本技術(shù)涉及電鍍,具體涉及一種電鍍設(shè)備。
背景技術(shù):
1、電鍍是利用電化學(xué)反應(yīng),在待鍍工件例如電池片上或某些金屬表面上或其他材料表面上,鍍一薄層的其它金屬或合金的過程。電鍍過程中,為排除其他陽離子的干擾,使鍍層均勻牢固,通常用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液,以鍍層金屬或其他不溶性材料作為陽極,保持溶液內(nèi)鍍層金屬陽離子的濃度不變,將待鍍工件浸入電鍍液中,以待鍍工件作為陰極。經(jīng)過電鍍工藝,待鍍工件沉積出性能和基體材料不同的金屬覆層,起到防腐蝕防銹、防護(hù)裝飾、提高耐磨性、電性能、反光性等作用。
2、目前通常采用沉浸式電鍍的方式,電鍍設(shè)備包括電鍍槽和夾具,電鍍槽內(nèi)盛放電鍍液,夾具夾緊待鍍工件后,將待鍍工件緩慢放入電解槽內(nèi),然后通電,在電位差的作用下,電鍍液中的金屬陽離子朝向陰極(待鍍工件)移動(dòng)并在待鍍工件表面被還原而形成鍍層,鍍層附著后斷電,將待鍍工件取出。但是,上述的電鍍設(shè)備,電鍍槽中的電鍍液在長時(shí)間通電使用的情況下容易產(chǎn)生離子沉積等情況,進(jìn)而影響電鍍均勻性,尤其是對于電池片等對厚度均勻性較高的工件,電鍍質(zhì)量無法保證。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、因此,本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于現(xiàn)有技術(shù)中的電鍍設(shè)備,電鍍槽中的電鍍液在長時(shí)間通電使用的情況下容易產(chǎn)生離子沉積等情況,進(jìn)而影響電鍍均勻性,待鍍工件的電鍍質(zhì)量無法保證的缺陷,從而提供一種電鍍設(shè)備。
2、為了解決上述問題,本實(shí)用新型提供了一種電鍍設(shè)備,包括:
3、箱體,所述箱體成型有適于容置電鍍液的電鍍槽和輔助槽,所述電鍍槽和所述輔助槽通過連接結(jié)構(gòu)相連通;
4、驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu),固定安裝在所述連接結(jié)構(gòu)上,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)適于驅(qū)動(dòng)電鍍液在所述電鍍槽與輔助槽之間循環(huán)流動(dòng);
5、鼓泡結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述電鍍槽內(nèi),所述鼓泡結(jié)構(gòu)上成型有進(jìn)氣口和若干出氣孔,若干所述出氣孔適于浸于電鍍液中;在外力的驅(qū)動(dòng)下,氣態(tài)介質(zhì)適于從所述進(jìn)氣口進(jìn)入所述鼓泡結(jié)構(gòu)并通過若干所述出氣孔排出到電鍍液中以均勻電鍍液。
6、可選地,上述的電鍍設(shè)備,通過所述鼓泡結(jié)構(gòu)的氣態(tài)介質(zhì)為氮?dú)饣驂嚎s空氣。
7、可選地,上述的電鍍設(shè)備,連接結(jié)構(gòu)包括:
8、進(jìn)液管,所述進(jìn)液管一端連通所述輔助槽,另一端通入所述電鍍槽內(nèi),所述進(jìn)液管上設(shè)置所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)以驅(qū)動(dòng)所述輔助槽內(nèi)的電鍍液通入所述電鍍槽內(nèi);
9、回液管,所述回液管一端與所述電鍍槽的底端相連通,另一端與所述輔助槽相連通。
10、可選地,上述的電鍍設(shè)備,還包括:噴淋結(jié)構(gòu),固定在所述電鍍槽內(nèi)且浸入到電鍍液中;所述噴淋結(jié)構(gòu)包括:
11、連接管,所述連接管與所述進(jìn)液管相連通;
