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一種基于濺射薄膜的薄膜應變計的制作方法

文檔序號:11661004閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種基于濺射薄膜的薄膜應變計,其特征在于:由自下而上依次設置的基底(3)、薄膜應變計敏感柵(2)和覆蓋物保護膜(1)組成,所述的薄膜應變計敏感柵(2)包括一個由兩側邊柵(2c)、多段縱向測量柵(2b)以及多段橫向測量柵(2a)一體連通的呈蛇形排布的柵體,其中在兩側邊珊的末端沿伸有過渡段(2d)和焊接柵(2e),在焊接柵(2e)上連接有導引電信號的引出線(4)。

2.根據權利要求1所述的基于濺射薄膜的薄膜應變計,其特征在于:所述的薄膜應變計敏感柵(2)為首先通過金屬濺射薄膜工藝將金屬鍍在基底(3)上形成金屬膜,再經過刻蝕工藝將鍍在基底(3)上的金屬膜刻蝕形成的敏感柵。

3.根據權利要求1或2所述的基于濺射薄膜的薄膜應變計,其特征在于:所述的薄膜應變計敏感柵(2)采用鎳鉻合金材料制成,阻值為1500±5Ω、厚度為1μm。

4.根據權利要求1所述的基于濺射薄膜的薄膜應變計,其特征在于:所述的覆蓋物保護膜(1)是在薄膜應變計敏感柵(2)的表面通過金屬濺射薄膜工藝鍍有的一層厚度1~2μm的氮化硅保護膜。

5.根據權利要求1所述的基于濺射薄膜的薄膜應變計,其特征在于:所述的基底(3)材料為厚度小于100μm的聚酰亞胺薄膜。

6.根據權利要求1所述的基于濺射薄膜的薄膜應變計,其特征在于:在焊接柵(2e)上面通過濺射薄膜工藝鍍有一層用于焊接引出線(4)的純銅,由導體材料制成的引出線(4)通過焊接的方式焊接在焊接柵(2e)上。

7.根據權利要求1所述的基于濺射薄膜的薄膜應變計,其特征在于:基底(3)由絕緣材料制成,在基底(3)表面制設有縱軸線標記(3a)、45°方向定位標記(3b)、橫軸線標記(3c)和裁剪標記(3d)。

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