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一種超導(dǎo)線阻隔層用鈮帶的組織的檢驗(yàn)方法與流程

文檔序號(hào):12466228閱讀:208來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明屬于材料表面結(jié)構(gòu)測(cè)定技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種超導(dǎo)線阻隔層用鈮帶的組織的檢驗(yàn)方法。



背景技術(shù):

國(guó)際熱核聚變實(shí)驗(yàn)堆項(xiàng)目是全球規(guī)模最大、影響最深遠(yuǎn)的國(guó)際大科學(xué)工程合作項(xiàng)目之一。超導(dǎo)線材阻隔層材料作為ITER項(xiàng)目中重要的超導(dǎo)線材組件,必須具有非常高的化學(xué)純度和組織均勻性,我公司已成為低溫超導(dǎo)線材阻隔層用鈮帶材唯一供貨商,并形成產(chǎn)能6000kg/年。由于金屬鈮粘,不易拋削,采用傳統(tǒng)的機(jī)械拋光拋制金相觀察表面,制樣周期長(zhǎng),拋制的表面易粘臟東西,影響組織的觀察,很難獲得清晰組織,該方法也不能有效滿足鈮帶材的批量檢驗(yàn)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種能有效快速解決鈮帶材的試樣表面拋光問(wèn)題,使超導(dǎo)線阻隔層用鈮帶材金相組織清晰可見(jiàn)的超導(dǎo)線阻隔層用鈮帶的組織的檢驗(yàn)方法。該方法采用由H2SO4、HNO3和HF混合的拋光溶液拋光鈮帶材的金相表面,時(shí)間短,一般小于7S,能得到比物理拋光效果好的表面,拋光后的表面經(jīng)腐蝕后能得到清晰的組織結(jié)構(gòu),該方法消除了機(jī)械拋光后表面不干凈,腐蝕后組織不清晰的影響。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種超導(dǎo)線阻隔層用鈮帶的組織的檢驗(yàn)方法,其特征在于,包括以下步驟:

步驟一、把鈮帶上的金相觀測(cè)平面在金相研磨機(jī)上研磨,研磨后沖洗掉金相觀測(cè)平面上的砂粒;

步驟二、將步驟一中沖洗掉砂粒的鈮帶置于拋光溶液中進(jìn)行化學(xué)拋光,直至金相觀測(cè)平面表面發(fā)亮;所述拋光溶液為H2SO4、HNO3和HF按照5:1:1的體積比混合的混合溶液;

步驟三、將步驟二中拋光后的鈮帶置于腐蝕液中腐蝕,所述腐蝕液為HNO3、HCL和HF按照1:1:1的體積比混合的混合溶液;

步驟四、將步驟三中經(jīng)腐蝕后的鈮帶的金相觀測(cè)平面置于顯微鏡下進(jìn)行金相組織的觀測(cè)。

上述的一種超導(dǎo)線阻隔層用鈮帶的組織的檢驗(yàn)方法,步驟一中所述研磨的過(guò)程為依次用400#和700#的金相水砂紙逐級(jí)研磨,以確保完全消除上一次研磨痕跡。

上述的一種超導(dǎo)線阻隔層用鈮帶的組織的檢驗(yàn)方法,步驟二中所述H2SO4、HNO3和HF均為分析純?cè)噭?/p>

上述的一種超導(dǎo)線阻隔層用鈮帶的組織的檢驗(yàn)方法,步驟三中所述HNO3、HCL和HF均為分析純?cè)噭?/p>

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn):

1、本發(fā)明采用由H2SO4、HNO3和HF混合的拋光溶液拋光鈮帶材的金相表面,時(shí)間短,一般小于7S,能得到比物理拋光效果好的表面,拋光后的表面經(jīng)腐蝕后能得到清晰的組織結(jié)構(gòu),該方法消除了機(jī)械拋光后表面不干凈,腐蝕后組織不清晰的影響。

2、本發(fā)明方法易于操作,不需任何特殊設(shè)備,能清晰地快速批量檢驗(yàn)鈮帶材組織,有效解決了現(xiàn)有鈮帶材金相組織制樣周期長(zhǎng)很難獲得清晰組織的問(wèn)題。

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的超導(dǎo)線材阻隔層用鈮帶的金相組織圖。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1

厚度0.4mm×254mm×254mm的鈮帶的金相組織觀測(cè),該鈮帶的組織的檢驗(yàn)方法包括以下方法:

步驟一、把鈮帶上的金相觀測(cè)平面在金相研磨機(jī)上研磨,研磨后沖洗掉金相觀測(cè)平面上的砂粒;所述研磨的過(guò)程為依次用400#和700#的金相水砂紙逐級(jí)研磨,以確保完全消除上一次研磨痕跡;

步驟二、將步驟一中沖洗掉砂粒的鈮帶置于拋光溶液中進(jìn)行化學(xué)拋光,直至金相觀測(cè)平面表面發(fā)亮;所述拋光溶液為H2SO4、HNO3和HF按照5:1:1的體積比混合的混合溶液,所述H2SO4、HNO3和HF均為分析純?cè)噭?/p>

步驟三、將步驟二中拋光后的鈮帶置于腐蝕液中腐蝕,所述腐蝕液為HNO3、HCL和HF按照1:1:1的體積比混合的混合溶液,所述HNO3、HCL和HF均為分析純?cè)噭?/p>

步驟四、將步驟三中經(jīng)腐蝕后的鈮帶的金相觀測(cè)平面置于顯微鏡下進(jìn)行金相組織的觀測(cè)。

本實(shí)施例觀測(cè)到的鈮帶橫截面的金相組織如圖1所示,從圖中可以看出,觀測(cè)到的晶粒晶界完整清晰。

以上所述,僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例,并非對(duì)本發(fā)明做任何限制,凡是根據(jù)發(fā)明技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、變更以及等效結(jié)構(gòu)變化,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。

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