12、多組噴淋管,沿所述連接管的長度方向上間隔設(shè)置且與所述連接管相連通,任一所述噴淋管上設(shè)置有若干噴淋孔,若干所述噴淋孔沿所述噴淋管的長度方向設(shè)置。
13、可選地,上述的電鍍設(shè)備,所述噴淋結(jié)構(gòu)設(shè)置為兩組,兩組所述噴淋結(jié)構(gòu)相互平行且間隔設(shè)置;兩組所述噴淋結(jié)構(gòu)中噴淋管的噴淋孔相對設(shè)置,兩組所述噴淋管之間適于放置待鍍工件。
14、可選地,上述的電鍍設(shè)備,還包括:防護(hù)板,所述防護(hù)板設(shè)置在所述噴淋結(jié)構(gòu)與所述電鍍槽的側(cè)壁之間,所述防護(hù)板上端成型有若干長孔以使電鍍液通過;電鍍陽極設(shè)置在所述防護(hù)板與電鍍槽側(cè)壁之間。
15、可選地,上述的電鍍設(shè)備,還包括:安裝在所述箱體上的調(diào)節(jié)組件,所述調(diào)節(jié)組件適于帶動(dòng)待鍍工件在電鍍液中運(yùn)動(dòng);所述調(diào)節(jié)組件包括:
16、升降結(jié)構(gòu),包括連接件和第一驅(qū)動(dòng)組件,所述連接件沿電鍍槽的長度方向架設(shè)在電鍍槽上方,所述第一驅(qū)動(dòng)組件的安裝端固定在所述箱體上,驅(qū)動(dòng)端與所述連接件相連接以帶動(dòng)所述連接件上下運(yùn)動(dòng);
17、可選地,上述的電鍍設(shè)備,所述調(diào)節(jié)組件還包括:
18、夾持結(jié)構(gòu),包括安裝件和若干夾持件,所述安裝件可滑動(dòng)的設(shè)置在所述連接件上,若干所述夾持件一端固定在所述安裝件上,另一端適于夾持待鍍工件;
19、滑移結(jié)構(gòu),包括滑移件和第二驅(qū)動(dòng)組件,所述滑移件適于與下降一定高度的所述安裝件相連接,所述第二驅(qū)動(dòng)組件的安裝端固定在所述箱體上,驅(qū)動(dòng)端與所述滑移件相固定以帶動(dòng)所述安裝件左右移動(dòng)。
20、可選地,上述的電鍍設(shè)備,還包括:檢測結(jié)構(gòu),安裝在所述箱體上,所述檢測結(jié)構(gòu)包括:安裝板、第一檢測件和第二檢測件,所述安裝板豎直設(shè)置,所述第一檢測件和所述第二檢測件分別設(shè)置在所述安裝板的上下兩端且適于與控制設(shè)備電性連接,所述檢測結(jié)構(gòu)適于限位所述調(diào)節(jié)組件的連接件在所述第一檢測件和所述第二檢測件之間升降。
21、可選地,上述的電鍍設(shè)備,還包括:加熱件和溫度檢測件,所述加熱件和所述溫度檢測件的安裝端均固定在所述箱體上,執(zhí)行端均伸入到所述輔助槽內(nèi)的電鍍液中,且適于與控制設(shè)備電性連接。
22、本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):
23、1.本實(shí)用新型提供的電鍍設(shè)備,箱體成型有適于容置電鍍液的電鍍槽和輔助槽,電鍍槽和輔助槽通過連接結(jié)構(gòu)相連通,驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)適于驅(qū)動(dòng)電鍍液在電鍍槽與輔助槽之間循環(huán)流動(dòng),在能夠產(chǎn)生鍍層的電鍍范圍內(nèi),電鍍液較高的循環(huán)速度和循環(huán)流量有助于提高電流密度,達(dá)到更好的成膜效果;鼓泡結(jié)構(gòu)設(shè)置在電鍍槽內(nèi),成型有進(jìn)氣口和若干出氣孔,若干出氣孔適于浸于電鍍液中。本實(shí)用新型的電鍍設(shè)備,適于使電鍍液在驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)的帶動(dòng)下在箱體的電鍍槽和輔助槽內(nèi)循環(huán)流動(dòng),鼓泡結(jié)構(gòu)中成型有若干出氣孔的部分沉浸到電鍍液中,待電鍍液循環(huán)穩(wěn)定后,從鼓泡結(jié)構(gòu)的進(jìn)氣口通入氣態(tài)介質(zhì),通過氣態(tài)介質(zhì)對電鍍液進(jìn)行攪拌;通過設(shè)置電鍍槽和輔助槽,以及鼓泡結(jié)構(gòu),電鍍液在循環(huán)流動(dòng)的同時(shí)被充分?jǐn)嚢?,避免產(chǎn)生離子沉積,提高了電鍍液的電流密度,增強(qiáng)鍍膜均勻性,提高待鍍工件即電池片的電鍍質(zhì)量。
