1.一種基于電離室系統(tǒng)的檢測方法，其特征在于，所述檢測方法包括：
將X光機設(shè)置于X光機平臺上；
將附加濾過片插接于濾過裝置上；
調(diào)節(jié)所述濾過裝置，使所述附加濾過片中心與X光機的X光出射位置在同一水平位置；
控制第一電機驅(qū)動第一底座在第一導(dǎo)軌上運動至工作位置；并且控制第二電機驅(qū)動第二底座在第二導(dǎo)軌上運動至工作位置；
調(diào)節(jié)升降裝置和所述升降裝置上的旋轉(zhuǎn)臺，使設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)臺上的電離室裝置的接收射線位置與所述附加濾過片中心、X光機的X光出射位置在同一條直線上；
所述X光機產(chǎn)生初始X射線束；
所述初始X射線束經(jīng)過附加濾過片后，對低于第一閾值能量的射線進行濾除；
所述電離室裝置接收過濾后的X射線束，所述過濾后的X射線束使所述電離室裝置內(nèi)的空氣發(fā)生電離，產(chǎn)生電離電流；
靜電計對電離電流進行檢測，得到電離電流值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于電離室系統(tǒng)的檢測方法，其特征在于，所述濾過裝置具有濾過轉(zhuǎn)盤，所述濾過轉(zhuǎn)盤設(shè)有包括N個濾光孔，所述N為大于1的正整數(shù)，所述附加濾過片插接于所述濾光孔中；所述濾過轉(zhuǎn)盤由濾過旋轉(zhuǎn)電機驅(qū)動；
所述調(diào)節(jié)所述濾過裝置具體為：所述濾過旋轉(zhuǎn)電機接收濾過旋轉(zhuǎn)信號，驅(qū)動所述濾過轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，帶動所述濾過轉(zhuǎn)盤的附加濾過片旋轉(zhuǎn)至工作位。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于電離室系統(tǒng)的檢測方法，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)臺包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動電機、固定部和旋轉(zhuǎn)盤；所述旋轉(zhuǎn)盤設(shè)置于所述固定部上；
所述調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)臺具體為：所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動電機接收旋轉(zhuǎn)信號，驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)盤在所述固定部上旋轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于電離室系統(tǒng)的檢測方法，其特征在于，所述第一導(dǎo)軌包括：固定平臺、兩條滑軌、第一滑塊和絲杠；
所述兩條滑軌平行設(shè)置于所述固定平臺上；所述絲杠設(shè)置于所述兩條滑軌中間，并平行于所述兩條滑軌；所述第一滑塊設(shè)置于所述絲杠上并與第一底座的底部相連；
所述控制第一電機驅(qū)動所述第一底座在第一導(dǎo)軌上運動至工作位置具體為：所述第一電機接收第一位移信號，驅(qū)動所述絲杠轉(zhuǎn)動，帶動所述第一滑塊沿所述絲杠運動至工作位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于電離室系統(tǒng)的檢測方法，其特征在于，在所述靜電計對電離電流進行檢測之后，所述檢測方法還包括：改變所述初始X射線束的強度和平均能量，再次進行檢測。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于電離室系統(tǒng)的檢測方法，其特征在于，在所述靜電計對電離電流進行檢測之后，所述檢測方法還包括：旋轉(zhuǎn)所述濾過轉(zhuǎn)盤，更換處于工作位的附加濾過片，再次進行檢測。