例如得到如下的優(yōu)點(diǎn)。
·滾動(dòng)特性顯著，盤內(nèi)周圓和外周圓上滾動(dòng)姿勢(滑動(dòng)塊的寬度方向的傾斜)的變化少·即便施加了因支撐滑動(dòng)塊的懸掛系統(tǒng)的安裝偏差(滾動(dòng)方向或節(jié)距方向、上浮高度方向)而產(chǎn)生的轉(zhuǎn)矩或者懸掛系統(tǒng)固有的滾動(dòng)方向、節(jié)距方向的轉(zhuǎn)矩，滾動(dòng)方向或節(jié)距方向的變化也較少·在跨過盤上的突起物時(shí)上浮高度(Flying Height)的變化較少。
還有，由于突出部可采用各種形態(tài)，例如代替放入圖12所示的突出部53和圖15所示的突出部62的結(jié)構(gòu)形態(tài)。
接著，就具有圓柱狀的突出部的滑動(dòng)塊進(jìn)行說明。
圖16所示的滑動(dòng)塊65中，在導(dǎo)軌部66A和66B之間設(shè)置了圓柱狀的突出部67。還有，導(dǎo)軌部66A、66B采用與圖15的實(shí)施例同樣的平面型，其上游側(cè)的端部與兩側(cè)緣部上形成了淺溝68、68、...。
另外，在圖17所示的滑動(dòng)塊69中，通過在導(dǎo)軌部70A、70B的內(nèi)側(cè)面部分別形成彎曲的凹面71(圓筒面等)，能夠使空氣平穩(wěn)地流過這些凹面71和突出部72的側(cè)面之間，防止灰塵滯留在光束通路附近。還有，導(dǎo)軌部70A、70B采用與圖15所示的實(shí)施例同樣的平面型，在上游側(cè)的端部與兩側(cè)緣部上形成淺溝73、73、...。
上述任一形態(tài)均采用使物鏡聚光的光束透過突出部(53、62、67、72)的結(jié)構(gòu)。
但是，滑動(dòng)塊相對于盤面上浮的狀態(tài)下，節(jié)距方向的姿勢成為傾斜的狀態(tài)。就是說，對于氣流的滑動(dòng)塊的上游側(cè)部分相對于下游側(cè)部分成為離盤面更上浮的姿勢。若隨之在形成于導(dǎo)軌部或突出部的透鏡上產(chǎn)生傾斜則能夠影響光學(xué)特性。
因此，根據(jù)因盤的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流使滑動(dòng)塊上浮的狀態(tài)下，最好使導(dǎo)軌部或突出部的與盤相對的面成為相對于盤表面大致平行的姿勢。
圖18概略表示根據(jù)因盤旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流使滑動(dòng)塊74上浮的狀態(tài)，并夸張地表示滑動(dòng)塊的厚度。還有，“d”表示盤面和導(dǎo)軌部75(設(shè)于上浮用導(dǎo)軌部之間的中間的導(dǎo)軌部)之間的間隔。
導(dǎo)軌部75中，由于用物鏡76聚光的光束透過的面(參照虛線)相對于盤面大致成平行，因此物鏡76對于盤面不傾斜。即，導(dǎo)軌部75和其兩側(cè)的上浮用導(dǎo)軌部之間形成的高低差“δ”不確定，沿著滑動(dòng)塊的節(jié)距方向往下而增大(圖中，夸張地表示節(jié)距方向的“δ”的變化和槽深度“γ”)，考慮了滑動(dòng)塊的上浮狀態(tài)下的節(jié)距姿勢，設(shè)計(jì)成使透鏡面維持與盤面大致平行的狀態(tài)。
接著，就上述滑動(dòng)塊的底面的加工法等進(jìn)行說明。
滑動(dòng)塊底面最好通過用比滑動(dòng)塊的形成材料更硬的材料，在灰塵等中保護(hù)底面。
圖19A、圖19B、圖20中例示了各種形態(tài)。
圖19表示了在滑動(dòng)塊底面上形成了像鉆石的碳(DLCdiamond-like carbon)保護(hù)層的例子。
圖19A表示在底面形成DLC前的狀態(tài)，在玻璃制滑動(dòng)塊77的底面形成了導(dǎo)軌部78A、78B和導(dǎo)軌部或突出部79，位于導(dǎo)軌部78A和78B之間的中間的部分(79)上形成有透鏡80。
圖19B表示在滑動(dòng)塊77的底面涂有DLC81的狀態(tài)，需要使得DLC的厚度不會(huì)影響光學(xué)特性(關(guān)于此點(diǎn)如后詳述)。
除了DLC以外，作為高硬度材料可采用氧化鋁(AL2O3)或石英等，例如在滑動(dòng)塊底面作為沉積膜形成。
還有，在與滑動(dòng)塊的盤相對的面上涂有硬材料時(shí)，可列舉對該相對面的整個(gè)面進(jìn)行涂布的形態(tài)和對相對面的一部分(導(dǎo)軌部等)進(jìn)行涂布的形態(tài)。