24、2.本實(shí)用新型提供的電鍍設(shè)備,輔助槽內(nèi)的電鍍液經(jīng)進(jìn)液管進(jìn)入到連接管內(nèi),再通過噴淋管的噴淋孔噴出至電鍍槽內(nèi)的電鍍液中,起到均勻電鍍液的作用,通過微小的噴淋孔進(jìn)行噴淋可改善離子的變形,避免發(fā)生電泳現(xiàn)象以及陽離子消耗產(chǎn)生的濃差極化。
25、3.本實(shí)用新型提供的電鍍設(shè)備,夾持結(jié)構(gòu)能夠在升降結(jié)構(gòu)和滑移結(jié)構(gòu)的帶動(dòng)下實(shí)現(xiàn)豎直升降和水平滑動(dòng),進(jìn)而使得待鍍工件能夠在電鍍液中進(jìn)行移動(dòng),進(jìn)一步增強(qiáng)電鍍的均勻性和一致性。
26、4.本實(shí)用新型提供的電鍍設(shè)備,在輔助槽內(nèi)設(shè)置加熱件和溫度檢測件,相較直接對電鍍槽內(nèi)的電鍍液進(jìn)行加熱,在容積較小的輔助槽內(nèi)加熱能夠減少對電鍍槽內(nèi)各器件的損傷,延長電鍍設(shè)備的使用壽命,且加熱效率更高,與噴淋結(jié)構(gòu)相配合,均勻電鍍槽內(nèi)電鍍液的溫度,提高電鍍槽內(nèi)電鍍液的溫度一致性,進(jìn)一步提升電鍍品質(zhì)。
1.一種電鍍設(shè)備,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,通過所述鼓泡結(jié)構(gòu)(4)的氣態(tài)介質(zhì)為氮?dú)饣驂嚎s空氣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,連接結(jié)構(gòu)(2)包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,還包括:噴淋結(jié)構(gòu)(5),固定在所述電鍍槽(101)內(nèi)且浸入到電鍍液中;所述噴淋結(jié)構(gòu)(5)包括:
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,所述噴淋結(jié)構(gòu)(5)設(shè)置為兩組,兩組所述噴淋結(jié)構(gòu)(5)相互平行且間隔設(shè)置;兩組所述噴淋結(jié)構(gòu)(5)中所述噴淋管(502)的所述噴淋孔(5021)相對設(shè)置,兩組所述噴淋管(502)之間適于放置待鍍工件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,還包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項(xiàng)所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,還包括:安裝在所述箱體(1)上的調(diào)節(jié)組件(8),所述調(diào)節(jié)組件(8)適于帶動(dòng)待鍍工件在電鍍液中運(yùn)動(dòng);所述調(diào)節(jié)組件(8)包括:
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,所述調(diào)節(jié)組件(8)還包括:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,還包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項(xiàng)所述的電鍍設(shè)備,其特征在于,還包括: