1.一種粘接件，其特征在于，包括：基材和粘接劑；
所述基材的表面雕有至少一組微孔；
所述粘接劑位于所述基材雕有微孔的一側(cè)；
所述至少一組微孔用于容置所述粘接劑，以使所述基材和所述粘接劑形成固定連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘接件，其特征在于，
所述至少一組微孔的底面與所述基材的表面呈預(yù)設(shè)傾斜角度；
所述微孔內(nèi)的粘接劑與所述微孔的側(cè)壁形成倒扣，以限制所述粘接劑移出所述微孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的粘接件，其特征在于，
所述各組微孔的傾斜方向交錯分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘接件，其特征在于，各組微孔分別包括至少兩個微孔；
當(dāng)存在多于一組微孔時，各組微孔分別具有不同的傾斜方向。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘接件，其特征在于，
所述至少一組微孔呈矩陣分布。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘接件，其特征在于，
對每組微孔鐳雕的移動速度與光斑直徑和出光頻率相關(guān)；
各組微孔的間距與光斑直徑相關(guān)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘接件，其特征在于，
所述基材由金屬制成。
8.一種粘接方法，其特征在于，包括：
按照預(yù)設(shè)鐳雕程序鐳雕基材的表面，形成至少一組微孔；
將粘接劑灌注于所述至少一組微孔內(nèi)，使所述基材和所述粘接劑形成固定連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述按照預(yù)設(shè)鐳雕程序鐳雕基材的表面的步驟，包括：
將所述基材的各邊依次交替抬起至預(yù)設(shè)傾斜角度；
以預(yù)設(shè)的移動速度和間距鐳雕所述基材的表面，形成具有不同傾斜方向的各組微孔；
其中，所述移動速度依據(jù)光斑直徑和出光頻率確定，所述間距依據(jù)光斑直徑確定。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，在所述按照預(yù)設(shè)鐳雕程序鐳雕基材的表面之后，還包括：
對已形成的所述微孔，變更傾斜方向再次鐳雕。