圖20是例示了在滑動(dòng)塊底面形成DLC等的保護(hù)層時(shí)對透射率的影響的曲線圖，橫軸為波長(單位nm)、縱軸為透射率(0.5～1)來表示兩者關(guān)系。
使用樣品的條件如下所述。
(1)僅用玻璃材料的場合(參照圖表曲線g1)(2)采用在(1)的玻璃材料上形成1nm厚的Si(硅)的場合(參照圖表曲線g2)(3)采用在(1)的玻璃材料上形成1.5nm厚的Si的場合(參照圖表曲線g3)
(4)采用在(2)的基礎(chǔ)上再形成1nm厚的DLC的場合(參照圖表曲線g4)(5)采用在(3)的基礎(chǔ)上再形成3.5nm厚的DLC的場合(參照圖表曲線g5)。
如圖20可知在比較圖表曲線g1和g2時(shí)兩曲線大致一致，在Si的厚度薄時(shí)透射率幾乎不變，圖表曲線g3隨著厚度的增加透射率稍微下降。另外，再形成DLC時(shí)，如圖表曲線g4所示可知相對于圖表曲線g2透射率降低，且在400nm以上的波長其下降的程度小。但是，在DLC的厚度增大時(shí)，要注意如圖表曲線g5所示，透射率進(jìn)一步下降(尤其在600nm以下的范圍)。
最好在這些結(jié)果上選擇不致影響光學(xué)特性的材料，規(guī)定其厚度(例如，使用波長的透射率大致以0.9以上為標(biāo)準(zhǔn)等)。
關(guān)于灰塵的附著等，最好在滑動(dòng)塊的底面涂布或涂敷具有潤滑作用的材料。
圖21至圖24中例示了各種形態(tài)。
圖21表示在滑動(dòng)塊底面直接涂敷潤滑劑的例子。
潤滑劑有氟系涂布材料等，通過將它涂敷在滑動(dòng)塊77底面，形成涂膜82。還有，膜厚應(yīng)當(dāng)與上述一樣采用不致影響光學(xué)特性的值。
圖22表示在滑動(dòng)塊77的底面形成了DLC或氧化鋁、石英等的沉積膜83后涂敷潤滑劑形成涂膜84的例子。
另外，滑動(dòng)塊具有玻璃基片和形成了導(dǎo)軌部的底面部的二層結(jié)構(gòu)，作為例子在圖23和圖24中示出由氧化鋁、石英等的沉積膜或基片形成該底面部的結(jié)構(gòu)形態(tài)。
圖23中，滑動(dòng)塊85的底面部86由氧化鋁、石英等的沉積膜形成，其上涂敷潤滑劑形成涂膜87。就是說，設(shè)有透鏡80的部分由透明材料(玻璃材料)形成，上浮用導(dǎo)軌部86A、86B和形成了導(dǎo)軌部或突出部86M部分作為沉積膜形成。
另外，在圖24所示的滑動(dòng)塊88中，采用基片形成底面部89，其上涂敷潤滑劑形成涂膜90。就是說，設(shè)有透鏡80的部分由透明材料(玻璃材料)形成，將該部分和形成了上浮用導(dǎo)軌部89A、89B、導(dǎo)軌部或突出部89M的底面部89相結(jié)合(陽極結(jié)合等)成為一體化，從而作成整個(gè)滑動(dòng)塊。還有，操作過程中，可以在底面部89形成涂膜90后結(jié)合，另外也可以在結(jié)合后在底面部89形成涂膜90。
如上所述，通過在滑動(dòng)塊的與盤相對的面上以不致影響光學(xué)特性的厚度涂布或涂敷潤滑劑，防止對滑動(dòng)塊底面的灰塵等的附著，或者得到在滑動(dòng)塊底面和盤表面之間容易去除灰塵的效果。而且，能夠減小摩擦系數(shù)，防止滑動(dòng)塊和盤的帖合等。
另外，通過對滑動(dòng)塊的底面用研磨等實(shí)施粗加工，能夠防止滑動(dòng)塊和盤的帖合等，進(jìn)而減小摩擦。例如，最好以1～10nm的粗度(凹凸)進(jìn)行表面加工。
于是，按照上述結(jié)構(gòu)能夠得到如下的優(yōu)點(diǎn)。
·在從空氣流入方向看的滑動(dòng)塊的寬度方向(滾動(dòng)方向)上，上浮用導(dǎo)軌部的中央部上形成導(dǎo)軌部或各種形狀的突出部，使光束透過該部分，從而能夠消除灰塵的影響。而且，能夠通過使光束透過其滑動(dòng)塊的上浮高度的變動(dòng)最小的部分即中間的導(dǎo)軌部或突出部來確保穩(wěn)定性。就是說，在與盤的圓周方向的關(guān)系上，考慮到靠近滑動(dòng)塊的外周圓與內(nèi)周圓的部分其上浮高度的變動(dòng)較大(參照圖7)的情形，最好將光束的通路設(shè)定在中央的導(dǎo)軌部或突出部上。
·使成對的上浮用導(dǎo)軌部和它們之間的導(dǎo)軌部或突出部的高度不同，兩者間保留高度差，即，使該導(dǎo)軌部或突出部的高度相對較低而存在高低差，從而不影響防塵措施的效果，而能減少因上浮高度變動(dòng)而產(chǎn)生的對光束的影響。另外，能夠防止因灰塵導(dǎo)致的導(dǎo)軌部或突出部的損傷。
·通過采用利用了在滑動(dòng)塊和盤之間形成的空氣軸承的結(jié)構(gòu)(飛行讀寫頭結(jié)構(gòu))，能夠?qū)崿F(xiàn)光學(xué)式、光磁式的盤驅(qū)動(dòng)裝置(ROM、RAM/WO等)的薄型化，并且，通過采取充分的防塵措施，能夠防止性能的降低，且提高質(zhì)量與可靠性。
工業(yè)上的利用可能性由以上的說明可了解到依據(jù)本發(fā)明的第一方面，由于光束透過中間的導(dǎo)軌部或突出部，能夠消除與氣流一起在滑動(dòng)塊和盤式記錄媒體之間有灰塵等流入時(shí)影響光學(xué)特性的情形，并能防止記錄性能或再現(xiàn)性能的降低。
依據(jù)本發(fā)明的第二方面，通過形成高低差，提高滑動(dòng)塊上浮時(shí)的穩(wěn)定度，并減少對光束的影響，另外，能夠緩解因灰塵導(dǎo)致滑動(dòng)塊底面受損傷的情形。
依據(jù)本發(fā)明的第三方面，能夠穩(wěn)定上浮狀態(tài)下的滑動(dòng)塊的姿勢(滾動(dòng)姿勢)。
依據(jù)本發(fā)明的第四方面，通過防止上浮姿勢下的透鏡的傾斜，能夠減少對光學(xué)特性的影響。
依據(jù)本發(fā)明的第五方面，能夠制作對于基材與透鏡成為一體的滑動(dòng)塊，適于薄型化和高精度化。
依據(jù)本發(fā)明的第六方面，有利于成本和加工性方面。
依據(jù)本發(fā)明的第七方面，能夠在灰塵等中保護(hù)滑動(dòng)塊底面，并提高耐久性。
依據(jù)本發(fā)明的第八方面，能夠減小摩擦系數(shù)，且防止灰塵等附著在滑動(dòng)塊底面。
依據(jù)本發(fā)明的第九方面，能夠防止滑動(dòng)塊與盤帖著。
依據(jù)本發(fā)明的第十方面，能夠防止滑動(dòng)塊的上浮高度不致降到所需以下。
權(quán)利要求
1.一種浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，可根據(jù)因盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流相對該盤式記錄媒體上浮，同時(shí)使透鏡聚光的光束透過后照射到盤式記錄媒體，其特征在于設(shè)有在與上述盤式記錄媒體相對的面上，沿氣流方向形成的彼此平行的一對導(dǎo)軌部，和在與上述氣流方向垂直的上述一對導(dǎo)軌部的寬度方向的大致中央向氣流方向延伸且形成寬度比上述導(dǎo)軌部窄的中間的導(dǎo)軌部或突出部；該導(dǎo)軌部或突出部使上述光束透過。
2.如權(quán)利要求1所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于上述一對的導(dǎo)軌部由上浮用的第一導(dǎo)軌部和第二導(dǎo)軌部構(gòu)成，以該第一導(dǎo)軌部和第二導(dǎo)軌部之間形成的槽為基準(zhǔn)，上述中間的導(dǎo)軌部或突出部的高度低于上述第一與第二導(dǎo)軌部的高度，從而在上述中間的導(dǎo)軌部或突出部和上述第一與第二導(dǎo)軌部之間形成高低差。
3.如權(quán)利要求1所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于盤式記錄媒體的半徑方向的上述各導(dǎo)軌部的寬度，根據(jù)與各導(dǎo)軌部對應(yīng)的盤式記錄媒體上的位置的線速度差而不同。
4.如權(quán)利要求1所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于在上述中間的導(dǎo)軌部或突出部上與盤式記錄媒體相對的面設(shè)有上述透鏡，在根據(jù)因盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流上浮的狀態(tài)下，上述透鏡相對于該盤式記錄媒體的表面大致平行地配置。
5.如權(quán)利要求1所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于向透明材料形成的基材的凹部上填充折射率不同于該透明材料的透明材料形成上述透鏡。
6.如權(quán)利要求5所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于上述基材由玻璃材料形成。
7.如權(quán)利要求1所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于形成上述一對的導(dǎo)軌部或上述中間的導(dǎo)軌部或者突出部的材料采用比滑動(dòng)塊的形成材料硬的材料。
8.如權(quán)利要求1所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于在與盤式記錄媒體相對的面上涂布或涂敷了潤滑劑。
9.如權(quán)利要求1所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于對與盤式記錄媒體相對的面實(shí)施了粗加工。
10.如權(quán)利要求1所述的浮動(dòng)型滑動(dòng)塊，其特征在于與上述一對導(dǎo)軌部的盤式記錄媒體相對的面形成為向該盤式記錄媒體側(cè)凸的球面。
11.一種光學(xué)頭裝置，其中設(shè)有用以向盤式記錄媒體照射光地設(shè)置的光源和根據(jù)因該盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流上浮的滑動(dòng)塊，該滑動(dòng)塊上配置了包含物鏡的光學(xué)系統(tǒng)或該光學(xué)系統(tǒng)和磁場發(fā)生部，同時(shí)利用該滑動(dòng)塊和盤式記錄媒體之間形成的氣體層的軸承作用進(jìn)行聚焦方向的讀寫頭驅(qū)動(dòng)控制，其特征在于上述滑動(dòng)塊中設(shè)有在與上述盤式記錄媒體相對的面上，沿氣流方向形成的彼此平行的一對導(dǎo)軌部，和在與上述氣流方向垂直的上述一對導(dǎo)軌部的寬度方向的大致中央向氣流方向延伸且形成寬度比兩導(dǎo)軌部窄的中間的導(dǎo)軌部或突出部；該導(dǎo)軌部或突出部使上述物鏡聚光的光束透過該導(dǎo)軌部或突出部。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于上述一對的導(dǎo)軌部由上浮用的第一導(dǎo)軌部和第二導(dǎo)軌部構(gòu)成，以該第一導(dǎo)軌部和第二導(dǎo)軌部之間形成的槽為基準(zhǔn)，上述中間的導(dǎo)軌部或突出部的高度低于上述第一與第二導(dǎo)軌部的高度，從而在上述中間的導(dǎo)軌部或突出部和上述第一與第二導(dǎo)軌部之間形成高低差。
13.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于盤式記錄媒體的半徑方向的上述各導(dǎo)軌部的寬度，根據(jù)與各導(dǎo)軌部對應(yīng)的盤式記錄媒體上的位置的線速度差而不同。
14.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于在上述中間的導(dǎo)軌部或突出部上與盤式記錄媒體相對的面設(shè)有上述透鏡，在根據(jù)伴隨盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流而上浮的狀態(tài)下，上述透鏡相對于該盤式記錄媒體的表面大致平行地配置。
15.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于上述滑動(dòng)塊具有用透明材料形成的基材，對該基材的凹部上填充折射率不同于該透明材料的透明材料形成上述透鏡。
16.如權(quán)利要求15所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于上述基材由玻璃材料形成。
17.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于形成上述一對的導(dǎo)軌部或上述中間的導(dǎo)軌部或者突出部的材料采用比上述滑動(dòng)塊的形成材料硬的材料。
18.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于在上述滑動(dòng)塊中與盤式記錄媒體相對的面上涂布或涂敷了潤滑劑。
19.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于上述滑動(dòng)塊對與盤式記錄媒體相對的面實(shí)施了粗加工。
20.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于上述一對導(dǎo)軌部在與其盤式記錄媒體相對的面上形成為向該盤式記錄媒體側(cè)凸的球面。
21.一種信息處理裝置，設(shè)有旋轉(zhuǎn)盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)部件，對該盤式記錄媒體進(jìn)行信息記錄或信息再現(xiàn)的光學(xué)頭裝置中設(shè)有用以向該盤式記錄媒體照射光而設(shè)置的光源和根據(jù)因該盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流上浮的滑動(dòng)塊，該滑動(dòng)塊上配置了包含物鏡的光學(xué)系統(tǒng)或該光學(xué)系統(tǒng)和磁場發(fā)生部，同時(shí)利用該滑動(dòng)塊和該盤式記錄媒體之間形成的氣體層的軸承作用進(jìn)行聚焦方向的讀寫頭驅(qū)動(dòng)控制，其特征在于上述滑動(dòng)塊中設(shè)有在與上述盤式記錄媒體相對的面上，沿氣流方向形成的彼此平行的一對導(dǎo)軌部，和在與上述氣流方向垂直的上述一對導(dǎo)軌部的寬度方向的大致中央向氣流方向延伸且形成寬度比兩導(dǎo)軌部窄的中間的導(dǎo)軌部或突出部；該導(dǎo)軌部或突出部使上述物鏡聚光的光束透過該導(dǎo)軌部或突出部。
22.如權(quán)利要求21所述的信息處理裝置，其特征在于上述一對的導(dǎo)軌部由上浮用的第一導(dǎo)軌部和第二導(dǎo)軌部構(gòu)成，以該第一導(dǎo)軌部和第二導(dǎo)軌部之間形成的槽為基準(zhǔn)，上述中間的導(dǎo)軌部或突出部的高度低于上述第一與第二導(dǎo)軌部的高度，從而在上述中間的導(dǎo)軌部或突出部和上述第一與第二導(dǎo)軌部之間形成高低差。
23.如權(quán)利要求21所述的信息處理裝置，其特征在于盤式記錄媒體的半徑方向的上述各導(dǎo)軌部的寬度，根據(jù)與各導(dǎo)軌部對應(yīng)的盤式記錄媒體上的位置的線速度差而不同。
24.如權(quán)利要求21所述的信息處理裝置，其特征在于在上述中間的導(dǎo)軌部或突出部上與盤式記錄媒體相對的面設(shè)有上述透鏡，在根據(jù)因盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流上浮的狀態(tài)下，上述透鏡相對于該盤式記錄媒體的表面大致平行地配置。
25.如權(quán)利要求21所述的信息處理裝置，其特征在于上述滑動(dòng)塊具有用透明材料形成的基材，對該基材的凹部上填充折射率不同于該透明材料的透明材料形成上述透鏡。
26.如權(quán)利要求25所述的信息處理裝置，其特征在于上述基材由玻璃材料形成。
27.如權(quán)利要求21所述的信息處理裝置，其特征在于形成上述一對的導(dǎo)軌部或上述中間的導(dǎo)軌部或者突出部的材料采用比上述滑動(dòng)塊的形成材料硬的材料。
28.如權(quán)利要求21所述的信息處理裝置，其特征在于在上述滑動(dòng)塊中與盤式記錄媒體相對的面上涂布或涂敷了潤滑劑。
29.如權(quán)利要求21所述的信息處理裝置，其特征在于上述滑動(dòng)塊對與盤式記錄媒體相對的面實(shí)施了粗加工。
30.如權(quán)利要求21所述的信息處理裝置，其特征在于上述一對導(dǎo)軌部在與其盤式記錄媒體相對的面上形成為向該盤式記錄媒體側(cè)凸的球面。
全文摘要
在使用浮動(dòng)型滑動(dòng)塊的光學(xué)讀寫頭裝置或信息處理裝置中，減小塵埃導(dǎo)致的影響，并防止記錄再現(xiàn)性能的惡化。光學(xué)讀寫頭裝置中設(shè)有根據(jù)因盤式記錄媒體的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的空氣流上浮的滑動(dòng)塊(28)，該滑動(dòng)塊中與盤式記錄媒體相對的面上，沿氣流方向形成了平行的導(dǎo)軌部(28A、28B)。在兩導(dǎo)軌部的中間形成導(dǎo)軌部(29)，使物鏡聚光的光束透過由透明材料形成的導(dǎo)軌部(29)。即使在滑動(dòng)塊和盤式記錄媒體之間流入灰塵也不致影響光學(xué)特性。
文檔編號G11B11/105GK1698107SQ200480000150
公開日2005年11月16日 申請日期2004年1月30日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月30日
發(fā)明者渡邊哲, 金澤孝恭, 青木直, 山田正裕 申請人:索尼株式會(huì)社