專利名稱：用于干蝕刻反應室的壓力計感應器的緩沖器的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明系關(guān)于一種壓力計的緩沖器，特別關(guān)于一種用來保護測量干蝕刻反應室內(nèi)壓力的壓力計感應器的緩沖器。
背景技術(shù)：
在微電子裝置，例如發(fā)光二極管和平面顯示器等的制作中，蝕刻制程(dryetch processing)常用來選擇性移除一基板表面上的一圖案化的薄膜材料。在干蝕刻制程中，將一氣體導入一千蝕刻反應室內(nèi)，并施加一電場，使該氣體被激發(fā)而產(chǎn)生一電漿，以作為蝕刻媒介。該電漿使該氣體崩潰形成反應性粒子，并解離該氣體，促進該等氣體粒子在該電場的影響下往該基板移動，于是該等氣體離子轟擊該基板表面，與該基板表面上的特定薄膜材料發(fā)生反應，將該特定薄膜材料從該基板表面上除去。
圖1為一干蝕刻機臺(dry etcher)的反應室1與壓力計(gauge)2的相對位置示意圖。真空管3連接反應室1與壓力計2。真空管3是鎖入該反應室壁(chamber wall)內(nèi)與該反應室1的窗口(window)連通，且該壓力計2與該真空管3相接處有一開關(guān)閥(valve)21。當該開關(guān)閥21打開時，在該壓力計2前方的感應器(gauge sensor)22就可讀取該反應室1內(nèi)的壓力。
如圖1所示，該干蝕刻反應室(dry etching chamber)1在進行反應時所產(chǎn)生的電漿氣體粒子團，于壓力計2的開關(guān)閥21打開時，就直接沖擊到感應器22，并漸漸地沉積附著在感應器22上。經(jīng)過一段時間后，感應器22的靈敏度就會產(chǎn)生偏差，導致感應器22無法正確讀取該反應室1內(nèi)的壓力，而影響產(chǎn)品的品質(zhì)。因此，在現(xiàn)有制程中，必須經(jīng)常對感應器22進行校正，嚴重時甚至必須更換新的感應器。
因此，急需解決上述現(xiàn)有的用來測量干蝕刻機臺反應室壓力的壓力計在使用中出現(xiàn)的問題，以便能維持壓力計的感應器的靈敏度并延長壓力計的使用壽命。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的即是提供一種用于干蝕刻反應室的壓力計緩沖器。藉由此緩沖器，可阻擋該反應室的電漿直接沖擊壓力計的感應器，維持壓力計的感應器的靈敏度并延長壓力計的使用壽命。
為達到上述的目的，本發(fā)明系揭示一種用來保護測量一干蝕刻反應室內(nèi)壓力的壓力計感應器的緩沖器(damper)。此緩沖器包括一真空管，連接所述的反應室與壓力計，該真空管內(nèi)壁上的至少設置一板片，該至少一板片用來阻擋反應室的電漿直接沖擊感應器，使電漿主要沉積附著在該至少一板片上，而非感應器上。


圖1為習知技術(shù)的干蝕刻機臺的反應室與壓力計的相對位置示意圖；以及圖2為本發(fā)明的壓力計緩沖器結(jié)構(gòu)的較佳實施例。
附圖編號說明反應室------1壓力計------2真空管-----3，4開關(guān)閥------21緩沖器結(jié)構(gòu)-5感應器-----22板片------4 1網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)---具體實施方式
本發(fā)明揭示一種用來保護測量干蝕刻反應室內(nèi)壓力的壓力計的緩沖器(gauge damper)；利用此緩沖器，可阻擋干蝕刻反應室的電漿直接沖擊壓力計的感應器，并有效防止電漿附著在感應器上，因而能維持感應器的靈敏度，且延長壓力計的使用壽命。參照附圖，將詳細說明本發(fā)明的具體實施方式
。
圖2是顯示本發(fā)明的壓力計緩沖器結(jié)構(gòu)的較佳實施例。此緩沖器結(jié)構(gòu)5系在連接反應室1與壓力計2的真空管4內(nèi)組裝一片以上的板片41-例如不銹鋼片，使從該反應室1流經(jīng)真空管4的電漿氣體粒子團會先沉積附著在板片41上，而不會直接沖擊壓力計2的感應器22，因此具有緩沖的效果。
圖2是例示兩個板片，分別設置在真空管4的上和下內(nèi)壁，使電漿氣體從反應室1流經(jīng)真空管4時的流向路徑(如箭頭所示)呈S型，藉以加強緩沖的效果。
再者，亦可選擇性地在真空管4靠近反應室1的前端，在第一片板片41的前面，設置一網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)42-例如鐵絲網(wǎng)，以便加強阻擋電漿沖擊和附著在感應器22的緩沖作用。板片41和網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)42皆可拆卸下來清洗。
于是，此緩沖器結(jié)構(gòu)5就可保護該壓力計2前方的感應器22免于電漿直接沖擊和大量附著，大為改善習知技術(shù)中的感應器的零點經(jīng)常變化(shift)的情況，減少壓力計需維修的次數(shù)，并延長壓力計的使用壽命。此外，在壓力計2與反應室1之間裝設此緩沖器結(jié)構(gòu)5，對壓力計2讀取反應室1內(nèi)的壓力并沒有明顯的負面影響。就具有兩片不銹鋼片的緩沖器結(jié)構(gòu)而言，習知未裝設此緩沖器結(jié)構(gòu)5的該壓力計2大約在1秒內(nèi)可讀取到該反應室1內(nèi)的壓力，而該壓力計2在裝設此緩沖器結(jié)構(gòu)5后，大約在2-3秒內(nèi)可讀取到壓力。
本發(fā)明的緩沖器結(jié)構(gòu)內(nèi)的板片的數(shù)目、設置位置、形狀和材質(zhì)等，皆可視實際需要作適當?shù)淖兓?br> 以上所述，是利用較佳實施例詳細說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明的范圍，任何熟悉該技術(shù)的人在本發(fā)明所揭示的技術(shù)范圍內(nèi)，可以輕易想到的變化或替代，都涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)，本發(fā)明的保護范圍以權(quán)利要求書為準。
權(quán)利要求
1.一種用于干蝕刻反應室的壓力計感應器的緩沖器，包括一真空管，連接該反應室與該壓力計，其特征在于至少一板片，設置在該真空管內(nèi)壁上，用來阻擋該反應室的電漿直接沖擊該感應器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于干蝕刻反應室的壓力計感應器的緩沖器，其中所述的板片為不銹鋼片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于干蝕刻反應室的壓力計感應器的緩沖器，其特征在于還包括一網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，設置在所述的真空管靠近該反應室的前端處。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于干蝕刻反應室的壓力計感應器的緩沖器，其中所述的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)為鐵絲網(wǎng)。
5.一種用于干蝕刻反應室的壓力計感應器的緩沖器，包括一真空管，連接該反應室與該壓力計，其特征在于兩板片，分別一前一后地設置在該真空管之上和下內(nèi)壁上，用來阻擋該反應室的電漿直接沖擊該感應器。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于干蝕刻反應室的壓力計感應器的緩沖器其特[征在于還包括一網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，設置在所述的真空管靠近該反應室之前端處。
全文摘要
一種用于干蝕刻反應室的壓力計感應器的緩沖器。這種緩沖器包括用來連接該反應室與該壓力計的一真空管和用來阻擋該反應室的電漿直接沖擊該感應器的至少一板片，該板片設置在該真空管內(nèi)壁上，可有效防止電漿附著在該感應器上。
文檔編號G01L9/00GK1570581SQ0314610
公開日2005年1月26日 申請日期2003年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月22日
發(fā)明者彭順煌, 楊世雄, 梁忠棋, 黃明夷 申請人:友達光電股份有限公司